描画装置
【課題】パターンの描画時間を短縮することが可能な描画装置を提供することである。
【解決手段】記憶部２１は、描画すべきパターンに対応する描画データを記憶する。第１および第２のデータ処理部２２，２４は、記憶部２１に記憶される描画データに基づいて各帯状領域に対応するオンオフデータをそれぞれ作成し、作成したオンオフデータに基づいてオンオフ切替部６を制御する。動作制御部３０は、ステージ駆動部２、ヘッド部４を制御する。また、動作制御部３０は、オンオフ制御部２０の第１のデータ処理部２２にデータ作成信号ＳＡ１およびオンオフ制御信号ＳＢ１を与える。
【解決手段】記憶部２１は、描画すべきパターンに対応する描画データを記憶する。第１および第２のデータ処理部２２，２４は、記憶部２１に記憶される描画データに基づいて各帯状領域に対応するオンオフデータをそれぞれ作成し、作成したオンオフデータに基づいてオンオフ切替部６を制御する。動作制御部３０は、ステージ駆動部２、ヘッド部４を制御する。また、動作制御部３０は、オンオフ制御部２０の第１のデータ処理部２２にデータ作成信号ＳＡ１およびオンオフ制御信号ＳＢ１を与える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトマスクの製造のために、マスクブランクスにパターンを描画する描画装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、フォトマスクの製造には、レーザ光によりマスクブランクスにパターンの描画を行う描画装置が用いられる（例えば特許文献１参照）。描画装置は、一方向（以下、Ｙ方向と呼ぶ）に移動可能なステージを有する。ステージの上方には、レーザ光を出射するためのヘッド部がＹ方向に垂直な一方向（以下、Ｘ方向と呼ぶ）に移動可能に設けられる。
【０００３】
ステージ上にマスクブランクスが固定される。その状態で、ヘッド部がＸ方向に移動しつつ所定のタイミングでマスクブランクスに向けてレーザ光を出射する。これにより、マスクブランクス上のＸ方向に沿った一定幅の領域においてパターンの描画が行われる。
【０００４】
次いで、ステージがＹ方向に沿って移動することにより、マスクブランクスの位置がＹ方向にずらされる。その状態で、上記同様にヘッド部がＸ方向に移動しつつ所定のタイミングでマスクブランクスに向けてレーザ光を出射する。これにより、上記の一定幅の領域と隣接する他の一定幅の領域において、パターンの描画が行われる。
【０００５】
このように、Ｘ方向に沿った一定幅の領域において描画を行う毎に、マスクブランクスの位置をＹ方向にずらすことにより、マスクブランクスの全面において描画を行うことができる。
【特許文献１】特開２００２−２４４２７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
一般的に、マスクブランクスへのパターンの描画時には、一定幅の領域毎にデータ処理が行われる。具体的には、例えば描画すべきパターンの全体がビットマップ形式の描画データとして表される。その描画データに基づいて、レーザ光の出射のオンオフを表す論理値“１”および論理値“０”からなるデータ（以下、オンオフデータと呼ぶ）が一定幅の領域毎に作成される。なお、描画データは、レーザ光のビーム径、ビーム強度、描画領域の幅等、描画に関する種々のパラメータの値を含む場合もある。
【０００７】
従来技術では、１つの一定幅の領域に描画が行われた後、次に描画を行うべき一定幅の領域に対応するオンオフデータが作成される。この場合、オンオフデータを作成する期間には描画を進めることができない。そのため、例えばレーザ光の出射を停止した状態で、ヘッド部の位置合わせを意図的に低速で行ったり、ヘッド部を一定の経路内で繰り返し移動させたりする。そして、オンオフデータの作成が完了すると、次の一定幅の領域への描画が開始される。
【０００８】
このように、１つの一定幅の領域への描画毎に、描画を停止して次のストライプ状の領域に対応するオンオフデータを作成する必要がある。そのため、連続的に描画を進めることが困難となり、描画時間が増加する。
【０００９】
本発明の目的は、パターンの描画時間を短縮することが可能な描画装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
（１）本発明に係る描画装置は、レーザ光によりマスクブランクスにパターンの描画を行う描画装置であって、レーザ光を出射するためのレーザ光出射部と、レーザ光出射部を第１の方向およびその逆方向に往復移動させる第１の移動機構と、レーザ光出射部とマスクブランクスとを第１の方向と交差する第２の方向に相対的に移動させる第２の移動機構と、パターンに対応する描画データに基づいてレーザ光の出射および非出射を切り替えるためのオンオフデータを作成する複数のデータ処理部と、複数のデータ処理部のいずれかにより作成されたオンオフデータに基づいてレーザ光出射部によるレーザ光の出射および非出射を切り替える切替部と、第１および第２の移動機構ならびに複数のデータ処理部を制御する制御手段とを備え、レーザ光出射部の往路および復路の移動時間のうち少なくとも一方が描画期間に設定され、制御手段は、各描画期間において、複数のデータ処理部のうち一のデータ処理部により既に作成されたオンオフデータが切替部に出力されるとともに、複数のデータ処理部のうち他のデータ処理部により次の描画期間のオンオフデータが作成されるように複数のデータ処理部を制御するものである。
【００１１】
この描画装置においては、第１の移動機構によりレーザ光出射部が第１の方向およびその逆方向に往復移動し、第２の移動機構によりレーザ光出射部とマスクブランクスとが第１の方向と交差する第２の方向に相対的に移動する。
【００１２】
