コールドクルーシブル溶解炉の出湯用電磁ノズル装置
【課題】コールドクルーシブル溶解炉において、溶解した金属の溶湯を安定して出湯することのできる出湯用電磁ノズル装置を提供する。
【解決手段】コールドクルーシブル溶解炉１０のるつぼ底部１６に、出湯用ノズル２０とその外側のノズルコイル２２とから成る出湯用電磁ノズル装置１８を設ける。その出湯用電磁ノズル装置１８は、出湯用ノズル２０の出湯口径をＤとして、ノズルコイル２２の下端が出湯用ノズル２０の下端よりもＤ以上の上位置となる位置関係で出湯用ノズル２０の外側に配置しておき、溶湯の出湯時のノズルコイル２２による高周波誘導加熱にて生じる出湯用ノズル２０の下端の口部の磁束密度が５０ｍＴ以下となるようにしておく。
【解決手段】コールドクルーシブル溶解炉１０のるつぼ底部１６に、出湯用ノズル２０とその外側のノズルコイル２２とから成る出湯用電磁ノズル装置１８を設ける。その出湯用電磁ノズル装置１８は、出湯用ノズル２０の出湯口径をＤとして、ノズルコイル２２の下端が出湯用ノズル２０の下端よりもＤ以上の上位置となる位置関係で出湯用ノズル２０の外側に配置しておき、溶湯の出湯時のノズルコイル２２による高周波誘導加熱にて生じる出湯用ノズル２０の下端の口部の磁束密度が５０ｍＴ以下となるようにしておく。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は水冷のるつぼ内で原料金属を溶解用コイルによる高周波誘導加熱で半浮遊状態に溶解するコールドクルーシブル溶解炉の出湯用電磁ノズル装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
チタンを始めとする高融点で活性な金属の溶解炉として、従来コールドクルーシブル溶解炉が用いられている。
ここで従来用いられているコールドクルーシブル溶解炉は、周方向に複数分割された円弧状の水冷銅セグメントを絶縁材を介して周方向に互いに繋ぎ合わせて筒状の水冷のるつぼ（銅るつぼ）を構成し、そしてその外側に溶解用コイルを配置した形態のもので、るつぼ内部に装入した原料金属を溶解用コイルによる高周波誘導加熱により溶解する。
【０００３】
このとき、るつぼ内で溶解した金属は溶解用コイルによる電磁力の作用で、即ち磁気的な反発力（ローレンツ斥力）でるつぼの周壁部から離れ、中心部が上向きに盛り上がったドーム状の半浮遊状態となる（従ってこのコールドクルーシブル溶解炉はレビテーション溶解炉とも呼ばれる）。
このコールドクルーシブル溶解炉による溶解技術は未だ発展途上にある技術であり、現状ではるつぼ内で溶解した金属を銅るつぼ及び溶解用コイルごと傾動させて出湯する方法が一般に用いられている。
【０００４】
しかしながらこの出湯方法は、出湯歩留まりその他に様々な問題がある。
そこで図７に示すようにるつぼ底部に出湯用ノズル２００を設け、るつぼ内の溶湯をるつぼ底部から出湯用ノズル２００を通じて外部下方に出湯する方法が種々検討されている。
【０００５】
しかしながらこの出湯方法にもまた困難な問題が内在している。
コールドクルーシブル溶解炉を用いた溶解では、るつぼ内部の金属溶湯はるつぼ底部に接する部分が、るつぼ底部による冷却によって凝固金属（スカル）となり、金属の溶解中はその凝固スカルによって出湯用ノズルが閉塞された状態にある。
【０００６】
この状態からるつぼ内部の金属の溶湯を出湯用ノズル２００から出湯するため、従来の出湯用ノズル装置（電磁ノズル装置）では、出湯用ノズル２００を逆円錐台形状の上部の漏斗部２００-１と、その漏斗部２００-１に続いて下方に垂下する下部のストレート部２００-２とを有する形態となし、その漏斗部２００-１で凝固し出湯用ノズル２００を閉塞している凝固スカルを、出湯用ノズル２００の外側に配置したノズルコイル２０２による高周波誘導加熱にて溶解し、出湯用ノズル２００を開放状態として、るつぼ内部の溶湯を出湯用ノズル２００を通じて下方に出湯するようにしている。
【０００７】
しかしながら従来の出湯用電磁ノズル装置にあっては、出湯用ノズル２００自体もまた分割構造の水冷銅にて構成してあり、そのため出湯に際して溶湯が出湯用ノズル２００に触れることにより冷却され、出湯用ノズル２００を出たところに、即ち出湯用ノズル２００の下端の下側に凝固スカルｋが付着し且つ成長して、これが出湯用ノズル２００からの出湯流に乱れを生ぜしめ、安定した出湯が得られないといった問題が生じていた。
【０００８】
而してこのような出湯流の乱れが生じると、出湯用ノズル２００から流出した溶湯が散乱し、場合によっては下方に設置してある鋳型の内部に良好に入らなかったりする。また出湯用ノズル２００の下端部に生じた凝固スカルｋが成長することによって、遂には出湯用ノズル２００が閉塞されてしまうといったことが起こり得る。
【０００９】
出湯に際してこうした問題が生じると出湯を継続できなくなり、上記のような出湯流の乱れが生じ且つその出湯を停止せざるを得なくなってしまう。
こうした問題のため、現状では大容量のコールドクルーシブル溶解炉を用いた溶解は未だ実用化に到っていないのが実情である。
尚、出湯用ノズル２００への凝固スカルの付着の問題を解決することを目的とした出湯用電磁ノズル装置が幾つか提案されているが（例えば下記特許文献１，特許文献２）、未だ十分に上記の問題を解決できてはいない。
尚、更に他の先行技術として下記特許文献３に記載されたものがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００１−１８３０６７号公報
【特許文献２】特開２００６−１５３３６２号公報
【特許文献３】特開２００５−１４０４９１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は以上のような事情を背景とし、コールドクルーシブル溶解炉において、溶解した金属の溶湯を安定して出湯することのできる出湯用電磁ノズル装置を提供することを目的としてなされたものである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
