ＪＵＮ阻害剤
【課題】アポトーシス及び／又は炎症に関連する神経変性疾患の予防及び／又は治療において有効な新規化合物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で示される新規な化合物の提供。
（但し、Ｒ１は任意に置換された炭素環又はヘテロ環基であり、Ｒ２は任意に置換された５若しくは６員のヘテロ環基又は任意に置換された６員の炭素環基であり、Ｅは水素、ハロゲン、シアノ、Ｃ１−６アルコキシ又はＣ１−６アルキルであり、Ｇは水素、ハロゲン、シアノ、Ｃ１−６アルコキシ又はＣ１−６アルキルであり、Ｌは水素、ハロゲン、シアノ、Ｃ１−６アルコキシ又はＣ１−６アルキルである。）
【解決手段】式（Ｉ）で示される新規な化合物の提供。
（但し、Ｒ１は任意に置換された炭素環又はヘテロ環基であり、Ｒ２は任意に置換された５若しくは６員のヘテロ環基又は任意に置換された６員の炭素環基であり、Ｅは水素、ハロゲン、シアノ、Ｃ１−６アルコキシ又はＣ１−６アルキルであり、Ｇは水素、ハロゲン、シアノ、Ｃ１−６アルコキシ又はＣ１−６アルキルであり、Ｌは水素、ハロゲン、シアノ、Ｃ１−６アルコキシ又はＣ１−６アルキルである。）
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）パラジウム触媒の存在下における式（ＩＩ）の化合物とスタンナンR1-Sn(R32)3との反応、又はｂ）適切なパラジウム触媒の存在下における式（ＩＩ）の化合物とホウ酸若しくはエステルR1-B(OR33)2との反応、又はｃ）パラジウム触媒の存在下における式（ＩＩ）の化合物とシランR1-Si(R34)3との反応を含む、式（ＩＩＩ）の化合物の製造方法。
【化２０】
ここで、R1は任意に置換された炭素環又はヘテロ環基であり；
R2は任意に置換された５若しくは６員のヘテロ環基又は任意に置換された６員の炭素環基であり、Eは水素、ハロゲン、シアノ、C1-6アルコキシ又はC1-6アルキルであり、Gは水素、ハロゲン、シアノ、C1-6アルコキシ又はC1-6アルキルであり、そしてLは水素、ハロゲン、シアノ、C1-6アルコキシ又はC1-6アルキルであり；
R40は、アミノ保護基であり、Xは、F、Cl、Br、I又はCF3SO3であり、好ましくはI又はBrであり；
R32は、個々独立してC1-6アルキルであり；
R33は、個々独立して水素又はC1-6アルキルであるか、又は２つの基R33は一緒になってホウ素及び酸素原子を有する５、６若しくは７員環を任意に形成し、ここで、前記環は、１つ以上のC1-6アルキル基で任意に置換されており、
且つR34は、個々独立してC1-6アルキル、F、OHである。
【請求項２】
前記触媒が、(PPh3)2PdCl2、(PPh3)4Pd、Pd(OAc)2、[PdCl(η3-C3H5]2、Pd2(dba)3、Pd
(dba)2 (dba=ジベンジリデンアセトン）、Pd/P(t-Bu)3である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
以下のピロール窒素の保護を含む、式（ＩＩ）の化合物の製造方法。
【化２１】
ここで、R2、E、G、L、R40及びXは、請求項１において定義した通りである。
【請求項４】
式（ＩＩ）の化合物。
【化２２】
ここで、R2、E、G、L、R40及びXは、請求項１において定義した通りである。
【請求項５】
式（Ｖ）の化合物の脱シリル化を含む、式（ＩＶ）の化合物の製造方法。
【化２３】
ここで、R2、E、G、L、X及びR34は、請求項１において定義した通りである。
【請求項６】
式（ＩＶ）の化合物。
【化２４】
ここで、R2、E、G、L、X及びR34は、請求項１において定義した通りである。
【請求項７】
ａ）パラジウム触媒の存在下における式（ＩＶ）の化合物とスタンナンR1-Sn(R32)3との反応、又はｂ）適切なパラジウム触媒の存在下における式（ＩＶ）の化合物とホウ酸若しくはエステルR1-B(OR33)2との反応、又はｃ）パラジウム触媒の存在下における式（ＩＶ）の化合物とシランR1-Si(R34)3との反応を含む、式（Ｉ）の化合物の製造方法。
【化２５】
ここで、R1、R2、E、G及びLは、請求項１において定義した通りであり、
Xは、F、Cl、Br、I又はCF3SO3であり、
且つR32は、個々独立してC1-6アルキルであり；
R33は、個々独立して水素又はC1-6アルキルであるか、又は２つの基R33は一緒になってホウ素及び酸素原子を有する５、６若しくは７員環を任意に形成し、ここで、前記環は、１つ以上のC1-6アルキル基で任意に置換されており、好ましくはR33は水素であるか、又は両R33基は基C(CH3)2-C(CH3)2-を形成し；
R34は、個々独立してC1-6アルキル、F、OHである。
【請求項８】
前記触媒が、(PPh3)2PdCl2、(PPh3)4Pd、Pd(OAc)2、[PdCl(η3-C3H5]2、Pd2(dba)3、Pd
(dba)2 (dba=ジベンジリデンアセトン）、Pd/P(t-Bu)3である、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
式（Ｖ）の化合物。
【化２６】
ここで、R2、G、L、X及びR34は、請求項１において定義した通りである。
【請求項１０】
式（ＶＩ）のアセチレンとヨードアミノピリジン（ＶＩＩ）との反応を含む、式（Ｖ）の化合物の製造方法。
【化２７】
ここで、R2、G、L、X及びR34は、請求項１において定義した通りである。
【請求項１１】
適切なパラジウム触媒の存在下における、R1-Halと、ａ）ホウ酸若しくはエステル（Ｘ）、又はｂ）スタンナン（ＸＩ）、又はｃ）シラン（ＸＩＩ）との反応を含む、式（ＩＩＩ）の化合物の製造方法。
【化２８】
ここで、R1、R2、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
Halは、I、Br、Cl、F又はCF3SO3であり、
R32、R33及びR34は、請求項１において定義した通りである。
【請求項１２】
前記触媒が、(PPh3)2PdCl2、(PPh3)4Pd、Pd(OAc)2、[PdCl(η3-C3H5]2、Pd2(dba)3、Pd
(dba)2 (dba=ジベンジリデンアセトン）、Pd/P(t-Bu)3である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
式（Ｘ）の化合物。
【化２９】