複数のデータの処理部によりパターンに対応する描画データに基づいてレーザ光の出射および非出射を切り替えるためのオンオフデータが作成される。複数のデータ処理部のいずれかにより作成されたオンオフデータに基づいて、切替部によりレーザ光出射部によるレーザ光の出射および非出射が切り替えられる。
【００１３】
各描画期間において、複数のデータ処理部のうち一のデータ処理部により既に作成されたオンオフデータが切替部に出力される。そのオンオフデータに基づいて切替部によりレーザ光の出射および非出射が切り替えられ、マスクブランクスへのパターンの描画が行われる。
【００１４】
また、各描画期間において、複数のデータ処理部のうち他のデータ処理部により次の描画期間のオンオフデータが作成される。そのため、各描画期間の終了後に次の描画期間のオンオフデータを作成する必要がない。それにより、各描画期間の終了後、次の描画期間に迅速に移行することができる。したがって、各描画期間の終了毎に次の描画期間のオンオフデータを作成する場合に比べて、パターンの描画時間を大幅に短縮することができる。
【００１５】
（２）複数のデータ処理部は、第１および第２のデータ処理部を含み、制御手段は、第１のデータ処理部によるオンオフデータの作成および第２のデータ処理部によるオンオフデータの出力と、第２のデータ処理部によるオンオフデータの作成および第１のデータ処理部によるオンオフデータの出力とが、描画期間ごとに交互に行われるように、第１および第２のデータ処理部を制御してもよい。
【００１６】
この場合、第１および第２のデータ処理部の一方により既に作成されたオンオフデータが切替部に出力される期間に、第１および第２のデータ処理部の他方により次の描画期間のオンオフデータが作成される。それにより、各描画期間の終了後、次の描画期間に迅速に移行することができる。したがって、簡単な構成で、パターンの描画時間を短縮することができる。
【００１７】
（３）レーザ光出射部の往路および復路の移動時間のうち一方が描画期間に設定され、レーザ光出射部の往路および復路の移動時間のうち他方が非描画期間に設定され、制御手段は、レーザ光出射部の往復移動ごとにレーザ光照射部とマスクブランクスとが相対的に第２の方向に移動し、各描画期間において、複数のデータ処理部のうち一のデータ処理部により既に作成されたオンオフデータが切替部に出力されるとともに、複数のデータ処理部のうち他のデータ処理部により次の描画期間のオンオフデータが作成され、各非描画期間において、レーザ光出射部によりレーザ光が出射されないように、第１および第２の移動機構ならびに複数のデータ処理部を制御してもよい。
【００１８】
この場合、レーザ光出射部の往路および復路の移動時間のうち一方においては、マスクブランクスへのパターンの描画が行われ、レーザ光出射部の往路および復路の移動時間のうち他方においては、マスクブランクスへのパターンの描画が行われない。
【００１９】
各描画期間においては、複数のデータ処理部のうち一のデータ処理部により既に作成されたオンオフデータが切替部に出力されるとともに、複数のデータ処理部のうち他のデータ処理部により次の描画期間のオンオフデータが作成される。そのため、各描画期間の終了後に次の描画期間のオンオフデータを作成する必要がない。したがって、各非描画期間においてレーザ光出射部を迅速に移動させることにより、次の描画期間に迅速に移行することができる。
【００２０】
（４）レーザ光出射部の往路および復路の移動時間がそれぞれ描画期間に設定され、制御手段は、レーザ光出射部の往路の移動および復路の移動ごとにレーザ光出射部とマスクブランクスとが相対的に第２の方向に移動し、各描画期間において、複数のデータ処理部のうち一のデータ処理部により既に作成されたオンオフデータが切替部に出力されるとともに、複数のデータ処理部のうち他のデータ処理部により次の描画期間のオンオフデータが作成されるように、第１および第２の移動機構ならびに複数のデータ処理部を制御してもよい。
【００２１】
この場合、レーザ光出射部の往路および復路の移動時間の両方において、マスクブランクスへのパターンの描画行われる。
【００２２】
各描画期間においては、複数のデータ処理部のうち一のデータ処理部により既に作成されたオンオフデータが切替部に出力されるとともに、複数のデータ処理部のうち他のデータ処理部により次の描画期間のオンオフデータが作成される。そのため、各描画期間の終了後に次の描画期間のオンオフデータを作成する必要がない。したがって、レーザ光出射部の往路および復路の移動時間の両方でパターンの描画を行うことにより、描画効率を十分に向上することができる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、各描画期間の終了後、次の描画期間に迅速に移行することができる。したがって、各描画期間の終了毎に次の描画期間のオンオフデータを作成する場合に比べて、パターンの描画時間を大幅に短縮することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、本発明の一実施の形態に係る描画装置について図面を参照しながら説明する。
【００２５】
（１）構成
図１は、本実施の形態に係る描画装置の構成を示す模式図である。図１において、水平面内で互いに直交する２方向をＸ方向およびＹ方向と定義する。
【００２６】
図１に示すように、描画装置１００は、ステージ１、ステージ駆動部２、キャリッジ３、ヘッド部４、レーザ光発生部５、オンオフ切替部６および制御部７を備える。
【００２７】
ステージ１上にマスクブランクス１０が固定される。マスクブランクス１０は、例えばガラス基板上にクロム（Ｃｒ）等からなる遮光性薄膜および感光性膜が順に形成された構成を有する。ステージ１は、ステージ駆動部２によりＹ方向に沿って移動する。