而して請求項１の出湯用電磁ノズル装置は、水冷のるつぼの内部に装入した原料金属を該るつぼの外側に設けた溶解用コイルにて高周波誘導溶解し、該原料金属を該るつぼ内で半浮遊状態に溶解するコールドクルーシブル溶解炉のるつぼ底部に溶湯を出湯する出湯用ノズルを設けるとともに、該出湯用ノズルの外側にノズルコイルを設けて成り、該ノズルコイルにより該るつぼ底部で凝固した凝固金属を高周波誘導溶解して前記るつぼ内の溶湯を出湯するようになしたコールドクルーシブル溶解炉の出湯用電磁ノズル装置において、前記出湯用ノズルの出湯口径をＤとして、前記ノズルコイルを該出湯用ノズルに対し該ノズルコイルの下端が該出湯用ノズルの下端よりもＤ以上の上位置となる位置関係で該出湯用ノズルの外側に配置してあって、前記溶湯の出湯時の前記ノズルコイルによる高周波誘導加熱により生じる前記出湯用ノズルの下端の口部の磁束密度が５０ｍＴ以下となしてあり、前記出湯用ノズルの下端の口部から出た溶湯に対し、前記ノズルコイルが形成する磁場による外向きの引張力が抑制されるようになしてあることを特徴とする。
【発明の作用・効果】
【００１３】
以上のように請求項１のものは、ノズルコイルの下端が出湯用ノズルの下端よりも出湯口径Ｄ以上の上位置となる位置関係でノズルコイルを出湯用ノズルの外側に配置したものである。
本発明者らは、出湯用ノズルの下端部に凝固スカルが付着し且つ成長する現象を、るつぼ内の溶湯が出湯用ノズルを通過する際に溶湯の流れがそこで絞られるため、出湯用ノズルを出て圧力開放されたところで溶湯流が広がって一部の溶湯が出湯用ノズルの下端に凝固して付着し、それが成長するものであると考えていた。
【００１４】
しかしながら各種試験を行う中で、ノズルコイルに通電を行った状態で出湯を行った場合と、通電を停止した状態で出湯を行ったときとで、ノズル下端部への凝固スカルの付着の仕方が明らかに異なることを発見した。
具体的には、ノズルコイルを通電停止した状態で出湯を行ったところ、図８に示すように出湯用ノズルの下端からつらら状に垂れ下がるような形で凝固スカルｋ-１が生じたのに対し、ノズルコイルに通電を行った状態で出湯を行ったところ、出湯用ノズルの下端の口部から出た溶湯が激しく外向きに広がって、出湯用ノズルの下端で外向きに広がった形の凝固スカルｋ-２の生じる事実を見出した。
【００１５】
このことから、本発明者らは出湯用ノズルの下端部に付着し成長する凝固スカルが、ノズルコイルが電磁誘導作用にて出湯流を加熱する際に、そのノズルコイルの作る磁場が溶湯を外向きに引張ることが主たる原因で生じるものと考えた。
【００１６】
本発明はこのような知見に基づいてなされたものである。
即ち本発明者らは、ノズルコイルの作る磁場によって出湯用ノズルの下端の口部を出た溶湯が外向きに引張られるのであれば、ノズルコイルの下端位置を従来よりも上側に位置させておけば良いと考え、そこで適正な上下方向・配置位置を調べた結果、ノズルコイルをその下端が出湯用ノズルの下端よりもＤ以上上位置となるように配置しておくことで良好な結果の得られることが判明した。
【００１７】
かかる本発明は、るつぼ内の金属の溶湯を出湯するに際し、出湯流の乱れを効果的に抑制し得て、安定して出湯を行うことを可能とするものであり、大容量のコールドクルーシブル溶解炉を用いた溶解技術を実用化に向けて大きく前進させる意義を有するものである。
【００１８】
この請求項１において、出湯用ノズルを逆円錐台形状の上部の漏斗部と、漏斗部に続いて下方に垂下する下部のストレート部とを有するものとなし、そしてそのストレート部の上端を上限位置として、ノズルコイルの下端が上記Ｄ以上の位置と、この上限位置との間に位置するようにノズルコイルを配置しておくことができる。
【００１９】
出湯用ノズルにおける上部の漏斗部は、るつぼの内部で金属をレビテーション溶解したときに底部の凝固スカルにて閉鎖される部分であって、出湯開始時にその凝固スカルを加熱により溶かし、また出湯中その開口を維持するためにノズルコイルにて加熱を必要とする部分であり、一方においてこれに続く下部のストレート部は場合によってノズルコイルによる加熱を省略することが可能な部分である。
従って本発明では、極端な場合にはその漏斗部の外側だけにノズルコイルを配置し、ストレート部の外側についてはノズルコイルが無い状態としておくことも可能である。
【００２０】
本発明では、溶湯の出湯時に出湯用ノズルの下端の口部の磁束密度を５０ｍＴ以下、望ましくは２０ｍＴ以下となるように装置を構成しておくことができ、これにより出湯中に磁場の外向きの引張力によって出湯用ノズルの下端部に凝固スカルが付着し成長する現象を抑制ないし防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の一実施形態の出湯用電磁ノズル装置をコールドクルーシブル溶解炉とともに示した図である。
【図２】図１の要部拡大図である。
【図３】参考例の要部を示した図である。
【図４】他の参考例の要部を示した図である。
【図５】本発明の他の実施形態の要部を示した図である。
【図６】磁束密度の測定位置を示した図である。
【図７】従来の出湯用電磁ノズル装置の不具合の説明図である。
【図８】本発明の解決課題を具体的に示した説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
次に本発明の実施形態を図面に基づいて詳しく説明する。
図１において、１０はコールドクルーシブル溶解炉で、水冷の銅製のるつぼ１２と、その外側に配置された溶解用コイル１４とを有している。
るつぼ１２は周方向に複数分割された円弧状の水冷銅セグメントを絶縁材を介して円筒形状に繋ぎ合わせて構成してある。
１６は平板状をなするつぼ底部で水冷銅製である。
【００２３】
１８は出湯用電磁ノズル装置で、出湯用ノズル２０と、その外側に配置されたノズルコイル２２とを有している。
出湯用ノズル２０は、逆円錐台形状をなす上部の漏斗部２０-１と、この漏斗部２０-１に続いて下方に垂下する下部のストレート部２０-２とを有している。