ここで、R2、E、G、L、R40及びR33は、請求項１において定義した通りである。
【請求項１４】
式（ＸＩ）の化合物。
【化３０】
ここで、R2、E、G、L、R40及びR32は、請求項１において定義した通りである。
【請求項１５】
式（ＸＩＩ）の化合物。
【化３１】
ここで、R2、E、G、L、R40及びR34は、請求項１において定義した通りである。
【請求項１６】
適切なパラジウム触媒の存在下における、R1-Halと、ａ）ホウ酸若しくはエステル（Ｌ）、又はｂ）スタンナン（ＬＩ）、又はｃ）シラン（ＬＩＩ）との反応を含む、式（Ｉ）の化合物の製造方法。
【化３２】
ここで、R1、R2、E、G及びLは、請求項１において定義した通りであり、
Halは、I、Br、Cl、F又はCF3SO3であり、
R32、R33及びR34は、請求項１において定義した通りである。
【請求項１７】
前記触媒が、(PPh3)2PdCl2、(PPh3)4Pd、Pd(OAc)2、[PdCl(η3-C3H5]2、Pd2(dba)3、Pd
(dba)2 (dba=ジベンジリデンアセトン）、Pd/P(t-Bu)3である、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
式（Ｌ）の化合物。
【化３３】
ここで、R2、E、G、L及びR33は、請求項１において定義した通りである。
【請求項１９】
式（ＬＩ）の化合物。
【化３４】
ここで、R2、E、G、L及びR32は、請求項１において定義した通りである。
【請求項２０】
式（ＬＩＩ）の化合物。
【化３５】
ここで、R2、E、G、L及びR34は、請求項１において定義した通りである。
【請求項２１】
ａ）パラジウム触媒の存在下における式（ＸＩＩＩ）の化合物とスタンナンR2-Sn(R32)3との反応、又はｂ）適切なパラジウム触媒の存在下における式（ＸＩＩＩ）の化合物とホウ酸若しくはエステルR2-B(OR33)2との反応、又はｃ）パラジウム触媒の存在下における式（ＸＩＩＩ）の化合物とシランR2-Si(R34)3との反応を含む、式（ＩＩＩ）の中間体の製造方法。
【化３６】
ここで、R1、R2、E、G、L、R40、R32、R33及びR34は、請求項１において定義した通りであり、
X2は、F、Cl、Br、I又はCF3SO3である。
【請求項２２】
前記触媒が、(PPh3)2PdCl2、(PPh3)4Pd、Pd(OAc)2、[PdCl(η3-C3H5]2、Pd2(dba)3、Pd
(dba)2 (dba=ジベンジリデンアセトン）、Pd/P(t-Bu)3である、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
式（ＸＩＩＩ）の化合物。
【化３７】
ここで、R1、E、G及びLは、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項２１において定義した通りであり、
R40は、R40がSi(R31)3であり且つR1が５員のヘテロ環であり、少なくとも１つのR31がC1-6アルキルではないという条件付で、請求項１において定義されたアミノ保護基である。
【請求項２４】
適切なパラジウム触媒の存在下における、R2-Halと、ａ）ホウ酸若しくはエステル（ＸＩＶ）、又はｂ）スタンナン（ＸＶ）、又はｃ）シラン（ＸＶＩ）との反応を含む、式（ＩＩＩ）の化合物の製造方法。
【化３８】
ここで、R1、R2、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
Halは、I、Br、Cl、F又はCF3SO3であり、
R32、R33及びR34は、請求項１において定義した通りである。
【請求項２５】
前記触媒が、(PPh3)2PdCl2、(PPh3)4Pd、Pd(OAc)2、[PdCl(η3-C3H5]2、Pd2(dba)3、Pd
(dba)2 (dba=ジベンジリデンアセトン）、Pd/P(t-Bu)3である、請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
式（ＸＩＶ）の化合物。
【化３９】
ここで、R1、E、G、L、R40及びR33は、請求項１において定義した通りである。
【請求項２７】
式（ＸＶ）の化合物。
【化４０】
ここで、R1、E、G、L、R40及びR32は、請求項１において定義した通りである。
【請求項２８】
式（ＸＶＩ）の化合物。
【化４１】
ここで、R1、E、G、L、R40及びR34は、請求項１において定義した通りである。
【請求項２９】
一般式（ＸＶＩＩ）の化合物に基R40を付加することによる、式（ＸＩＩＩ）の化合物の製造方法。
【化４２】
ここで、R1、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項２１において定義した通りである。
【請求項３０】
式（ＸＶＩＩ）の化合物。
【化４３】
ここで、R1、E、G及びLは、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項２１において定義した通りである。
【請求項３１】
適切なパラジウム触媒の存在下における、R2-Halと、ａ）ホウ酸若しくはエステル（ＬＩＶ）、又はｂ）スタンナン（ＬＶ）、又はｃ）シラン（ＬＶＩ）との反応を含む、式（Ｉ）の化合物の製造方法。
【化４４】
ここで、R1、R2、E、G及びLは、請求項１において定義した通りであり、
Halは、I、Br、Cl、F又はCF3SO3であり、
R32、R33及びR34は、請求項１において定義した通りである。
【請求項３２】
前記触媒が、(PPh3)2PdCl2、(PPh3)4Pd、Pd(OAc)2、[PdCl(η3-C3H5]2、Pd2(dba)3、Pd
(dba)2 (dba=ジベンジリデンアセトン）、Pd/P(t-Bu)3である、請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】
式（ＬＩＶ）の化合物。
【化４５】
ここで、R1、E、G、L及びR33は、請求項１において定義した通りである。
【請求項３４】
式（ＬＶ）の化合物。
【化４６】
ここで、R1、E、G、L及びR32は、請求項１において定義した通りである。
【請求項３５】
式（ＬＶＩ）の化合物。
【化４７】
ここで、R1、E、G、L及びR34は、請求項１において定義した通りである。
【請求項３６】
一般式（ＸＶＩＩＩ）の化合物に基X2を付加することによる、式（ＸＶＩＩ）の化合物の製造方法。
