説明

地下足袋ランニングシューズの裏底

【課題】足の機能を地面に伝えるのに、靴となるとその底は扁平であり機能は平面の堅いゴム等で打ち消されてしまっている。走る足の動作機能を十分に発揮し、かつ、足への衝撃を緩和するシューズを提供する。
【解決手段】地下足袋に地面を捉える機能を持たせ、地面からの衝撃を吸収し足の平目筋に疲労を和らげる。足指部分の下をクッション構造を作る。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、走る足の動作機能十分に発揮しかつ足への衝撃を緩和するシューズである。
【背景技術】
【0002】
スポーツシューズ、ランニングシューズの裏底構造は、重心点を考慮したり、クッション性を重視したり種々ある。例えば靴底裏に溝を工夫して作成するもの、しかしその機能は、靴底が平坦であるため打ち消されている。このことは、靴のファッション性を最重視、又は素材の点で適当な物が無かった為と考えられる。
【0003】
靴底に凹凸を付けたものとなると、ゴルフシューズ、野球用シューズ等スパイクを付けた物となる。
【0004】
特殊な形として、靴底をふぐの腹のようにした物、踵箇所を無くしたダイエット用のもの、これらは走るためとは言い無い。
【0005】
足の保護を目的にエアーを利用したと思われる商品も、クッション性が少なく、足の疲労を保護するのに、不十分である。
【0006】
足の形状の物で走るなら足袋となるが、足の疲労保護には、不十分でありそこから地下足袋となる。地下足袋型スポーツシューズがあるが、指が走行機能に参加することが少なく、足の疲労は、底ゴム等が薄いため大きい。
本発明に合った素材が、無かった事が本構造の商品化されなかったことと考える。

【0007】
【特許文献1】特許公開2004−201885号文献
【特許文献2】特許公開平8−336403号文献
【特許文献3】特許公開2007−125075号文献
【特許文献4】実用新案公開平6−84902号文献
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
走る足の動きを捉えてみると、足の親指後方部を支点にして体重を前方に倒し他の4指が地面を掴むように蹴ることで前進する。この機能が十分発揮する事と
繰り返し動作が足に疲労を生じることを極力抑える必要がある。
【課題を解決するための手段】
【0009】
裸足の走行動作を直に地面に伝えるとなると最近は5本指靴下があるが足の安全等考えれば、靴下でなく地下足袋型となる。
親指後方の肉厚点は、格闘技、エアロビックス等でも重視される力支点であるのでここを高くしておく親指は作用点として約半分の高さのクッションを配置、他の3指もこの高さ、小指は走行動作に参加しにくいので3指の箇所より若干高くする。このクッションは、発砲ゴム等で作るが上記構造を満たすならエヤー等を風船状にしてもよい。
足の疲労には、踵への地面からの衝撃が大きいの、シューズ裏底には、十分反発力のある発砲ゴム等を貼る。
本構造の裏底で地下足袋型シューズを一体として作る。
【発明の効果】
【0010】
マラソン等長時間走るのには、疲労が少なく最適である。
短距離全力疾走には、足前面部のクッションをかための物にすることで対応できる。効果が有りすぎると、競技会用に使用禁止になる可能性がある。

【発明を実施するための最良の形態】
【0011】
足の前面部は、説明図のクッション構造を摩擦性の高いゴム状品で包みラミネートする。
踵部分は、クッション性の高い発砲ゴム等で形にし、対摩性のゴム等でラミネートする。
【図面の簡単な説明】
【0012】
【図1】本発明の説明した図である。
【図2】発泡ゴム等の配置図面である。Hは高さを表し各数値は目安である。
【符号の説明】
【0013】
a 説明図面のクッショをラミネートした足先部分
b クッション性を重視したものをラミネートした足踵部分
c 親指後方の小高い筋肉部に支点となるクッション。
d 親指部分のクッションで支点cより低く地面を捉える。
e 3指後方のクッション支点cの補助。
f 3指部分のクッション
g 小指部分のクッションで指全体が走行に参加させるために少し高くする。
h 踵部分のクッションで、地面からの衝撃を和らげる。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
地下足袋型のランニングシューズの裏底に親指後方部を支点として高目のクッションを配置、他の指腹が地面を掴み、蹴れるよう低めのクッションを付ける。そして小指もこの動きに参加させるために、小高く小指下にクッションを置く。又、人差し指、中指、薬指の後方に補助的にクッションを配置することにより、走りやすくした地下足袋シューズの裏底。
【請求項2】
シューズの踵裏に十分反発の有る発砲ゴムもしくは、エアーを入れたゴム状プレートを貼り付けた請求項1記載の地下足袋シューズの裏底。


【図1】
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【図2】
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【公開番号】特開2009−148405(P2009−148405A)
【公開日】平成21年7月9日(2009.7.9)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2007−328520(P2007−328520)
【出願日】平成19年12月20日(2007.12.20)
【出願人】(305052931)株式会社 プロンテー (3)
【Fターム(参考)】