この出湯用ノズル２０も、周方向に分割構造の水冷銅から成るもので、各セグメントを絶縁材を介して周方向に繋ぎ合わせて構成してある。
尚、２４はコールドクルーシブル溶解炉１０の下方に設置された鋳型であり、またＭはるつぼ１２内部で溶解された金属の溶湯を、Ｋはるつぼ１２への接触による冷却によって凝固した凝固スカルを表している。
【００２４】
このコールドクルーシブル溶解炉１０では、るつぼ１２内に原料金属を装入し、そして溶解用コイル１４に通電を行ってるつぼ１２内部の原料金属を高周波誘導加熱にて溶解する。
溶解した金属の溶湯Ｍは、溶解用コイル１４による電磁誘導に基づくローレンツ斥力によってるつぼ１２の壁部から離れ、るつぼ１２内で中心部が上向きに盛り上がったドーム状に半浮遊した状態となる。
そしてるつぼ底部１６に接して冷却された底部が凝固して凝固スカルＫを形成する。
このとき、凝固スカルＫは出湯用ノズル２０の上部の漏斗部２０-１の開口を閉塞した状態にある。
【００２５】
溶解用コイル１４による一定時間の溶解を行った後、るつぼ１２内部の溶湯Ｍを、出湯用電磁ノズル装置１８にて下方の鋳型２４内部に出湯する。
具体的には、ノズルコイル２２への通電を行って、出湯用ノズル２０の漏斗部２０-１の開口を閉鎖している凝固スカルＫを高周波誘導加熱により溶解し、閉塞状態にあった漏斗部２０-１を開口せしめる。
これにより、るつぼ１２内の金属の溶湯Ｍが、出湯用ノズル２０を通過して下方の鋳型２４へと出湯される。
【００２６】
この実施形態では、図２（Ｉ）に示しているように出湯用ノズル２０の出湯口径、詳しくはストレート部２０-２の下端の口部の口径をＤとして（ストレート部２０-２は他部も内径Ｄ）、ノズルコイル２２をその下端が出湯用ノズル２０の下端よりもＬ１（Ｌ１≧Ｄｍｍ）上位置となる位置関係で出湯用ノズル２０の外側に配置してある。
【００２７】
このようにした結果、本実施形態によればるつぼ１２内の金属の溶湯Ｍを出湯するに際し、出湯用ノズル２０の下端の口部から出た溶湯に対し、ノズルコイル２２が形成する磁場による外向きの引張力が抑制され、図２（II）に示しているように出湯用ノズル２０からの出湯流に乱れを生ぜしめず、安定した出湯を行うことが可能となる。
【００２８】
尚本実施形態では、ストレート部２０-２の上端を上限位置として、ノズルコイル２２の下端がその上限位置と上記Ｄだけ出湯用ノズル２０の下端より上側の位置との間に位置するようにノズルコイル２２を配置しておくことができる。
即ち場合によってノズルコイル２２を、漏斗部２０-１の部分にだけ配置しておくことも可能である。
【００２９】
次に図３は参考例を示したもので、この例はノズルコイル２２を上下にスライド可能となし、かかるノズルコイル２２を図３（Ｂ）（Ｉ）に示す位置（図３（Ｂ）（Ｉ）中Ｌ１≧Ｄ）を上位置として、その上位置と、ノズルコイル２２の下端が出湯用ノズル２０の下端よりもＬ２（Ｌ２≧（１／２）Ｄｍｍ）だけ下方に突き出した図３（Ｂ）（II）の下位置との間で上下に移動可能となした例である。
【００３０】
この例では、溶湯Ｍの出湯時にはノズルコイル２２を図３（Ｂ）（Ｉ）に示す上位置に位置させておき、その状態でノズルコイル２２による高周波誘導加熱を行う。
一方、出湯が終わったところでノズルコイル２２を図３（Ｂ）（II）に示す下位置までスライド下降させて、出湯後におけるノズルコイル２２による高周波誘導加熱を行う。
【００３１】
この場合、出湯停止時において最後の溶湯Ｍが出湯用ノズル２０を流れ落ちるときに凝固して、その凝固スカルＫが出湯用ノズル２０からぶら下がる状態となったとしても、出湯後の下降位置のノズルコイル２２による加熱によってこれを溶融させ、出湯用ノズル２０から除去することができる。
従って次のチャージの溶解操業を良好且つ円滑に行うことができる。
【００３２】
図４は他の参考例を示している。
この例は、ノズルコイル２２を上コイル２２-１と、下コイル２２-２とに上下に分割し、そして上コイル２２-１を図３（Ｂ）（Ｉ）に示す上位置に、また下コイル２２-２を、その下端が出湯用ノズル２０の下端からＬ２（Ｌ２≧（１／２）Ｄｍｍ）下方に突き出すように上コイル２２-１に並べて配置した例である。
この図４に示す例では、溶湯Ｍの出湯中は下コイル２２-２を上コイル２２-１に対し出力を低減若しくはゼロとする。
一方、出湯後に下コイル２２-２の出力を高めて下コイル２２-２により出湯用ノズル２０の下端部に付着した凝固スカルを溶解除去する。
【００３３】
この図４の例によれば、図３に示す例のものとほぼ同様の効果を奏することができるのに加えて、図３に示す例のように出湯時の加熱と、出湯後の加熱とを、ノズルコイル２２をわざわざスライド移動させて行う必要がなく、単に上コイル２２-１と下コイル２２-２との通電の切り換えないし制御を行うだけで良く、出湯時及びその後の加熱のための作業及び工程に面倒がない利点を有する。尚、上コイル２２-１と下コイル２２-２に１つの電源を接続し、出湯時と出湯後で通電するコイルを切り替えても良い。
【００３４】
次に図５は本発明の更に他の実施形態を示したもので、この例は、ノズルコイル２２を図３（Ｂ）（Ｉ）に示す上位置に配置した上で、ノズルコイル２２からの磁場の作用を遮蔽するための磁場遮蔽用導電リング３０，３２を、ノズルコイル２２の下端と出湯用ノズル２０の口部との間に介装した例である。
このうち図５（Ａ）の例は、磁場遮蔽用導電リング３０を出湯用ノズル２０の外周側且つノズルコイル２２の下側に配置した例であり、また図５（Ｂ）の例は、テーパ状をなす磁場遮蔽用導電リング３２を、出湯用ノズル２０の下端面から下向きに突出する状態に設けた例である。
【００３５】
この実施形態によれば、磁場遮蔽用導電リング３０，３２の磁場遮蔽効果によって、ノズルコイル２２からの磁場が出湯用ノズル２０の下端の口部から流出する溶湯を外向に引張るのを効果的に抑制ないし防止することができる。
従ってこの実施形態によっても、出湯中に出湯用ノズル２０の下端部に凝固スカルが付着し且つ成長する現象を効果的に抑制することができる。