【化４８】
ここで、R1、E、G及びLは、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項２１において定義した通りである。
【請求項３７】
一般式（ＸＩＸ）の化合物に基X2を付加することによる、式（ＸＩＩＩ）の化合物の製造方法。
【化４９】
ここで、R1、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項２１において定義した通りである。
【請求項３８】
式（ＸＩＸ）の化合物。
【化５０】
ここで、R1、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りである。
【請求項３９】
アルデヒド（ＸＸ）とＴＯＳＭＩＣ型試薬（ＸＸＩ）との反応による、４−置換オキサゾール環を含有する式（ＩＩＩａ）の化合物の製造方法。
【化５１】
ここで、R36は、X又はR1であり、
R1、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
R37は、水素、C1-6アルキルであり、
R38は、C6-12アリールである。
【請求項４０】
アルデヒド（ＸＸ）と試薬（ＸＸＩＩ）との反応による、２−置換オキサゾール環を含有する式（ＩＩＩｂ）の化合物の製造方法。
【化５２】
ここで、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
R36及びR38は、請求項３９において定義した通りであり、
R39は、水素、C1-12アルキル、C2-12アルケニル、C2-12アルキニル、ハロアルキル、炭素環、ヘテロ環、(CH2)nOR3、(CH2)nNR32、OR3、SR3、NO2、CN、NR32、NR3COR3、NR3CONR32、NR3COR3、NR3CO2R3、CO2R3、COR3、CONR32、S(O)2R3、SONR32、S(O)R3、SO2NR32、又はNR3S(O)2R3であり、前記C1-12アルキルは、任意に-O-、-N(R3)-、-S-、-S(O)-及び-S(O2)-から選択される１つ以上の挿入基を含み、
R3は、請求項１において定義した通りであり、
R41は、OR42又はSR42であり、
R42は、C1-6アルキルである。
【請求項４１】
イミノエステル（ＸＸＩＩＩ）とギ酸ヒドラジドとの反応による、式（ＩＩＩｃ）の化合物の製造方法。
【化５３】
ここで、R2、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
R43は、C1-6アルキルであり、
X3は、F、Cl、Br、I、HSO4-、又はCF3SO3-である。
【請求項４２】
式（ＸＸＩＩＩ）の化合物。
【化５４】
ここで、R2、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
R43及びX3は、請求項４１において定義した通りである。
【請求項４３】
無機酸HX3の存在下におけるニトリル（ＸＸＩＶ）とアルコールR43OHとの反応による、式（ＸＸＩＩＩ）のイミノエステルの製造方法。
【化５５】
ここで、R2、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
R43及びX3は、請求項４１において定義した通りである。
【請求項４４】
式（ＸＸＩＶ）の化合物。
【化５６】
ここで、R2、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りである。
【請求項４５】
ａ）パラジウム触媒の存在下における式（ＸＸＶ）の化合物とスタンナンR2-Sn(R32)3との反応、又はｂ）適切なパラジウム触媒の存在下における式（ＸＸＶ）の化合物とホウ酸若しくはエステルR2-B(OR33)2との反応、又はｃ）パラジウム触媒の存在下における式（ＸＸＶ）の化合物とシランR2-Si(R34)3との反応を含む、式（ＸＸＩＶ）のニトリルの製造方法。
【化５７】
ここで、R2、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項２１において定義した通りであり、
R32、R33及びR34は、請求項１において定義した通りである。
【請求項４６】
前記触媒が、(PPh3)2PdCl2、(PPh3)4Pd、Pd(OAc)2、[PdCl(η3-C3H5]2、Pd2(dba)3、Pd
(dba)2 (dba=ジベンジリデンアセトン）、Pd/P(t-Bu)3である、請求項４５に記載の方法。
【請求項４７】
式（ＸＸＶ）の化合物。
【化５８】
ここで、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項２１において定義した通りである。
【請求項４８】
化合物（ＸＸＶＩ）中のピロール窒素の保護を含む、式（ＸＸＶ）の化合物の製造方法。
【化５９】
ここで、E、G及びLは、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項２１において定義した通りであり、
R40は、請求項１において定義した通りである。
【請求項４９】
式（ＸＸＶＩ）の化合物。
【化６０】
ここで、E、G及びLは、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項２１において定義した通りである。
【請求項５０】
1H-ピロロ[2,3-b]ピリジン-5-カルボニトリル（ＸＸＶＩＩ）への基X2の導入による、式（ＸＸＶＩ）の化合物の製造方法。
【化６１】
ここで、E、G及びLは、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項２１において定義した通りである。
【請求項５１】
式（ＸＸＶＩＩ）の化合物への基X2の導入による、式（ＸＸＶ）の化合物の製造方法。
【化６２】
ここで、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項２１において定義した通りである。
【請求項５２】
式（ＸＸＶＩＩ）の化合物。
【化６３】
ここで、E、G及びLは、請求項１において定義した通りである。
【請求項５３】
式（ＸＸＶＩＩＩ）の化合物。
【化６４】
ここで、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りである。
【請求項５４】