【００２８】
キャリッジ３は、ステージ１の上方でＸ方向に延びるヘッド移動部３１を保持する。キャリッジ３のヘッド移動部３１には、ヘッド部４が取り付けられる。ヘッド部４は、キャリッジ３のヘッド移動部３１に沿ってＸ方向に移動可能に構成される。
【００２９】
なお、本実施の形態では、ヘッド移動部３１の一端部から他端部へのヘッド部４の移動経路がヘッド部４（レーザ光出射部）の往路に相当し、ヘッド移動部３１の他端部から一端部へのヘッド部４の移動経路がヘッド部４（レーザ光出射部）の復路に相当する。
【００３０】
レーザ光発生部５は、例えばクリプトンイオンレーザを有し、レーザ光を発生する。そのレーザ光は、図示しない光学系および反射鏡によりオンオフ切替部６を通してヘッド部４に導かれ、ヘッド部４からステージ１上のマスクブランクス１０に向けて出射される。なお、ヘッド部４に導かれるレーザ光がビームスプリッタにより分離され、複数本のレーザ光がヘッド部４から出射されてもよい。
【００３１】
ヘッド部４からのレーザ光の出射のオンオフは、オンオフ切替部６により切り替えられる。
【００３２】
制御部７は、描画すべきパターンに対応する描画データに基づいてオンオフ切替部６を制御する。また、制御部７は、ヘッド部４の動作およびステージ駆動部２の動作をそれぞれ制御する。制御部７の詳細については後述する。
【００３３】
（２）動作
次に、図１に示した描画装置１００の動作の概要について説明する。図２〜図４は、描画装置１００の動作について説明するための模式的平面図である。
【００３４】
まず、図２（ａ）に示すように、ヘッド部４の下方にマスクブランクス１０の端部が位置するように、ステージ１の位置が調整される。次に、図２（ｂ）に示すように、ヘッド部４がヘッド移動部３１の一端部から他端部に移動しつつ所定のタイミングでマスクブランクス１０に向けてレーザ光を出射する。これにより、Ｘ方向に沿ったマスクブランクス１０上の一定幅の領域（以下、帯状領域と呼ぶ）Ｐ１において、パターンの描画が行われる。
【００３５】
続いて、図３（ｃ）に示すように、ヘッド部４がレーザ光の出射を停止した状態でヘッド移動部３１の一端部に戻る。また、ステージ１が帯状領域Ｐ１の幅分だけＹ方向に移動する。
【００３６】
そして、図３（ｄ）に示すように、ヘッド部４が再びヘッド移動部３１の一端部から他端部に移動しつつ所定のタイミングでマスクブランクス１０に向けてレーザ光を出射する。これにより、帯状領域Ｐ１に隣接する帯状領域Ｐ２において、パターンの描画が行われる。
【００３７】
このようにして、帯状領域毎にパターンの描画が行われる。最終的に、図４（ｅ）に示すように、マスクブランクス１０の全面（帯状領域Ｐ１〜Ｐｚ）においてパターンの描画が行われる。ここで、Ｚは２以上の整数である。
【００３８】
なお、本例では、ヘッド部４がヘッド移動部３１の一端部から他端部に移動する期間が描画期間に相当し、ヘッド部４がヘッド移動部３１の他端部から一端部に移動する期間が非描画期間に相当する。
【００３９】
本実施の形態では、各帯状領域へのパターンの描画時に、その帯状領域に隣接する次に描画を行うべき帯状領域へのパターンの描画のためのデータ（オンオフデータ）を作成する。それにより、マスクブランクス１０へのパターンの描画を迅速に行うことが可能となる。以下、その詳細について説明する。
【００４０】
（３）制御系
（３−１）構成
図５は、描画装置１００の制御系について説明するためのブロック図である。図５に示すように、制御部７は、オンオフ制御部２０および動作制御部３０を含む。
【００４１】
オンオフ制御部２０は、記憶部２１、第１のデータ処理部２２、第１のバッファ２３、第２のデータ処理部２４および第２のバッファ２５を含む。
【００４２】
記憶部２１は、描画すべきパターンに対応する描画データを記憶する。描画データは、例えばビットマップ形式で表される。第１および第２のデータ処理部２２，２４は、記憶部２１に記憶される描画データに基づいて各帯状領域に対応するオンオフデータをそれぞれ作成し、作成したオンオフデータに基づいてオンオフ切替部６を制御する。オンオフデータは、例えばレーザ光の出射のオンオフを表す論理値“１”および論理値“０”からなる。なお、描画データは、レーザ光のビーム径、ビーム強度、描画領域の幅等、描画に関する種々のパラメータの値を含む場合もある。オンオフデータは、ヘッド部４の移動速度およびレーザ光のビーム径等を考慮して作成される。
【００４３】
第１のデータ処理部２２により作成されたオンオフデータは、第１のバッファ２３に一時的に記憶され、第２のデータ処理部２４により作成されたオンオフデータは、第２のバッファ２５に一時的に記憶される。
【００４４】
動作制御部３０は、ステージ駆動部２に動作信号ＳＤ１を与えることによりステージ駆動部２の動作を制御し、ヘッド部４に動作信号ＳＤ２を与えることによりヘッド部４の動作を制御する。
【００４５】
また、動作制御部３０は、オンオフ制御部２０の第１のデータ処理部２２にデータ作成信号ＳＡ１およびオンオフ制御信号ＳＢ１を与える。第１のデータ処理部２２は、データ作成信号ＳＡ１に応答してオンオフデータの作成を開始し、オンオフ制御信号ＳＢ１に応答してオンオフ切替部６の制御を開始する。また、第１のデータ処理部２２は、オンオフデータの作成が終了したことを示す終了信号ＳＣ１を動作制御部３０に与える。
【００４６】
同様に、動作制御部３０は、オンオフ制御部２０の第２のデータ処理部２４にデータ作成信号ＳＡ２およびオンオフ制御信号ＳＢ２を与える。第２のデータ処理部２４は、データ作成信号ＳＡ２に応答してオンオフデータの作成を開始し、オンオフ制御信号ＳＢ２に応答してオンオフ切替部６の制御を開始する。また、第２のデータ処理部２４は、オンオフデータの作成が終了したことを示す終了信号ＳＣ２を動作制御部３０に与える。