【００３６】
本発明では、出湯用ノズル２０の下端の口部、詳しくは出湯用ノズル２０の下端位置であって、その内面から距離Ｌ３（＝１０ｍｍ）離れた位置Ｐの磁束密度を５０ｍＴ以下、望ましくは２０ｍＴ以下とするように出湯電磁ノズル装置を構成しておくことができる。
このようにしておくことで、出湯中に磁場の外向きの引張力によって出湯用ノズル２０の下端部に凝固スカルが付着し成長する現象を効果的に抑制ないし防止することができる。
【００３７】
［実験例］
＜実験例１＞
純チタンスポンジチタン，スクラップ（合計５００ｋｇ）を雰囲気コントロールが可能なチャンバ内に設置したるつぼ１２内に装入し、そしてチャンバ内を密閉して５０Ｐａまで真空排気後、チャンバ内にＡｒを大気圧となるまで封入した。
そして溶解用コイル１４を出力２４００ｋＷ，６００Ｈｚの周波数で通電して、るつぼ１２内に装入した原料金属を全量溶解し、３０分間均質化のための保持を行った。
【００３８】
その後ノズルコイル２２を出力３５０ｋＷ，１０ｋＨｚの周波数で通電して３０秒後に出湯を開始し、出湯用ノズル２０の下側に配置した内径５００ｍｍφ×高さ７５０ｍｍの鋳型に６０秒で溶湯の全量を出湯した。
その後鋳塊を５００℃以下までＡｒガス雰囲気下で冷却し、しかる後これを取り出した。
【００３９】
表１は出湯用電磁ノズル装置の構成を種々変えて出湯条件を異ならせ、出湯したときの結果を表したものである（表１において出湯量とるつぼへのチャージ量である５００ｋｇとの差は、凝固スカルとしてるつぼ内に残存した量である）。
ここで表１中のNo.１は図１及び図２に示す出湯用電磁ノズル装置において図２（Ｉ）中Ｌ１の距離を−２０ｍｍ（つまりノズルコイル２２下端が出湯用ノズル２０の下端よりも下側位置）とした場合であり、またNo.２はＬ１を２０ｍｍとした場合、No.３はＬ１を４０ｍｍとした場合、No.４はＬ１を５５ｍｍとした場合、No.５はＬ１を５５ｍｍとし且つ図５（Ａ）に示す磁場遮蔽用導電リング３０を用いた場合を、No.６はＬ１を５５ｍｍとし且つ図５（Ｂ）の磁場遮蔽用導電リング３２を用いた場合をそれぞれ示している。
【００４０】
尚No.５は図５（Ａ）の磁場遮蔽用導電リング３０として水冷銅製で内径ｄ１＝φ９０ｍｍ，外径ｄ２＝φ２３０ｍｍ，板厚ｔ＝６ｍｍのものを用いて、これをその下面と出湯用ノズル２０の下端との間の距離Ｌ３が２０ｍｍとなるように配置した。
またNo.６は図５（Ｂ）の磁場遮蔽用導電リング３２として、銅製で下端の内径ｄ３＝φ１０２ｍｍ，外径ｄ４＝φ１１４ｍｍ，上端の内径ｄ５＝φ７０ｍｍ，外径ｄ６＝φ８２ｍｍ，高さＨ＝４５ｍｍのものを用いた。
【００４１】
更に表１中のノズル口元磁束密度は図６のＰ位置で磁束密度の測定結果を表している。
尚この実施例において、出湯用ノズル２０における口径Ｄ＝φ３５ｍｍである（ストレート部２０-２の長さ：２２５ｍｍ，ノズルコイル２２の巻数：９．５巻）。
【００４２】
【表１】
【００４３】
表１の結果から、本発明に従ってノズルコイル２２の下端を出湯用ノズル２０の下端よりも４０ｍｍ以上、上側に位置させることによって、また図５に示す磁場遮蔽用導電リング３０，３２を用いることによって出湯流を安定化でき、良好な結果の得られることが分る。
【００４４】
＜実験例２＞
次に、図２に示したノズルコイル２２を出湯後に下向きにスライド下降させ、そして図３（Ｂ）（II）に示すＬ２を変えてノズルコイル２２による出湯後の加熱を行った。
その結果が表２に示してある。
【００４５】
但し表２中No.７は、ノズルコイル２２の下端を出湯用ノズル２０の下端と同じ位置に位置させて出湯後の加熱を行った場合、No.８はノズルコイル２２の下端を出湯用ノズル２０の下端よりも下側に位置させ且つそれらの間の距離（図３（Ｂ）（II）中Ｌ２）を−１５ｍｍとして出湯後の加熱を行った場合、No.９はＬ２＝−２０ｍｍとして出湯後の加熱を行った場合をそれぞれ示している。
【００４６】
【表２】
【００４７】
この表２の結果から、出湯後において出湯用ノズル２０の下端よりもノズルコイル２２の下端が下側位置且つその下端が出湯用ノズル２０の下端よりも（１／２）Ｄ以上の２０ｍｍ突出するようにノズルコイル２２を配置し、出湯後の加熱を行うことで、出湯用ノズル２０に付着した凝固スカルを良好に溶融し除去できることが分る。
【００４８】
以上本発明の実施形態を参考例とともに詳述したが、これらはあくまで一例示であり、本発明はその趣旨を逸脱しない範囲において種々変更を加えた形態で実施可能である。
【符号の説明】
【００４９】
１０ コールドクルーシブル溶解炉
１２ るつぼ
１４ 溶解用コイル
１６ るつぼ底部
１８ 出湯用電磁ノズル装置
２０ 出湯用ノズル
２０-１ 漏斗部
２０-２ ストレート部
２２ ノズルコイル
２２-１ 上コイル
２２-２ 下コイル
３０，３２ 磁場遮蔽用導電リング
【技術分野】
【０００１】
この発明は水冷のるつぼ内で原料金属を溶解用コイルによる高周波誘導加熱で半浮遊状態に溶解するコールドクルーシブル溶解炉の出湯用電磁ノズル装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
チタンを始めとする高融点で活性な金属の溶解炉として、従来コールドクルーシブル溶解炉が用いられている。
ここで従来用いられているコールドクルーシブル溶解炉は、周方向に複数分割された円弧状の水冷銅セグメントを絶縁材を介して周方向に互いに繋ぎ合わせて筒状の水冷のるつぼ（銅るつぼ）を構成し、そしてその外側に溶解用コイルを配置した形態のもので、るつぼ内部に装入した原料金属を溶解用コイルによる高周波誘導加熱により溶解する。
【０００３】
このとき、るつぼ内で溶解した金属は溶解用コイルによる電磁力の作用で、即ち磁気的な反発力（ローレンツ斥力）でるつぼの周壁部から離れ、中心部が上向きに盛り上がったドーム状の半浮遊状態となる（従ってこのコールドクルーシブル溶解炉はレビテーション溶解炉とも呼ばれる）。