Pd(PPh3)4などの適切なパラジウム触媒の存在下における5-ブロモ-1H-ピロロ[2,3-b]ピリジンとZn(CN)2との反応を含む、1H-ピロロ[2,3-b]ピリジン-5-カルボニトリル（ＸＸＶＩＩａ）の製造方法。
【化６５】
【請求項５５】
イミノエステル（ＸＸＩＸ）とギ酸ヒドラジドとの反応による、トリアゾール環を含有する式（ＩＩａ）の化合物の製造方法。
【化６６】
ここで、E、G、L、X及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
R43及びX3は、請求項４１において定義した通りである。
【請求項５６】
式（ＸＸＩＸ）の化合物。
【化６７】
ここで、E、G、L、X及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
R43及びX3は、請求項４１において定義した通りである。
【請求項５７】
無機酸HX3の存在下におけるニトリル（ＸＸＸ）とアルコールR43OHとの反応による、式（ＸＸＩＸ）のイミノエステルの製造方法。
【化６８】
ここで、E、G、L、X及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
R43及びX3は、請求項４１において定義した通りである。
【請求項５８】
ａ）パラジウム触媒の存在下における式（ＸＸＸＩ）の化合物とスタンナンR2-Sn(R32)3との反応、又はｂ）適切なパラジウム触媒の存在下における式（ＸＸＸＩ）の化合物とホウ酸若しくはエステルR2-B(OR33)2との反応を含む、式（ＸＩＩ）のシリコン誘導体の製造方法。
【化６９】
ここで、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項４１において定義した通りであり、
R32、R33及びR34は、請求項１において定義した通りである。
【請求項５９】
前記触媒が、(PPh3)2PdCl2、(PPh3)4Pd、Pd(OAc)2、[PdCl(η3-C3H5]2、Pd2(dba)3、Pd
(dba)2 (dba=ジベンジリデンアセトン）、Pd/P(t-Bu)3である、請求項５８に記載の方法
。
【請求項６０】
式（ＸＸＸＩ）の化合物。
【化７０】
ここで、E、G、L、R40及びR34は、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項４１において定義した通りである。
【請求項６１】
化合物（ＸＸＸＩＩ）中のピロール窒素の保護を含む、式（ＸＸＸＩ）の化合物の製造方法。
【化７１】
ここで、E、G及びLは、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項４１において定義した通りであり、
R34及びR40は、請求項１において定義した通りである。
【請求項６２】
式（ＸＸＸＩＩ）の化合物。
【化７２】
ここで、E、G、L及びR34は、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項４１において定義した通りである。
【請求項６３】
シリコン誘導体（ＸＸＸＩＩＩ）への基X2の導入による、式（ＸＸＸＩＩ）の化合物の製造方法。
【化７３】
ここで、E、G及びLは、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項４１において定義した通りであり、
R34は、請求項１において定義した通りである。
【請求項６４】
式（ＸＸＸＩＶ）の化合物への基X2の導入による、式（ＸＸＸＩ）の化合物の製造方法。
【化７４】
ここで、E、G、L、R40及びR34は、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項４１において定義した通りである。
【請求項６５】
ａ）パラジウム触媒の存在下における式（ＸＸＸＶ）の化合物とスタンナンR2-Sn(R32)3との反応、又はｂ）適切なパラジウム触媒の存在下における式（ＸＸＸＶ）の化合物とホウ酸若しくはエステルR2-B(OR33)2との反応、又はｃ）パラジウム触媒の存在下における式（ＸＸＸＶ）の化合物とシランR2-Si(R34)3との反応を含む、式（ＩＩｂ）の中間体の製造方法。
【化７５】
ここで、E、G、L、R2及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項４１において定義した通りであり、
R32、R33及びR34は、請求項１において定義した通りである。
【請求項６６】
式（ＸＸＸＶ）の化合物。
【化７６】
ここで、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項４１において定義した通りである。
【請求項６７】
化合物（ＸＸＸＶＩ）中のピロール窒素の保護を含む、式（ＸＸＸＶ）の化合物の製造方法。
【化７７】
ここで、E、G及びLは、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項４１において定義した通りであり、
R40は、請求項１において定義した通りである。
【請求項６８】
式（ＸＸＸＶＩ）の化合物。
【化７８】
ここで、E、G及びLは、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項４１において定義した通りである。
【請求項６９】
5-ブロモ-1H-ピロロ[2,3-b]ピリジンへの基X2の導入による、式（ＸＸＸＶＩ）の化合物の製造方法。
【化７９】
ここで、X2は、請求項４１において定義した通りである。
【請求項７０】
式（ＸＸＸＶＩＩ）の化合物への基X2の導入による、式（ＸＸＸＶ）の化合物の製造方法。
【化８０】
ここで、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項４１において定義した通りである。
【請求項７１】
以下から選択される請求項４、６、９、１３、１４、１５、１８、１９、２０、２３、２６、２７、２８、３０、３３、３４、３５、３８、４２、４４、４７、４９、５２、５３、５６、６０、６２、６６又は６８の何れか１項に記載の化合物。
【化８１】
【化８２】
【化８３】
【化８４】
【化８５】
【化８６】
【化８７】
【化８８】
【化８９】
【請求項７２】
製薬的に許容し得る担体、希釈剤又は賦形剤と組み合わせられた、請求項１に記載の化合物を含んで成る組成物。
【請求項７３】