【００４７】
本実施の形態において、第１および第２のデータ処理部２２，２４は、動作制御部３０からデータ作成信号ＳＡ１，ＳＡ２が与えられる毎に、帯状領域Ｐ１〜Ｐｚに対応するオンオフデータを順に作成する。
【００４８】
（３−２）動作
次に、パターンの描画時における動作制御部３０の制御動作について説明する。図６および図７は、動作制御部３０の制御動作の一例を示すフローチャートである。
【００４９】
まず、動作制御部３０は、第１のデータ処理部２２にデータ作成信号ＳＡ１を与える（ステップＳ１）。この場合、第１のデータ処理部２２が、帯状領域Ｐ１に対応するオンオフデータの作成を開始する。作成されたオンオフデータは、第１のバッファ２３に記憶される。
【００５０】
次に、動作制御部３０は、第１のデータ処理部２２からの終了信号ＳＣ１に基づいて、第１のデータ処理部２２においてオンオフデータの作成が終了したか否かを判定する（ステップＳ２）。第１のデータ処理部２２においてオンオフデータの作成が終了していない場合、動作制御部３０は、オンオフデータの作成が終了するまで待機する。
【００５１】
第１のデータ処理部２２においてオンオフデータの作成が終了すると、動作制御部３０は、帯状領域Ｐ１〜Ｐｚに対応する全てのオンオフデータの作成が終了したか否かを判定する（ステップＳ３）。
【００５２】
全てのオンオフデータの作成が終了していない場合、動作制御部３０は、第２のデータ処理部２４にデータ作成信号ＳＡ２を与える（ステップＳ４）。この場合、第２のデータ処理部２４が、帯状領域Ｐ２に対応するオンオフデータの作成を開始する。
【００５３】
次に、動作制御部３０は、第１のデータ処理部２２にオンオフ制御信号ＳＢ１を与えるとともに（ステップＳ５）、動作信号ＳＤ２によりヘッド部４をヘッド移動部３１の一端部から他端部に移動させる（ステップＳ６）。この場合、第１のデータ処理部２２は、第１のバッファ２３に記憶されたオンオフデータ、すなわち帯状領域Ｐ１に対応するオンオフデータに基づいてオンオフ切替部６を制御する。
【００５４】
これにより、ヘッド部４がヘッド移動部３１の一端部から他端部に移動しつつ帯状領域Ｐ１に向けて所定のタイミングでレーザ光を出射する（図２（ｂ）参照）。その結果、帯状領域Ｐ１へのパターンの描画が行われる。
【００５５】
帯状領域Ｐ１へのパターンの描画中に、第２のデータ処理部２４により帯状領域Ｐ２に対応するオンオフデータの作成が継続して行われる。作成されたオンオフデータは、第２のバッファ２５に記憶される。
【００５６】
次に、動作制御部３０は、動作信号ＳＤ２によりヘッド部４をヘッド移動部３１の他端部から一端部に移動させるとともに、動作信号ＳＤ１によりステージ駆動部２を制御し、ステージ１をＹ方向に帯状領域の幅分だけ移動させる（図３（ａ）参照）。
【００５７】
次に、図７に示すように、動作制御部３０は、第２のデータ処理部２４からの終了信号ＳＣ２に基づいて、第２のデータ処理部２４においてオンオフデータの作成が終了したか否かを判定する（ステップＳ１１）。オンオフデータの作成が終了していない場合、動作制御部３０はオンオフデータの作成が終了するまで待機する。
【００５８】
第２のデータ処理部２４においてオンオフデータの作成が終了すると、動作制御部３０は、帯状領域Ｐ１〜Ｐｚに対応する全てのオンオフデータの作成が終了したか否かを判定する（ステップＳ１２）。
【００５９】
全てのオンオフデータが作成が終了していない場合、動作制御部３０は、第１のデータ処理部２２にデータ作成信号ＳＡ１を与える（ステップＳ１３）。この場合、第１のデータ処理部２２が、帯状領域Ｐ３に対応するオンオフデータの作成を開始する。
【００６０】
次に、動作制御部３０は、第２のデータ処理部２４にオンオフ制御信号ＳＢ２を与えるとともに（ステップＳ１４）、動作信号ＳＤ２によりヘッド部４をヘッド移動部３１の一端部から他端部に移動させる（ステップＳ１５）。この場合、第２のデータ処理部２４は、第２のバッファ２５に記憶されたオンオフデータ、すなわち帯状領域Ｐ２に対応するオンオフデータに基づいてオンオフ切替部６を制御する。
【００６１】
これにより、ヘッド部４がヘッド移動部３１の一端部から他端部に移動しつつ帯状領域Ｐ２に向けて所定のタイミングでレーザ光を出射する。その結果、帯状領域Ｐ２へのパターンの描画が行われる。
【００６２】
帯状領域Ｐ２へのパターンの描画中に、第１のデータ処理部２４により帯状領域Ｐ３に対応するオンオフデータの作成が継続して行われる。作成されたオンオフデータは、第１のバッファ２３に記憶される。この場合、以前に第１のバッファ２３に記憶されたオンオフデータ（帯状領域Ｐ１に対応するオンオフデータ）に新たに作成されたオンオフデータ（帯状領域Ｐ３に対応するオンオフデータ）が上書きされる。
【００６３】
次に、動作制御部３０は、動作信号ＳＤ２によりヘッド部４をヘッド移動部３１の他端部から一端部に移動させるとともに、動作信号ＳＤ２によりステージ駆動部２を制御し、ステージ１をＹ方向に帯状領域の幅分だけ移動させる。そして、制御部３０は、ステップＳ２の処理に戻る。
【００６４】
その後、動作制御部３０は、ステップＳ２〜Ｓ６，Ｓ１１〜Ｓ１５の処理を繰り返す。それにより、第１のデータ処理部２２が、帯状領域Ｐ３,Ｐ５，・・・,Ｐ（２ｎ−１），・・・に対応するオンオフデータを順に作成するとともに、そのオンオフデータに基づいてオンオフ切替部６の制御を行う。また、第２のデータ処理部２４が、帯状領域Ｐ４,Ｐ６,・・・,Ｐ（２ｎ），・・・に対応するオンオフデータを順に作成するとともに、そのオンオフデータに基づいてオンオフ切替部６の制御を行う。ここで、ｎは１以上の整数である。
【００６５】