このコールドクルーシブル溶解炉による溶解技術は未だ発展途上にある技術であり、現状ではるつぼ内で溶解した金属を銅るつぼ及び溶解用コイルごと傾動させて出湯する方法が一般に用いられている。
【０００４】
しかしながらこの出湯方法は、出湯歩留まりその他に様々な問題がある。
そこで図７に示すようにるつぼ底部に出湯用ノズル２００を設け、るつぼ内の溶湯をるつぼ底部から出湯用ノズル２００を通じて外部下方に出湯する方法が種々検討されている。
【０００５】
しかしながらこの出湯方法にもまた困難な問題が内在している。
コールドクルーシブル溶解炉を用いた溶解では、るつぼ内部の金属溶湯はるつぼ底部に接する部分が、るつぼ底部による冷却によって凝固金属（スカル）となり、金属の溶解中はその凝固スカルによって出湯用ノズルが閉塞された状態にある。
【０００６】
この状態からるつぼ内部の金属の溶湯を出湯用ノズル２００から出湯するため、従来の出湯用ノズル装置（電磁ノズル装置）では、出湯用ノズル２００を逆円錐台形状の上部の漏斗部２００-１と、その漏斗部２００-１に続いて下方に垂下する下部のストレート部２００-２とを有する形態となし、その漏斗部２００-１で凝固し出湯用ノズル２００を閉塞している凝固スカルを、出湯用ノズル２００の外側に配置したノズルコイル２０２による高周波誘導加熱にて溶解し、出湯用ノズル２００を開放状態として、るつぼ内部の溶湯を出湯用ノズル２００を通じて下方に出湯するようにしている。
【０００７】
しかしながら従来の出湯用電磁ノズル装置にあっては、出湯用ノズル２００自体もまた分割構造の水冷銅にて構成してあり、そのため出湯に際して溶湯が出湯用ノズル２００に触れることにより冷却され、出湯用ノズル２００を出たところに、即ち出湯用ノズル２００の下端の下側に凝固スカルｋが付着し且つ成長して、これが出湯用ノズル２００からの出湯流に乱れを生ぜしめ、安定した出湯が得られないといった問題が生じていた。
【０００８】
而してこのような出湯流の乱れが生じると、出湯用ノズル２００から流出した溶湯が散乱し、場合によっては下方に設置してある鋳型の内部に良好に入らなかったりする。また出湯用ノズル２００の下端部に生じた凝固スカルｋが成長することによって、遂には出湯用ノズル２００が閉塞されてしまうといったことが起こり得る。
【０００９】
出湯に際してこうした問題が生じると出湯を継続できなくなり、上記のような出湯流の乱れが生じ且つその出湯を停止せざるを得なくなってしまう。
こうした問題のため、現状では大容量のコールドクルーシブル溶解炉を用いた溶解は未だ実用化に到っていないのが実情である。
尚、出湯用ノズル２００への凝固スカルの付着の問題を解決することを目的とした出湯用電磁ノズル装置が幾つか提案されているが（例えば下記特許文献１，特許文献２）、未だ十分に上記の問題を解決できてはいない。
尚、更に他の先行技術として下記特許文献３に記載されたものがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００１−１８３０６７号公報
【特許文献２】特開２００６−１５３３６２号公報
【特許文献３】特開２００５−１４０４９１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は以上のような事情を背景とし、コールドクルーシブル溶解炉において、溶解した金属の溶湯を安定して出湯することのできる出湯用電磁ノズル装置を提供することを目的としてなされたものである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
而して請求項１の出湯用電磁ノズル装置は、水冷のるつぼの内部に装入した原料金属を該るつぼの外側に設けた溶解用コイルにて高周波誘導溶解し、該原料金属を該るつぼ内で半浮遊状態に溶解するコールドクルーシブル溶解炉のるつぼ底部に溶湯を出湯する出湯用ノズルを設けるとともに、該出湯用ノズルの外側にノズルコイルを設けて成り、該ノズルコイルにより該るつぼ底部で凝固した凝固金属を高周波誘導溶解して前記るつぼ内の溶湯を出湯するようになしたコールドクルーシブル溶解炉の出湯用電磁ノズル装置において、前記出湯用ノズルの出湯口径をＤとして、前記ノズルコイルを該出湯用ノズルに対し該ノズルコイルの下端が該出湯用ノズルの下端よりもＤ以上の上位置となる位置関係で該出湯用ノズルの外側に配置してあって、前記溶湯の出湯時の前記ノズルコイルによる高周波誘導加熱により生じる前記出湯用ノズルの下端の口部の磁束密度が５０ｍＴ以下となしてあり、前記出湯用ノズルの下端の口部から出た溶湯に対し、前記ノズルコイルが形成する磁場による外向きの引張力が抑制されるようになしてあることを特徴とする。
【発明の作用・効果】
【００１３】
以上のように請求項１のものは、ノズルコイルの下端が出湯用ノズルの下端よりも出湯口径Ｄ以上の上位置となる位置関係でノズルコイルを出湯用ノズルの外側に配置したものである。
本発明者らは、出湯用ノズルの下端部に凝固スカルが付着し且つ成長する現象を、るつぼ内の溶湯が出湯用ノズルを通過する際に溶湯の流れがそこで絞られるため、出湯用ノズルを出て圧力開放されたところで溶湯流が広がって一部の溶湯が出湯用ノズルの下端に凝固して付着し、それが成長するものであると考えていた。
【００１４】
しかしながら各種試験を行う中で、ノズルコイルに通電を行った状態で出湯を行った場合と、通電を停止した状態で出湯を行ったときとで、ノズル下端部への凝固スカルの付着の仕方が明らかに異なることを発見した。
具体的には、ノズルコイルを通電停止した状態で出湯を行ったところ、図８に示すように出湯用ノズルの下端からつらら状に垂れ下がるような形で凝固スカルｋ-１が生じたのに対し、ノズルコイルに通電を行った状態で出湯を行ったところ、出湯用ノズルの下端の口部から出た溶湯が激しく外向きに広がって、出湯用ノズルの下端で外向きに広がった形の凝固スカルｋ-２の生じる事実を見出した。
【００１５】
このことから、本発明者らは出湯用ノズルの下端部に付着し成長する凝固スカルが、ノズルコイルが電磁誘導作用にて出湯流を加熱する際に、そのノズルコイルの作る磁場が溶湯を外向きに引張ることが主たる原因で生じるものと考えた。