１つ以上の他の作用剤をさらに含む、請求項７２に記載の組成物。
【請求項１】
ａ）パラジウム触媒の存在下における式（ＩＩ）の化合物とスタンナンR1-Sn(R32)3との反応、又はｂ）適切なパラジウム触媒の存在下における式（ＩＩ）の化合物とホウ酸若しくはエステルR1-B(OR33)2との反応、又はｃ）パラジウム触媒の存在下における式（ＩＩ）の化合物とシランR1-Si(R34)3との反応を含む、式（ＩＩＩ）の化合物の製造方法。
【化２０】
ここで、R1は任意に置換された炭素環又はヘテロ環基であり；
R2は任意に置換された５若しくは６員のヘテロ環基又は任意に置換された６員の炭素環基であり、Eは水素、ハロゲン、シアノ、C1-6アルコキシ又はC1-6アルキルであり、Gは水素、ハロゲン、シアノ、C1-6アルコキシ又はC1-6アルキルであり、そしてLは水素、ハロゲン、シアノ、C1-6アルコキシ又はC1-6アルキルであり；
R40は、アミノ保護基であり、Xは、F、Cl、Br、I又はCF3SO3であり、好ましくはI又はBrであり；
R32は、個々独立してC1-6アルキルであり；
R33は、個々独立して水素又はC1-6アルキルであるか、又は２つの基R33は一緒になってホウ素及び酸素原子を有する５、６若しくは７員環を任意に形成し、ここで、前記環は、１つ以上のC1-6アルキル基で任意に置換されており、
且つR34は、個々独立してC1-6アルキル、F、OHである。
【請求項２】
前記触媒が、(PPh3)2PdCl2、(PPh3)4Pd、Pd(OAc)2、[PdCl(η3-C3H5]2、Pd2(dba)3、Pd
(dba)2 (dba=ジベンジリデンアセトン）、Pd/P(t-Bu)3である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
以下のピロール窒素の保護を含む、式（ＩＩ）の化合物の製造方法。
【化２１】
ここで、R2、E、G、L、R40及びXは、請求項１において定義した通りである。
【請求項４】
式（ＩＩ）の化合物。
【化２２】
ここで、R2、E、G、L、R40及びXは、請求項１において定義した通りである。
【請求項５】
式（Ｖ）の化合物の脱シリル化を含む、式（ＩＶ）の化合物の製造方法。
【化２３】
ここで、R2、E、G、L、X及びR34は、請求項１において定義した通りである。
【請求項６】
式（ＩＶ）の化合物。
【化２４】
ここで、R2、E、G、L、X及びR34は、請求項１において定義した通りである。
【請求項７】
ａ）パラジウム触媒の存在下における式（ＩＶ）の化合物とスタンナンR1-Sn(R32)3との反応、又はｂ）適切なパラジウム触媒の存在下における式（ＩＶ）の化合物とホウ酸若しくはエステルR1-B(OR33)2との反応、又はｃ）パラジウム触媒の存在下における式（ＩＶ）の化合物とシランR1-Si(R34)3との反応を含む、式（Ｉ）の化合物の製造方法。
【化２５】
ここで、R1、R2、E、G及びLは、請求項１において定義した通りであり、
Xは、F、Cl、Br、I又はCF3SO3であり、
且つR32は、個々独立してC1-6アルキルであり；
R33は、個々独立して水素又はC1-6アルキルであるか、又は２つの基R33は一緒になってホウ素及び酸素原子を有する５、６若しくは７員環を任意に形成し、ここで、前記環は、１つ以上のC1-6アルキル基で任意に置換されており、好ましくはR33は水素であるか、又は両R33基は基C(CH3)2-C(CH3)2-を形成し；
R34は、個々独立してC1-6アルキル、F、OHである。
【請求項８】
前記触媒が、(PPh3)2PdCl2、(PPh3)4Pd、Pd(OAc)2、[PdCl(η3-C3H5]2、Pd2(dba)3、Pd
(dba)2 (dba=ジベンジリデンアセトン）、Pd/P(t-Bu)3である、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
式（Ｖ）の化合物。
【化２６】
ここで、R2、G、L、X及びR34は、請求項１において定義した通りである。
【請求項１０】
式（ＶＩ）のアセチレンとヨードアミノピリジン（ＶＩＩ）との反応を含む、式（Ｖ）の化合物の製造方法。
【化２７】
ここで、R2、G、L、X及びR34は、請求項１において定義した通りである。
【請求項１１】
適切なパラジウム触媒の存在下における、R1-Halと、ａ）ホウ酸若しくはエステル（Ｘ）、又はｂ）スタンナン（ＸＩ）、又はｃ）シラン（ＸＩＩ）との反応を含む、式（ＩＩＩ）の化合物の製造方法。
【化２８】
ここで、R1、R2、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
Halは、I、Br、Cl、F又はCF3SO3であり、
R32、R33及びR34は、請求項１において定義した通りである。
【請求項１２】
前記触媒が、(PPh3)2PdCl2、(PPh3)4Pd、Pd(OAc)2、[PdCl(η3-C3H5]2、Pd2(dba)3、Pd
(dba)2 (dba=ジベンジリデンアセトン）、Pd/P(t-Bu)3である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
式（Ｘ）の化合物。
【化２９】
ここで、R2、E、G、L、R40及びR33は、請求項１において定義した通りである。
【請求項１４】
式（ＸＩ）の化合物。
【化３０】
ここで、R2、E、G、L、R40及びR32は、請求項１において定義した通りである。
【請求項１５】
式（ＸＩＩ）の化合物。
【化３１】
ここで、R2、E、G、L、R40及びR34は、請求項１において定義した通りである。
【請求項１６】
適切なパラジウム触媒の存在下における、R1-Halと、ａ）ホウ酸若しくはエステル（Ｌ）、又はｂ）スタンナン（ＬＩ）、又はｃ）シラン（ＬＩＩ）との反応を含む、式（Ｉ）の化合物の製造方法。
【化３２】
ここで、R1、R2、E、G及びLは、請求項１において定義した通りであり、
Halは、I、Br、Cl、F又はCF3SO3であり、
R32、R33及びR34は、請求項１において定義した通りである。
【請求項１７】
前記触媒が、(PPh3)2PdCl2、(PPh3)4Pd、Pd(OAc)2、[PdCl(η3-C3H5]2、Pd2(dba)3、Pd
(dba)2 (dba=ジベンジリデンアセトン）、Pd/P(t-Bu)3である、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
式（Ｌ）の化合物。