そして、図６のステップＳ３において、全てのオンオフデータのオンオフデータの作成が終了すると、動作制御部３０は、第１のデータ処理部２２にオンオフ制御信号ＳＢ１を与えるとともに（ステップＳ７）、動作信号ＳＤ２によりヘッド部４をヘッド移動部３１の一端部から他端部に移動させる（ステップＳ８）。
【００６６】
この場合、直前のステップＳ２において、第１のデータ処理部２２により帯状領域Ｐｚに対応するオンオフデータの作成が終了する。第１のデータ処理部２２は、そのオンオフデータに基づいてオンオフ切替部６を制御する。そして、帯状領域Ｐｚへのパターンの描画が行われる（図４（ｅ）参照）。これにより、動作制御部３０の制御動作が終了する。
【００６７】
また、図７のステップＳ１２において、全てのオンオフデータのオンオフデータの作成が終了すると、動作制御部３０は、第２のデータ処理部２４にオンオフ制御信号ＳＢ２を与えるとともに（ステップＳ１６）、動作信号ＳＤ２によりヘッド部４をヘッド移動部３１の一端部から他端部に移動させる（ステップＳ１７）。
【００６８】
この場合、直前のステップＳ１１において、第２のデータ処理部２４により帯状領域Ｐｚに対応するオンオフデータの作成が終了する。第２のデータ処理部２４は、そのオンオフデータに基づいてオンオフ切替部６を制御する。そして、帯状領域Ｐｚへのパターンの描画が行われる（図４（ｅ）参照）。これにより、動作制御部３０の制御動作が終了する。
【００６９】
（４）効果
本実施の形態では、オンオフデータの作成およびオンオフ切替部６の制御が、帯状領域への描画毎に第１および第２のデータ処理部２２，２４により交互に行われる。この場合、第１および第２のデータ処理部２２，２４の一方によってオンオフ切替部６が制御される期間に、第１および第２のデータ処理部２２，２４の他方によって次に描画を行うべき帯状領域に対応するオンオフデータが作成される。
【００７０】
これにより、各帯状領域への描画後において、オンオフデータの作成のための待機時間を大幅に低減することができる。したがって、複数の帯状領域への描画を連続的に進めることができる。具体的には、ヘッド部４をヘッド移動部３１の一端部から他端部に移動させて１つの帯状領域への描画を行った直後に、ヘッド部４をヘッド移動部３１の他端部から一端部に迅速に移動させ、隣接する帯状領域への描画を開始することができる。その結果、パターンの描画時間を大幅に短縮することができる。
【００７１】
（５）他の動作例
上記実施の形態では、ヘッド部４がＸ方向に沿った一方向に移動するときにヘッド部４からレーザ光が出射され、ヘッド部４がその逆方向に移動するときにはヘッド部４からのレーザ光の出射が停止されるが、本発明はこれに限定されない。
【００７２】
図８および図９は、描画装置１００の他の動作例について説明するための模式的平面図である。
【００７３】
まず、図８（ａ）に示すように、上記実施の形態と同様に、ヘッド部４がヘッド移動部３１の一端部から他端部に移動しつつ所定のタイミングでマスクブランクス１０に向けてレーザ光を出射する。これにより、マスクブランクス１０上の帯状領域Ｐ１にパターンの描画が行われる。
【００７４】
この場合、第１のデータ処理部２２（図５）によりオンオフ切替部６が制御される。また、帯状領域Ｐ１へのパターンの描画中に、第２のデータ処理部２４（図５）により、次に描画を行うべき帯状領域Ｐ２に対応するオンオフデータが作成される。
【００７５】
続いて、図８（ｂ）に示すように、ヘッド部４がヘッド移動部３１の他端部に位置する状態で、ステージ１が帯状領域Ｐ１の幅分だけＹ方向に移動する。
【００７６】
そして、図９（ｃ）に示すように、ヘッド部４がヘッド移動部３１の他端部から一端部に移動しつつ所定のタイミングでマスクブランクス１０に向けてレーザ光を出射する。これにより、マスクブランクス１０上の帯状領域Ｐ２にパターンの描画が行われる。
【００７７】
この場合、第２のデータ処理部２４によりオンオフ切替部６が制御される。また、帯状領域Ｐ２へのパターンの描画中に、第１のデータ処理部２２により、次に描画を行うべき帯状領域Ｐ３に対応するオンオフデータが作成される。
【００７８】
その後、図９（ｄ）に示すように、ヘッド部４がヘッド移動部３１の一端部から他端部に移動しつつ所定のタイミングでレーザ光を出射することにより、帯状領域Ｐ３へのパターンの描画が行われる。
【００７９】
上記のようにして、ヘッド部４がヘッド移動部３１の他端部から一端部に移動しつつ所定のタイミングでレーザ光を出射することにより、帯状領域Ｐ４，Ｐ６，・・・，Ｐ２ｎへの描画が行われる。この場合、第２のデータ処理部２４によりオンオフ切替部６が制御され、第１のデータ処理部２２により、次に描画を行うべき帯状領域に対応するオンオフデータが作成される。
【００８０】
また、ヘッド部４がヘッド移動部３１の一端部から他端部に移動しつつ所定のタイミングでレーザ光を出射することにより、帯状領域Ｐ５，ｐ７，・・・，Ｐ（２ｎ−１）への描画が行われる。この場合、第１のデータ処理部２２によりオンオフ切替部６が制御され、第２のデータ処理部２４により、次に描画を行うべき帯状領域に対応するオンオフデータが作成される。
【００８１】
このように、本例においては、ヘッド部４がＸ方向に沿った一方向に移動するときおよび逆方向に移動するときの両方において、ヘッド部４からレーザ光が出射され、パターンの描画が行われる。なお、本例では、ヘッド部４がヘッド移動部３１の一端部から他端部に移動する期間およびヘッド部４がヘッド移動部３１の他端部から一端部に移動する期間の両方が描画期間に相当する。
【００８２】
本例においても、第１および第２のデータ処理部２２，２４の一方によってオンオフ切替部６が制御される期間に、第１および第２のデータ処理部２２，２４の他方によって次に描画を行うべき帯状領域に対応するオンオフデータが作成される。それにより、各帯状領域への描画後において、オンオフデータの作成のための待機時間を大幅に低減することができる。