【００１６】
本発明はこのような知見に基づいてなされたものである。
即ち本発明者らは、ノズルコイルの作る磁場によって出湯用ノズルの下端の口部を出た溶湯が外向きに引張られるのであれば、ノズルコイルの下端位置を従来よりも上側に位置させておけば良いと考え、そこで適正な上下方向・配置位置を調べた結果、ノズルコイルをその下端が出湯用ノズルの下端よりもＤ以上上位置となるように配置しておくことで良好な結果の得られることが判明した。
【００１７】
かかる本発明は、るつぼ内の金属の溶湯を出湯するに際し、出湯流の乱れを効果的に抑制し得て、安定して出湯を行うことを可能とするものであり、大容量のコールドクルーシブル溶解炉を用いた溶解技術を実用化に向けて大きく前進させる意義を有するものである。
【００１８】
この請求項１において、出湯用ノズルを逆円錐台形状の上部の漏斗部と、漏斗部に続いて下方に垂下する下部のストレート部とを有するものとなし、そしてそのストレート部の上端を上限位置として、ノズルコイルの下端が上記Ｄ以上の位置と、この上限位置との間に位置するようにノズルコイルを配置しておくことができる。
【００１９】
出湯用ノズルにおける上部の漏斗部は、るつぼの内部で金属をレビテーション溶解したときに底部の凝固スカルにて閉鎖される部分であって、出湯開始時にその凝固スカルを加熱により溶かし、また出湯中その開口を維持するためにノズルコイルにて加熱を必要とする部分であり、一方においてこれに続く下部のストレート部は場合によってノズルコイルによる加熱を省略することが可能な部分である。
従って本発明では、極端な場合にはその漏斗部の外側だけにノズルコイルを配置し、ストレート部の外側についてはノズルコイルが無い状態としておくことも可能である。
【００２０】
本発明では、溶湯の出湯時に出湯用ノズルの下端の口部の磁束密度を５０ｍＴ以下、望ましくは２０ｍＴ以下となるように装置を構成しておくことができ、これにより出湯中に磁場の外向きの引張力によって出湯用ノズルの下端部に凝固スカルが付着し成長する現象を抑制ないし防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の一実施形態の出湯用電磁ノズル装置をコールドクルーシブル溶解炉とともに示した図である。
【図２】図１の要部拡大図である。
【図３】参考例の要部を示した図である。
【図４】他の参考例の要部を示した図である。
【図５】本発明の他の実施形態の要部を示した図である。
【図６】磁束密度の測定位置を示した図である。
【図７】従来の出湯用電磁ノズル装置の不具合の説明図である。
【図８】本発明の解決課題を具体的に示した説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
次に本発明の実施形態を図面に基づいて詳しく説明する。
図１において、１０はコールドクルーシブル溶解炉で、水冷の銅製のるつぼ１２と、その外側に配置された溶解用コイル１４とを有している。
るつぼ１２は周方向に複数分割された円弧状の水冷銅セグメントを絶縁材を介して円筒形状に繋ぎ合わせて構成してある。
１６は平板状をなするつぼ底部で水冷銅製である。
【００２３】
１８は出湯用電磁ノズル装置で、出湯用ノズル２０と、その外側に配置されたノズルコイル２２とを有している。
出湯用ノズル２０は、逆円錐台形状をなす上部の漏斗部２０-１と、この漏斗部２０-１に続いて下方に垂下する下部のストレート部２０-２とを有している。
この出湯用ノズル２０も、周方向に分割構造の水冷銅から成るもので、各セグメントを絶縁材を介して周方向に繋ぎ合わせて構成してある。
尚、２４はコールドクルーシブル溶解炉１０の下方に設置された鋳型であり、またＭはるつぼ１２内部で溶解された金属の溶湯を、Ｋはるつぼ１２への接触による冷却によって凝固した凝固スカルを表している。
【００２４】
このコールドクルーシブル溶解炉１０では、るつぼ１２内に原料金属を装入し、そして溶解用コイル１４に通電を行ってるつぼ１２内部の原料金属を高周波誘導加熱にて溶解する。
溶解した金属の溶湯Ｍは、溶解用コイル１４による電磁誘導に基づくローレンツ斥力によってるつぼ１２の壁部から離れ、るつぼ１２内で中心部が上向きに盛り上がったドーム状に半浮遊した状態となる。
そしてるつぼ底部１６に接して冷却された底部が凝固して凝固スカルＫを形成する。
このとき、凝固スカルＫは出湯用ノズル２０の上部の漏斗部２０-１の開口を閉塞した状態にある。
【００２５】
溶解用コイル１４による一定時間の溶解を行った後、るつぼ１２内部の溶湯Ｍを、出湯用電磁ノズル装置１８にて下方の鋳型２４内部に出湯する。
具体的には、ノズルコイル２２への通電を行って、出湯用ノズル２０の漏斗部２０-１の開口を閉鎖している凝固スカルＫを高周波誘導加熱により溶解し、閉塞状態にあった漏斗部２０-１を開口せしめる。
これにより、るつぼ１２内の金属の溶湯Ｍが、出湯用ノズル２０を通過して下方の鋳型２４へと出湯される。
【００２６】
この実施形態では、図２（Ｉ）に示しているように出湯用ノズル２０の出湯口径、詳しくはストレート部２０-２の下端の口部の口径をＤとして（ストレート部２０-２は他部も内径Ｄ）、ノズルコイル２２をその下端が出湯用ノズル２０の下端よりもＬ１（Ｌ１≧Ｄｍｍ）上位置となる位置関係で出湯用ノズル２０の外側に配置してある。
【００２７】
このようにした結果、本実施形態によればるつぼ１２内の金属の溶湯Ｍを出湯するに際し、出湯用ノズル２０の下端の口部から出た溶湯に対し、ノズルコイル２２が形成する磁場による外向きの引張力が抑制され、図２（II）に示しているように出湯用ノズル２０からの出湯流に乱れを生ぜしめず、安定した出湯を行うことが可能となる。
【００２８】
尚本実施形態では、ストレート部２０-２の上端を上限位置として、ノズルコイル２２の下端がその上限位置と上記Ｄだけ出湯用ノズル２０の下端より上側の位置との間に位置するようにノズルコイル２２を配置しておくことができる。
