説明

パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法

【課題】 凹凸追従性と高解像度とが両立され、かつ、欠陥のない高精細なパターンを効率よく形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体上にクッション層と感光層とをこの順に有し、該クッション層における全光線透過率が86%以上、かつ、ヘイズ値が10%以下であることを特徴とするパターン形成材料である。該パターン形成材料を備えたパターン形成装置である。該パターン形成材料を用いて露光するパターン形成方法である。


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【特許請求の範囲】
【請求項1】
支持体上にクッション層と感光層とをこの順に有し、該クッション層における全光線透過率が86%以上、かつ、ヘイズ値が10%以下であることを特徴とするパターン形成材料。
【請求項2】
クッション層の全光線透過率及びヘイズ値を求める場合の光の波長が、405nmである請求項1に記載のパターン形成材料。
【請求項3】
クッション層中に含まれる微粒子の平均粒子径が1μm未満である請求項1から2のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項4】
クッション層が、ガラス転移温度(Tg)及び軟化点のいずれかが80℃以下の熱可塑性樹脂を含有する請求項1から3のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項5】
クッション層の厚みが、6〜100μmである請求項1から4のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項6】
クッション層と感光層との間に、物質の移動を抑制可能なバリア層を有する請求項1から5のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項7】
クッション層上に、第一感光層、及び該第一感光層よりも硬化させるための光エネルギー量が少ない第二感光層がこの順に積層されてなる請求項1から6のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項8】
第一感光層と第二感光層との間に、バリア層を有する請求項7に記載のパターン形成材料。
【請求項9】
クッション層が、該クッション層に含まれる組成物が溶解、乳化、又は分散されたクッション層組成物塗布液を、フィルターで濾過した後、支持体上に塗布、乾燥して形成される請求項1から8記載のパターン形成材料。
【請求項10】
フィルターの孔径が30μm以下である請求項9に記載のパターン形成材料。
【請求項11】
請求項1から10のいずれかに記載のパターン形成材料を備えており、
光を照射可能な光照射手段と、該光照射手段からの光を変調し、前記パターン形成材料における感光層に対して露光を行う光変調手段とを少なくとも有することを特徴とするパターン形成装置。
【請求項12】
請求項1から10のいずれかに記載のパターン形成材料を、加熱及び加圧の少なくともいずれかにより基体上に積層する積層工程と、
前記積層工程により積層された少なくとも感光層を、光照射手段から照射される光により露光する露光工程と、
前記露光工程により露光された感光層を現像する現像工程とを有することを特徴とするパターン形成方法。
【請求項13】
積層工程後に、支持体をクッション層上から剥離する剥離工程を有し、次いで、クッション層上から感光層を露光工程により露光する請求項12に記載のパターン形成方法。
【請求項14】
露光工程が、光照射手段からの光を受光し出射する描素部をn個有する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させた後に、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズが配列されたマイクロレンズアレイを通過させた光によって行われる請求項12から13のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項15】
非球面が、トーリック面である請求項14に記載のパターン形成方法。
【請求項16】
現像が行われた後、永久パターンの形成を行う請求項12から15のいずれかに記載のパターン形成方法。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図5】
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【図6】
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【図7】
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【図8】
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【図9】
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【図10】
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【図11】
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【図13】
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【図21】
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【図24】
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【図25】
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【図26】
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【図27a】
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【図29】
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【図30】
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【図31】
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【図32】
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【図33】
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【図34】
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【図35】
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【図36】
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【図37】
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【図4】
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【図12】
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【図14】
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【図15】
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【図16】
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【図17】
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【図18】
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【図19a】
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【図19b】
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【図19c】
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【図19d】
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【図20a】
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【図20b】
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【図20c】
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【図20d】
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【図22】
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【図23】
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【図27b】
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【図28】
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【公開番号】特開2007−327979(P2007−327979A)
【公開日】平成19年12月20日(2007.12.20)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2004−254907(P2004−254907)
【出願日】平成16年9月1日(2004.9.1)
【出願人】(000005201)富士フイルムホールディングス株式会社 (7,609)
【Fターム(参考)】