【００８３】
したがって、ヘッド部４をヘッド移動部３１の一端部から他端部に移動させて１つの帯状領域への描画を行った直後に、ヘッド部４をヘッド移動部３１の他端部から一端部に移動させて次の帯状領域への描画を行うことができる。それにより、帯状領域への描画毎にヘッド部４をヘッド移動部３１の一端部に戻す場合に比べて、描画効率をさらに向上することができる。
【００８４】
（６）他の実施の形態
上記実施の形態では、第１のデータ処理部２２により作成されたオンオフデータが第１のバッファ２３に記憶され、第２のデータ処理部２４により作成されたオンオフデータが第２のバッファ２５に記憶されるが、第１のデータ処理部２２により作成されたオンオフデータおよび第２のデータ処理部２４により作成されたオンオフデータが共通のバッファに記憶されてもよい。この場合、共通のバッファとして例えばＦＩＦＯ（first in, first out）メモリを用いてもよい。
【００８５】
また、上記実施の形態では、第１のデータ処理部２２および第２のデータ処理部２４によりオンオフデータの作成およびオンオフ切替部６の制御が交互に行われるが、３つ以上の複数のデータ処理部を設けて、その３つ以上の複数のデータ処理部により順にオンオフデータの作成およびオンオフ切替部６の制御を行ってもよい。
【００８６】
この場合、１つの帯状領域に対応するオンオフデータの作成時間が１つの帯状領域への描画時間より長くても、複数の帯状領域への描画を連続的に行うことができる。
【００８７】
（７） 請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応関係
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
【００８８】
Ｘ方向が第１の方向の例であり、Ｙ方向が第２の方向の例であり、ヘッド部４がレーザ光出射部の例であり、キャリッジ３およびヘッド部４が第１の移動機構の例であり、ステージ駆動部２が第２の移動機構の例であり、第１および第２のデータ処理部２２，２４がデータ処理部の例であり、オンオフ切替部６が切替部の例であり、動作制御部３０が制御手段の例である。
【００８９】
請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の要素を用いることもできる。
【産業上の利用可能性】
【００９０】
本発明は、種々のマスクブランクスへのパターンの描画に有効に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００９１】
【図１】本実施の形態に係る描画装置の構成を示す模式図である。
【図２】描画装置の動作について説明するための模式的平面図である。
【図３】描画装置の動作について説明するための模式的平面図である。
【図４】描画装置の動作について説明するための模式的平面図である。
【図５】描画装置の制御系について説明するためのブロック図である。
【図６】動作制御部の制御動作の一例を示すフローチャートである。
【図７】動作制御部の制御動作の一例を示すフローチャートである。
【図８】描画装置の他の動作例について説明するための模式的平面図である。
【図９】描画装置の他の動作例について説明するための模式的平面図である。
【符号の説明】
【００９２】
１ ステージ
２ ステージ駆動部
３ キャリッジ
４ ヘッド部
５ レーザ光発生部
６ オンオフ切替部
７ 制御部
１０ マスクブランクス
２０ オンオフ制御部
２１ 記憶部
２２ 第１のデータ処理部
２３ 第１のバッファ
２４ 第２のデータ処理部
２５ 第２のバッファ
３０ 動作制御部
３１ ヘッド移動部
１００ 描画装置
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトマスクの製造のために、マスクブランクスにパターンを描画する描画装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、フォトマスクの製造には、レーザ光によりマスクブランクスにパターンの描画を行う描画装置が用いられる（例えば特許文献１参照）。描画装置は、一方向（以下、Ｙ方向と呼ぶ）に移動可能なステージを有する。ステージの上方には、レーザ光を出射するためのヘッド部がＹ方向に垂直な一方向（以下、Ｘ方向と呼ぶ）に移動可能に設けられる。
【０００３】
ステージ上にマスクブランクスが固定される。その状態で、ヘッド部がＸ方向に移動しつつ所定のタイミングでマスクブランクスに向けてレーザ光を出射する。これにより、マスクブランクス上のＸ方向に沿った一定幅の領域においてパターンの描画が行われる。
【０００４】
次いで、ステージがＹ方向に沿って移動することにより、マスクブランクスの位置がＹ方向にずらされる。その状態で、上記同様にヘッド部がＸ方向に移動しつつ所定のタイミングでマスクブランクスに向けてレーザ光を出射する。これにより、上記の一定幅の領域と隣接する他の一定幅の領域において、パターンの描画が行われる。
【０００５】
このように、Ｘ方向に沿った一定幅の領域において描画を行う毎に、マスクブランクスの位置をＹ方向にずらすことにより、マスクブランクスの全面において描画を行うことができる。
【特許文献１】特開２００２−２４４２７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