即ち場合によってノズルコイル２２を、漏斗部２０-１の部分にだけ配置しておくことも可能である。
【００２９】
次に図３は参考例を示したもので、この例はノズルコイル２２を上下にスライド可能となし、かかるノズルコイル２２を図３（Ｂ）（Ｉ）に示す位置（図３（Ｂ）（Ｉ）中Ｌ１≧Ｄ）を上位置として、その上位置と、ノズルコイル２２の下端が出湯用ノズル２０の下端よりもＬ２（Ｌ２≧（１／２）Ｄｍｍ）だけ下方に突き出した図３（Ｂ）（II）の下位置との間で上下に移動可能となした例である。
【００３０】
この例では、溶湯Ｍの出湯時にはノズルコイル２２を図３（Ｂ）（Ｉ）に示す上位置に位置させておき、その状態でノズルコイル２２による高周波誘導加熱を行う。
一方、出湯が終わったところでノズルコイル２２を図３（Ｂ）（II）に示す下位置までスライド下降させて、出湯後におけるノズルコイル２２による高周波誘導加熱を行う。
【００３１】
この場合、出湯停止時において最後の溶湯Ｍが出湯用ノズル２０を流れ落ちるときに凝固して、その凝固スカルＫが出湯用ノズル２０からぶら下がる状態となったとしても、出湯後の下降位置のノズルコイル２２による加熱によってこれを溶融させ、出湯用ノズル２０から除去することができる。
従って次のチャージの溶解操業を良好且つ円滑に行うことができる。
【００３２】
図４は他の参考例を示している。
この例は、ノズルコイル２２を上コイル２２-１と、下コイル２２-２とに上下に分割し、そして上コイル２２-１を図３（Ｂ）（Ｉ）に示す上位置に、また下コイル２２-２を、その下端が出湯用ノズル２０の下端からＬ２（Ｌ２≧（１／２）Ｄｍｍ）下方に突き出すように上コイル２２-１に並べて配置した例である。
この図４に示す例では、溶湯Ｍの出湯中は下コイル２２-２を上コイル２２-１に対し出力を低減若しくはゼロとする。
一方、出湯後に下コイル２２-２の出力を高めて下コイル２２-２により出湯用ノズル２０の下端部に付着した凝固スカルを溶解除去する。
【００３３】
この図４の例によれば、図３に示す例のものとほぼ同様の効果を奏することができるのに加えて、図３に示す例のように出湯時の加熱と、出湯後の加熱とを、ノズルコイル２２をわざわざスライド移動させて行う必要がなく、単に上コイル２２-１と下コイル２２-２との通電の切り換えないし制御を行うだけで良く、出湯時及びその後の加熱のための作業及び工程に面倒がない利点を有する。尚、上コイル２２-１と下コイル２２-２に１つの電源を接続し、出湯時と出湯後で通電するコイルを切り替えても良い。
【００３４】
次に図５は本発明の更に他の実施形態を示したもので、この例は、ノズルコイル２２を図３（Ｂ）（Ｉ）に示す上位置に配置した上で、ノズルコイル２２からの磁場の作用を遮蔽するための磁場遮蔽用導電リング３０，３２を、ノズルコイル２２の下端と出湯用ノズル２０の口部との間に介装した例である。
このうち図５（Ａ）の例は、磁場遮蔽用導電リング３０を出湯用ノズル２０の外周側且つノズルコイル２２の下側に配置した例であり、また図５（Ｂ）の例は、テーパ状をなす磁場遮蔽用導電リング３２を、出湯用ノズル２０の下端面から下向きに突出する状態に設けた例である。
【００３５】
この実施形態によれば、磁場遮蔽用導電リング３０，３２の磁場遮蔽効果によって、ノズルコイル２２からの磁場が出湯用ノズル２０の下端の口部から流出する溶湯を外向に引張るのを効果的に抑制ないし防止することができる。
従ってこの実施形態によっても、出湯中に出湯用ノズル２０の下端部に凝固スカルが付着し且つ成長する現象を効果的に抑制することができる。
【００３６】
本発明では、出湯用ノズル２０の下端の口部、詳しくは出湯用ノズル２０の下端位置であって、その内面から距離Ｌ３（＝１０ｍｍ）離れた位置Ｐの磁束密度を５０ｍＴ以下、望ましくは２０ｍＴ以下とするように出湯電磁ノズル装置を構成しておくことができる。
このようにしておくことで、出湯中に磁場の外向きの引張力によって出湯用ノズル２０の下端部に凝固スカルが付着し成長する現象を効果的に抑制ないし防止することができる。
【００３７】
［実験例］
＜実験例１＞
純チタンスポンジチタン，スクラップ（合計５００ｋｇ）を雰囲気コントロールが可能なチャンバ内に設置したるつぼ１２内に装入し、そしてチャンバ内を密閉して５０Ｐａまで真空排気後、チャンバ内にＡｒを大気圧となるまで封入した。
そして溶解用コイル１４を出力２４００ｋＷ，６００Ｈｚの周波数で通電して、るつぼ１２内に装入した原料金属を全量溶解し、３０分間均質化のための保持を行った。
【００３８】
その後ノズルコイル２２を出力３５０ｋＷ，１０ｋＨｚの周波数で通電して３０秒後に出湯を開始し、出湯用ノズル２０の下側に配置した内径５００ｍｍφ×高さ７５０ｍｍの鋳型に６０秒で溶湯の全量を出湯した。
その後鋳塊を５００℃以下までＡｒガス雰囲気下で冷却し、しかる後これを取り出した。
【００３９】
表１は出湯用電磁ノズル装置の構成を種々変えて出湯条件を異ならせ、出湯したときの結果を表したものである（表１において出湯量とるつぼへのチャージ量である５００ｋｇとの差は、凝固スカルとしてるつぼ内に残存した量である）。
ここで表１中のNo.１は図１及び図２に示す出湯用電磁ノズル装置において図２（Ｉ）中Ｌ１の距離を−２０ｍｍ（つまりノズルコイル２２下端が出湯用ノズル２０の下端よりも下側位置）とした場合であり、またNo.２はＬ１を２０ｍｍとした場合、No.３はＬ１を４０ｍｍとした場合、No.４はＬ１を５５ｍｍとした場合、No.５はＬ１を５５ｍｍとし且つ図５（Ａ）に示す磁場遮蔽用導電リング３０を用いた場合を、No.６はＬ１を５５ｍｍとし且つ図５（Ｂ）の磁場遮蔽用導電リング３２を用いた場合をそれぞれ示している。
【００４０】
尚No.５は図５（Ａ）の磁場遮蔽用導電リング３０として水冷銅製で内径ｄ１＝φ９０ｍｍ，外径ｄ２＝φ２３０ｍｍ，板厚ｔ＝６ｍｍのものを用いて、これをその下面と出湯用ノズル２０の下端との間の距離Ｌ３が２０ｍｍとなるように配置した。
またNo.６は図５（Ｂ）の磁場遮蔽用導電リング３２として、銅製で下端の内径ｄ３＝φ１０２ｍｍ，外径ｄ４＝φ１１４ｍｍ，上端の内径ｄ５＝φ７０ｍｍ，外径ｄ６＝φ８２ｍｍ，高さＨ＝４５ｍｍのものを用いた。