【化３３】
ここで、R2、E、G、L及びR33は、請求項１において定義した通りである。
【請求項１９】
式（ＬＩ）の化合物。
【化３４】
ここで、R2、E、G、L及びR32は、請求項１において定義した通りである。
【請求項２０】
式（ＬＩＩ）の化合物。
【化３５】
ここで、R2、E、G、L及びR34は、請求項１において定義した通りである。
【請求項２１】
ａ）パラジウム触媒の存在下における式（ＸＩＩＩ）の化合物とスタンナンR2-Sn(R32)3との反応、又はｂ）適切なパラジウム触媒の存在下における式（ＸＩＩＩ）の化合物とホウ酸若しくはエステルR2-B(OR33)2との反応、又はｃ）パラジウム触媒の存在下における式（ＸＩＩＩ）の化合物とシランR2-Si(R34)3との反応を含む、式（ＩＩＩ）の中間体の製造方法。
【化３６】
ここで、R1、R2、E、G、L、R40、R32、R33及びR34は、請求項１において定義した通りであり、
X2は、F、Cl、Br、I又はCF3SO3である。
【請求項２２】
前記触媒が、(PPh3)2PdCl2、(PPh3)4Pd、Pd(OAc)2、[PdCl(η3-C3H5]2、Pd2(dba)3、Pd
(dba)2 (dba=ジベンジリデンアセトン）、Pd/P(t-Bu)3である、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
式（ＸＩＩＩ）の化合物。
【化３７】
ここで、R1、E、G及びLは、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項２１において定義した通りであり、
R40は、R40がSi(R31)3であり且つR1が５員のヘテロ環であり、少なくとも１つのR31がC1-6アルキルではないという条件付で、請求項１において定義されたアミノ保護基である。
【請求項２４】
適切なパラジウム触媒の存在下における、R2-Halと、ａ）ホウ酸若しくはエステル（ＸＩＶ）、又はｂ）スタンナン（ＸＶ）、又はｃ）シラン（ＸＶＩ）との反応を含む、式（ＩＩＩ）の化合物の製造方法。
【化３８】
ここで、R1、R2、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
Halは、I、Br、Cl、F又はCF3SO3であり、
R32、R33及びR34は、請求項１において定義した通りである。
【請求項２５】
前記触媒が、(PPh3)2PdCl2、(PPh3)4Pd、Pd(OAc)2、[PdCl(η3-C3H5]2、Pd2(dba)3、Pd
(dba)2 (dba=ジベンジリデンアセトン）、Pd/P(t-Bu)3である、請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
式（ＸＩＶ）の化合物。
【化３９】
ここで、R1、E、G、L、R40及びR33は、請求項１において定義した通りである。
【請求項２７】
式（ＸＶ）の化合物。
【化４０】
ここで、R1、E、G、L、R40及びR32は、請求項１において定義した通りである。
【請求項２８】
式（ＸＶＩ）の化合物。
【化４１】
ここで、R1、E、G、L、R40及びR34は、請求項１において定義した通りである。
【請求項２９】
一般式（ＸＶＩＩ）の化合物に基R40を付加することによる、式（ＸＩＩＩ）の化合物の製造方法。
【化４２】
ここで、R1、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項２１において定義した通りである。
【請求項３０】
式（ＸＶＩＩ）の化合物。
【化４３】
ここで、R1、E、G及びLは、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項２１において定義した通りである。
【請求項３１】
適切なパラジウム触媒の存在下における、R2-Halと、ａ）ホウ酸若しくはエステル（ＬＩＶ）、又はｂ）スタンナン（ＬＶ）、又はｃ）シラン（ＬＶＩ）との反応を含む、式（Ｉ）の化合物の製造方法。
【化４４】
ここで、R1、R2、E、G及びLは、請求項１において定義した通りであり、
Halは、I、Br、Cl、F又はCF3SO3であり、
R32、R33及びR34は、請求項１において定義した通りである。
【請求項３２】
前記触媒が、(PPh3)2PdCl2、(PPh3)4Pd、Pd(OAc)2、[PdCl(η3-C3H5]2、Pd2(dba)3、Pd
(dba)2 (dba=ジベンジリデンアセトン）、Pd/P(t-Bu)3である、請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】
式（ＬＩＶ）の化合物。
【化４５】
ここで、R1、E、G、L及びR33は、請求項１において定義した通りである。
【請求項３４】
式（ＬＶ）の化合物。
【化４６】
ここで、R1、E、G、L及びR32は、請求項１において定義した通りである。
【請求項３５】
式（ＬＶＩ）の化合物。
【化４７】
ここで、R1、E、G、L及びR34は、請求項１において定義した通りである。
【請求項３６】
一般式（ＸＶＩＩＩ）の化合物に基X2を付加することによる、式（ＸＶＩＩ）の化合物の製造方法。
【化４８】
ここで、R1、E、G及びLは、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項２１において定義した通りである。
【請求項３７】
一般式（ＸＩＸ）の化合物に基X2を付加することによる、式（ＸＩＩＩ）の化合物の製造方法。
【化４９】
ここで、R1、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項２１において定義した通りである。
【請求項３８】
式（ＸＩＸ）の化合物。
【化５０】
ここで、R1、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りである。
【請求項３９】
アルデヒド（ＸＸ）とＴＯＳＭＩＣ型試薬（ＸＸＩ）との反応による、４−置換オキサゾール環を含有する式（ＩＩＩａ）の化合物の製造方法。
【化５１】
ここで、R36は、X又はR1であり、
R1、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
R37は、水素、C1-6アルキルであり、
R38は、C6-12アリールである。
【請求項４０】