一般的に、マスクブランクスへのパターンの描画時には、一定幅の領域毎にデータ処理が行われる。具体的には、例えば描画すべきパターンの全体がビットマップ形式の描画データとして表される。その描画データに基づいて、レーザ光の出射のオンオフを表す論理値“１”および論理値“０”からなるデータ（以下、オンオフデータと呼ぶ）が一定幅の領域毎に作成される。なお、描画データは、レーザ光のビーム径、ビーム強度、描画領域の幅等、描画に関する種々のパラメータの値を含む場合もある。
【０００７】
従来技術では、１つの一定幅の領域に描画が行われた後、次に描画を行うべき一定幅の領域に対応するオンオフデータが作成される。この場合、オンオフデータを作成する期間には描画を進めることができない。そのため、例えばレーザ光の出射を停止した状態で、ヘッド部の位置合わせを意図的に低速で行ったり、ヘッド部を一定の経路内で繰り返し移動させたりする。そして、オンオフデータの作成が完了すると、次の一定幅の領域への描画が開始される。
【０００８】
このように、１つの一定幅の領域への描画毎に、描画を停止して次のストライプ状の領域に対応するオンオフデータを作成する必要がある。そのため、連続的に描画を進めることが困難となり、描画時間が増加する。
【０００９】
本発明の目的は、パターンの描画時間を短縮することが可能な描画装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
（１）本発明に係る描画装置は、レーザ光によりマスクブランクスにパターンの描画を行う描画装置であって、レーザ光を出射するためのレーザ光出射部と、レーザ光出射部を第１の方向およびその逆方向に往復移動させる第１の移動機構と、レーザ光出射部とマスクブランクスとを第１の方向と交差する第２の方向に相対的に移動させる第２の移動機構と、パターンに対応する描画データに基づいてレーザ光の出射および非出射を切り替えるためのオンオフデータを作成する複数のデータ処理部と、複数のデータ処理部のいずれかにより作成されたオンオフデータに基づいてレーザ光出射部によるレーザ光の出射および非出射を切り替える切替部と、第１および第２の移動機構ならびに複数のデータ処理部を制御する制御手段とを備え、レーザ光出射部の往路および復路の移動時間のうち少なくとも一方が描画期間に設定され、制御手段は、各描画期間において、複数のデータ処理部のうち一のデータ処理部により既に作成されたオンオフデータが切替部に出力されるとともに、複数のデータ処理部のうち他のデータ処理部により次の描画期間のオンオフデータが作成されるように複数のデータ処理部を制御するものである。
【００１１】
この描画装置においては、第１の移動機構によりレーザ光出射部が第１の方向およびその逆方向に往復移動し、第２の移動機構によりレーザ光出射部とマスクブランクスとが第１の方向と交差する第２の方向に相対的に移動する。
【００１２】
複数のデータの処理部によりパターンに対応する描画データに基づいてレーザ光の出射および非出射を切り替えるためのオンオフデータが作成される。複数のデータ処理部のいずれかにより作成されたオンオフデータに基づいて、切替部によりレーザ光出射部によるレーザ光の出射および非出射が切り替えられる。
【００１３】
各描画期間において、複数のデータ処理部のうち一のデータ処理部により既に作成されたオンオフデータが切替部に出力される。そのオンオフデータに基づいて切替部によりレーザ光の出射および非出射が切り替えられ、マスクブランクスへのパターンの描画が行われる。
【００１４】
また、各描画期間において、複数のデータ処理部のうち他のデータ処理部により次の描画期間のオンオフデータが作成される。そのため、各描画期間の終了後に次の描画期間のオンオフデータを作成する必要がない。それにより、各描画期間の終了後、次の描画期間に迅速に移行することができる。したがって、各描画期間の終了毎に次の描画期間のオンオフデータを作成する場合に比べて、パターンの描画時間を大幅に短縮することができる。
【００１５】
（２）複数のデータ処理部は、第１および第２のデータ処理部を含み、制御手段は、第１のデータ処理部によるオンオフデータの作成および第２のデータ処理部によるオンオフデータの出力と、第２のデータ処理部によるオンオフデータの作成および第１のデータ処理部によるオンオフデータの出力とが、描画期間ごとに交互に行われるように、第１および第２のデータ処理部を制御してもよい。
【００１６】
この場合、第１および第２のデータ処理部の一方により既に作成されたオンオフデータが切替部に出力される期間に、第１および第２のデータ処理部の他方により次の描画期間のオンオフデータが作成される。それにより、各描画期間の終了後、次の描画期間に迅速に移行することができる。したがって、簡単な構成で、パターンの描画時間を短縮することができる。
【００１７】
（３）レーザ光出射部の往路および復路の移動時間のうち一方が描画期間に設定され、レーザ光出射部の往路および復路の移動時間のうち他方が非描画期間に設定され、制御手段は、レーザ光出射部の往復移動ごとにレーザ光照射部とマスクブランクスとが相対的に第２の方向に移動し、各描画期間において、複数のデータ処理部のうち一のデータ処理部により既に作成されたオンオフデータが切替部に出力されるとともに、複数のデータ処理部のうち他のデータ処理部により次の描画期間のオンオフデータが作成され、各非描画期間において、レーザ光出射部によりレーザ光が出射されないように、第１および第２の移動機構ならびに複数のデータ処理部を制御してもよい。
【００１８】
この場合、レーザ光出射部の往路および復路の移動時間のうち一方においては、マスクブランクスへのパターンの描画が行われ、レーザ光出射部の往路および復路の移動時間のうち他方においては、マスクブランクスへのパターンの描画が行われない。
【００１９】