【００４１】
更に表１中のノズル口元磁束密度は図６のＰ位置で磁束密度の測定結果を表している。
尚この実施例において、出湯用ノズル２０における口径Ｄ＝φ３５ｍｍである（ストレート部２０-２の長さ：２２５ｍｍ，ノズルコイル２２の巻数：９．５巻）。
【００４２】
【表１】
【００４３】
表１の結果から、本発明に従ってノズルコイル２２の下端を出湯用ノズル２０の下端よりも４０ｍｍ以上、上側に位置させることによって、また図５に示す磁場遮蔽用導電リング３０，３２を用いることによって出湯流を安定化でき、良好な結果の得られることが分る。
【００４４】
＜実験例２＞
次に、図２に示したノズルコイル２２を出湯後に下向きにスライド下降させ、そして図３（Ｂ）（II）に示すＬ２を変えてノズルコイル２２による出湯後の加熱を行った。
その結果が表２に示してある。
【００４５】
但し表２中No.７は、ノズルコイル２２の下端を出湯用ノズル２０の下端と同じ位置に位置させて出湯後の加熱を行った場合、No.８はノズルコイル２２の下端を出湯用ノズル２０の下端よりも下側に位置させ且つそれらの間の距離（図３（Ｂ）（II）中Ｌ２）を−１５ｍｍとして出湯後の加熱を行った場合、No.９はＬ２＝−２０ｍｍとして出湯後の加熱を行った場合をそれぞれ示している。
【００４６】
【表２】
【００４７】
この表２の結果から、出湯後において出湯用ノズル２０の下端よりもノズルコイル２２の下端が下側位置且つその下端が出湯用ノズル２０の下端よりも（１／２）Ｄ以上の２０ｍｍ突出するようにノズルコイル２２を配置し、出湯後の加熱を行うことで、出湯用ノズル２０に付着した凝固スカルを良好に溶融し除去できることが分る。
【００４８】
以上本発明の実施形態を参考例とともに詳述したが、これらはあくまで一例示であり、本発明はその趣旨を逸脱しない範囲において種々変更を加えた形態で実施可能である。
【符号の説明】
【００４９】
１０ コールドクルーシブル溶解炉
１２ るつぼ
１４ 溶解用コイル
１６ るつぼ底部
１８ 出湯用電磁ノズル装置
２０ 出湯用ノズル
２０-１ 漏斗部
２０-２ ストレート部
２２ ノズルコイル
２２-１ 上コイル
２２-２ 下コイル
３０，３２ 磁場遮蔽用導電リング
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水冷のるつぼの内部に装入した原料金属を該るつぼの外側に設けた溶解用コイルにて高周波誘導溶解し、該原料金属を該るつぼ内で半浮遊状態に溶解するコールドクルーシブル溶解炉のるつぼ底部に溶湯を出湯する出湯用ノズルを設けるとともに、該出湯用ノズルの外側にノズルコイルを設けて成り、該ノズルコイルにより該るつぼ底部で凝固した凝固金属を高周波誘導溶解して前記るつぼ内の溶湯を出湯するようになしたコールドクルーシブル溶解炉の出湯用電磁ノズル装置において
前記出湯用ノズルの出湯口径をＤとして、前記ノズルコイルを該出湯用ノズルに対し該ノズルコイルの下端が該出湯用ノズルの下端よりもＤ以上の上位置となる位置関係で該出湯用ノズルの外側に配置してあって、
前記溶湯の出湯時の前記ノズルコイルによる高周波誘導加熱により生じる前記出湯用ノズルの下端の口部の磁束密度が５０ｍＴ以下となしてあり、
前記出湯用ノズルの下端の口部から出た溶湯に対し、前記ノズルコイルが形成する磁場による外向きの引張力が抑制されるようになしてあることを特徴とするコールドクルーシブル溶解炉の出湯用電磁ノズル装置。
【請求項１】
水冷のるつぼの内部に装入した原料金属を該るつぼの外側に設けた溶解用コイルにて高周波誘導溶解し、該原料金属を該るつぼ内で半浮遊状態に溶解するコールドクルーシブル溶解炉のるつぼ底部に溶湯を出湯する出湯用ノズルを設けるとともに、該出湯用ノズルの外側にノズルコイルを設けて成り、該ノズルコイルにより該るつぼ底部で凝固した凝固金属を高周波誘導溶解して前記るつぼ内の溶湯を出湯するようになしたコールドクルーシブル溶解炉の出湯用電磁ノズル装置において
前記出湯用ノズルの出湯口径をＤとして、前記ノズルコイルを該出湯用ノズルに対し該ノズルコイルの下端が該出湯用ノズルの下端よりもＤ以上の上位置となる位置関係で該出湯用ノズルの外側に配置してあって、
前記溶湯の出湯時の前記ノズルコイルによる高周波誘導加熱により生じる前記出湯用ノズルの下端の口部の磁束密度が５０ｍＴ以下となしてあり、
前記出湯用ノズルの下端の口部から出た溶湯に対し、前記ノズルコイルが形成する磁場による外向きの引張力が抑制されるようになしてあることを特徴とするコールドクルーシブル溶解炉の出湯用電磁ノズル装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【公開番号】特開２０１３−１００９８１（Ｐ２０１３−１００９８１Ａ）
【公開日】平成２５年５月２３日（２０１３．５．２３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−２８９０８７（Ｐ２０１２−２８９０８７）
【出願日】平成２４年１２月２８日（２０１２．１２．２８）
【分割の表示】特願２００７−１５６６１（Ｐ２００７−１５６６１）の分割
【原出願日】平成１９年１月２５日（２００７．１．２５）
【出願人】（０００００３７１３）大同特殊鋼株式会社 (916)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年５月２３日（２０１３．５．２３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２４年１２月２８日（２０１２．１２．２８）
【分割の表示】特願２００７−１５６６１（Ｐ２００７−１５６６１）の分割
【原出願日】平成１９年１月２５日（２００７．１．２５）
【出願人】（０００００３７１３）大同特殊鋼株式会社 (916)
【Ｆターム（参考）】
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