アルデヒド（ＸＸ）と試薬（ＸＸＩＩ）との反応による、２−置換オキサゾール環を含有する式（ＩＩＩｂ）の化合物の製造方法。
【化５２】
ここで、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
R36及びR38は、請求項３９において定義した通りであり、
R39は、水素、C1-12アルキル、C2-12アルケニル、C2-12アルキニル、ハロアルキル、炭素環、ヘテロ環、(CH2)nOR3、(CH2)nNR32、OR3、SR3、NO2、CN、NR32、NR3COR3、NR3CONR32、NR3COR3、NR3CO2R3、CO2R3、COR3、CONR32、S(O)2R3、SONR32、S(O)R3、SO2NR32、又はNR3S(O)2R3であり、前記C1-12アルキルは、任意に-O-、-N(R3)-、-S-、-S(O)-及び-S(O2)-から選択される１つ以上の挿入基を含み、
R3は、請求項１において定義した通りであり、
R41は、OR42又はSR42であり、
R42は、C1-6アルキルである。
【請求項４１】
イミノエステル（ＸＸＩＩＩ）とギ酸ヒドラジドとの反応による、式（ＩＩＩｃ）の化合物の製造方法。
【化５３】
ここで、R2、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
R43は、C1-6アルキルであり、
X3は、F、Cl、Br、I、HSO4-、又はCF3SO3-である。
【請求項４２】
式（ＸＸＩＩＩ）の化合物。
【化５４】
ここで、R2、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
R43及びX3は、請求項４１において定義した通りである。
【請求項４３】
無機酸HX3の存在下におけるニトリル（ＸＸＩＶ）とアルコールR43OHとの反応による、式（ＸＸＩＩＩ）のイミノエステルの製造方法。
【化５５】
ここで、R2、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
R43及びX3は、請求項４１において定義した通りである。
【請求項４４】
式（ＸＸＩＶ）の化合物。
【化５６】
ここで、R2、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りである。
【請求項４５】
ａ）パラジウム触媒の存在下における式（ＸＸＶ）の化合物とスタンナンR2-Sn(R32)3との反応、又はｂ）適切なパラジウム触媒の存在下における式（ＸＸＶ）の化合物とホウ酸若しくはエステルR2-B(OR33)2との反応、又はｃ）パラジウム触媒の存在下における式（ＸＸＶ）の化合物とシランR2-Si(R34)3との反応を含む、式（ＸＸＩＶ）のニトリルの製造方法。
【化５７】
ここで、R2、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項２１において定義した通りであり、
R32、R33及びR34は、請求項１において定義した通りである。
【請求項４６】
前記触媒が、(PPh3)2PdCl2、(PPh3)4Pd、Pd(OAc)2、[PdCl(η3-C3H5]2、Pd2(dba)3、Pd
(dba)2 (dba=ジベンジリデンアセトン）、Pd/P(t-Bu)3である、請求項４５に記載の方法。
【請求項４７】
式（ＸＸＶ）の化合物。
【化５８】
ここで、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項２１において定義した通りである。
【請求項４８】
化合物（ＸＸＶＩ）中のピロール窒素の保護を含む、式（ＸＸＶ）の化合物の製造方法。
【化５９】
ここで、E、G及びLは、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項２１において定義した通りであり、
R40は、請求項１において定義した通りである。
【請求項４９】
式（ＸＸＶＩ）の化合物。
【化６０】
ここで、E、G及びLは、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項２１において定義した通りである。
【請求項５０】
1H-ピロロ[2,3-b]ピリジン-5-カルボニトリル（ＸＸＶＩＩ）への基X2の導入による、式（ＸＸＶＩ）の化合物の製造方法。
【化６１】
ここで、E、G及びLは、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項２１において定義した通りである。
【請求項５１】
式（ＸＸＶＩＩ）の化合物への基X2の導入による、式（ＸＸＶ）の化合物の製造方法。
【化６２】
ここで、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項２１において定義した通りである。
【請求項５２】
式（ＸＸＶＩＩ）の化合物。
【化６３】
ここで、E、G及びLは、請求項１において定義した通りである。
【請求項５３】
式（ＸＸＶＩＩＩ）の化合物。
【化６４】
ここで、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りである。
【請求項５４】
Pd(PPh3)4などの適切なパラジウム触媒の存在下における5-ブロモ-1H-ピロロ[2,3-b]ピリジンとZn(CN)2との反応を含む、1H-ピロロ[2,3-b]ピリジン-5-カルボニトリル（ＸＸＶＩＩａ）の製造方法。
【化６５】
【請求項５５】
イミノエステル（ＸＸＩＸ）とギ酸ヒドラジドとの反応による、トリアゾール環を含有する式（ＩＩａ）の化合物の製造方法。
【化６６】
ここで、E、G、L、X及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
R43及びX3は、請求項４１において定義した通りである。
【請求項５６】
式（ＸＸＩＸ）の化合物。
【化６７】
ここで、E、G、L、X及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
R43及びX3は、請求項４１において定義した通りである。
【請求項５７】
無機酸HX3の存在下におけるニトリル（ＸＸＸ）とアルコールR43OHとの反応による、式（ＸＸＩＸ）のイミノエステルの製造方法。
【化６８】
ここで、E、G、L、X及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
R43及びX3は、請求項４１において定義した通りである。
【請求項５８】
ａ）パラジウム触媒の存在下における式（ＸＸＸＩ）の化合物とスタンナンR2-Sn(R32)3との反応、又はｂ）適切なパラジウム触媒の存在下における式（ＸＸＸＩ）の化合物とホウ酸若しくはエステルR2-B(OR33)2との反応を含む、式（ＸＩＩ）のシリコン誘導体の製造方法。
【化６９】
ここで、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項４１において定義した通りであり、
R32、R33及びR34は、請求項１において定義した通りである。
【請求項５９】
前記触媒が、(PPh3)2PdCl2、(PPh3)4Pd、Pd(OAc)2、[PdCl(η3-C3H5]2、Pd2(dba)3、Pd
(dba)2 (dba=ジベンジリデンアセトン）、Pd/P(t-Bu)3である、請求項５８に記載の方法
。
【請求項６０】
式（ＸＸＸＩ）の化合物。
【化７０】
ここで、E、G、L、R40及びR34は、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項４１において定義した通りである。
【請求項６１】
化合物（ＸＸＸＩＩ）中のピロール窒素の保護を含む、式（ＸＸＸＩ）の化合物の製造方法。
【化７１】
ここで、E、G及びLは、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項４１において定義した通りであり、
R34及びR40は、請求項１において定義した通りである。
【請求項６２】
式（ＸＸＸＩＩ）の化合物。
【化７２】
ここで、E、G、L及びR34は、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項４１において定義した通りである。
【請求項６３】
シリコン誘導体（ＸＸＸＩＩＩ）への基X2の導入による、式（ＸＸＸＩＩ）の化合物の製造方法。
【化７３】
ここで、E、G及びLは、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項４１において定義した通りであり、
R34は、請求項１において定義した通りである。
【請求項６４】
式（ＸＸＸＩＶ）の化合物への基X2の導入による、式（ＸＸＸＩ）の化合物の製造方法。
【化７４】
ここで、E、G、L、R40及びR34は、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項４１において定義した通りである。
【請求項６５】
ａ）パラジウム触媒の存在下における式（ＸＸＸＶ）の化合物とスタンナンR2-Sn(R32)3との反応、又はｂ）適切なパラジウム触媒の存在下における式（ＸＸＸＶ）の化合物とホウ酸若しくはエステルR2-B(OR33)2との反応、又はｃ）パラジウム触媒の存在下における式（ＸＸＸＶ）の化合物とシランR2-Si(R34)3との反応を含む、式（ＩＩｂ）の中間体の製造方法。
【化７５】
ここで、E、G、L、R2及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項４１において定義した通りであり、
R32、R33及びR34は、請求項１において定義した通りである。
【請求項６６】
式（ＸＸＸＶ）の化合物。
【化７６】
ここで、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項４１において定義した通りである。
【請求項６７】
化合物（ＸＸＸＶＩ）中のピロール窒素の保護を含む、式（ＸＸＸＶ）の化合物の製造方法。
【化７７】
ここで、E、G及びLは、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項４１において定義した通りであり、
R40は、請求項１において定義した通りである。
【請求項６８】
式（ＸＸＸＶＩ）の化合物。
【化７８】
ここで、E、G及びLは、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項４１において定義した通りである。
【請求項６９】
5-ブロモ-1H-ピロロ[2,3-b]ピリジンへの基X2の導入による、式（ＸＸＸＶＩ）の化合物の製造方法。
【化７９】
ここで、X2は、請求項４１において定義した通りである。
【請求項７０】
式（ＸＸＸＶＩＩ）の化合物への基X2の導入による、式（ＸＸＸＶ）の化合物の製造方法。
【化８０】
ここで、E、G、L及びR40は、請求項１において定義した通りであり、
X2は、請求項４１において定義した通りである。
【請求項７１】
以下から選択される請求項４、６、９、１３、１４、１５、１８、１９、２０、２３、２６、２７、２８、３０、３３、３４、３５、３８、４２、４４、４７、４９、５２、５３、５６、６０、６２、６６又は６８の何れか１項に記載の化合物。
【化８１】
【化８２】
【化８３】
【化８４】
【化８５】
【化８６】
【化８７】
【化８８】
【化８９】
【請求項７２】
製薬的に許容し得る担体、希釈剤又は賦形剤と組み合わせられた、請求項１に記載の化合物を含んで成る組成物。
【請求項７３】
１つ以上の他の作用剤をさらに含む、請求項７２に記載の組成物。
【公開番号】特開２００７−２３８６１２（Ｐ２００７−２３８６１２Ａ）
【公開日】平成１９年９月２０日（２００７．９．２０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−５３２６６（Ｐ２００７−５３２６６）
【出願日】平成１９年３月２日（２００７．３．２）
【分割の表示】特願２００６−５０５９２２（Ｐ２００６−５０５９２２）の分割
【原出願日】平成１６年３月５日（２００４．３．５）
【出願人】（００００００２１７）エーザイ株式会社 (102)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年９月２０日（２００７．９．２０）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年３月２日（２００７．３．２）
【分割の表示】特願２００６−５０５９２２（Ｐ２００６−５０５９２２）の分割
【原出願日】平成１６年３月５日（２００４．３．５）
【出願人】（００００００２１７）エーザイ株式会社 (102)
【Ｆターム（参考）】
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