各描画期間においては、複数のデータ処理部のうち一のデータ処理部により既に作成されたオンオフデータが切替部に出力されるとともに、複数のデータ処理部のうち他のデータ処理部により次の描画期間のオンオフデータが作成される。そのため、各描画期間の終了後に次の描画期間のオンオフデータを作成する必要がない。したがって、各非描画期間においてレーザ光出射部を迅速に移動させることにより、次の描画期間に迅速に移行することができる。
【００２０】
（４）レーザ光出射部の往路および復路の移動時間がそれぞれ描画期間に設定され、制御手段は、レーザ光出射部の往路の移動および復路の移動ごとにレーザ光出射部とマスクブランクスとが相対的に第２の方向に移動し、各描画期間において、複数のデータ処理部のうち一のデータ処理部により既に作成されたオンオフデータが切替部に出力されるとともに、複数のデータ処理部のうち他のデータ処理部により次の描画期間のオンオフデータが作成されるように、第１および第２の移動機構ならびに複数のデータ処理部を制御してもよい。
【００２１】
この場合、レーザ光出射部の往路および復路の移動時間の両方において、マスクブランクスへのパターンの描画行われる。
【００２２】
各描画期間においては、複数のデータ処理部のうち一のデータ処理部により既に作成されたオンオフデータが切替部に出力されるとともに、複数のデータ処理部のうち他のデータ処理部により次の描画期間のオンオフデータが作成される。そのため、各描画期間の終了後に次の描画期間のオンオフデータを作成する必要がない。したがって、レーザ光出射部の往路および復路の移動時間の両方でパターンの描画を行うことにより、描画効率を十分に向上することができる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、各描画期間の終了後、次の描画期間に迅速に移行することができる。したがって、各描画期間の終了毎に次の描画期間のオンオフデータを作成する場合に比べて、パターンの描画時間を大幅に短縮することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、本発明の一実施の形態に係る描画装置について図面を参照しながら説明する。
【００２５】
（１）構成
図１は、本実施の形態に係る描画装置の構成を示す模式図である。図１において、水平面内で互いに直交する２方向をＸ方向およびＹ方向と定義する。
【００２６】
図１に示すように、描画装置１００は、ステージ１、ステージ駆動部２、キャリッジ３、ヘッド部４、レーザ光発生部５、オンオフ切替部６および制御部７を備える。
【００２７】
ステージ１上にマスクブランクス１０が固定される。マスクブランクス１０は、例えばガラス基板上にクロム（Ｃｒ）等からなる遮光性薄膜および感光性膜が順に形成された構成を有する。ステージ１は、ステージ駆動部２によりＹ方向に沿って移動する。
【００２８】
キャリッジ３は、ステージ１の上方でＸ方向に延びるヘッド移動部３１を保持する。キャリッジ３のヘッド移動部３１には、ヘッド部４が取り付けられる。ヘッド部４は、キャリッジ３のヘッド移動部３１に沿ってＸ方向に移動可能に構成される。
【００２９】
なお、本実施の形態では、ヘッド移動部３１の一端部から他端部へのヘッド部４の移動経路がヘッド部４（レーザ光出射部）の往路に相当し、ヘッド移動部３１の他端部から一端部へのヘッド部４の移動経路がヘッド部４（レーザ光出射部）の復路に相当する。
【００３０】
レーザ光発生部５は、例えばクリプトンイオンレーザを有し、レーザ光を発生する。そのレーザ光は、図示しない光学系および反射鏡によりオンオフ切替部６を通してヘッド部４に導かれ、ヘッド部４からステージ１上のマスクブランクス１０に向けて出射される。なお、ヘッド部４に導かれるレーザ光がビームスプリッタにより分離され、複数本のレーザ光がヘッド部４から出射されてもよい。
【００３１】
ヘッド部４からのレーザ光の出射のオンオフは、オンオフ切替部６により切り替えられる。
【００３２】
制御部７は、描画すべきパターンに対応する描画データに基づいてオンオフ切替部６を制御する。また、制御部７は、ヘッド部４の動作およびステージ駆動部２の動作をそれぞれ制御する。制御部７の詳細については後述する。
【００３３】
（２）動作
次に、図１に示した描画装置１００の動作の概要について説明する。図２〜図４は、描画装置１００の動作について説明するための模式的平面図である。
【００３４】
まず、図２（ａ）に示すように、ヘッド部４の下方にマスクブランクス１０の端部が位置するように、ステージ１の位置が調整される。次に、図２（ｂ）に示すように、ヘッド部４がヘッド移動部３１の一端部から他端部に移動しつつ所定のタイミングでマスクブランクス１０に向けてレーザ光を出射する。これにより、Ｘ方向に沿ったマスクブランクス１０上の一定幅の領域（以下、帯状領域と呼ぶ）Ｐ１において、パターンの描画が行われる。
【００３５】
続いて、図３（ｃ）に示すように、ヘッド部４がレーザ光の出射を停止した状態でヘッド移動部３１の一端部に戻る。また、ステージ１が帯状領域Ｐ１の幅分だけＹ方向に移動する。
【００３６】
そして、図３（ｄ）に示すように、ヘッド部４が再びヘッド移動部３１の一端部から他端部に移動しつつ所定のタイミングでマスクブランクス１０に向けてレーザ光を出射する。これにより、帯状領域Ｐ１に隣接する帯状領域Ｐ２において、パターンの描画が行われる。
【００３７】
このようにして、帯状領域毎にパターンの描画が行われる。最終的に、図４（ｅ）に示すように、マスクブランクス１０の全面（帯状領域Ｐ１〜Ｐｚ）においてパターンの描画が行われる。ここで、Ｚは２以上の整数である。
【００３８】
なお、本例では、ヘッド部４がヘッド移動部３１の一端部から他端部に移動する期間が描画期間に相当し、ヘッド部４がヘッド移動部３１の他端部から一端部に移動する期間が非描画期間に相当する。
【００３９】
本実施の形態では、各帯状領域へのパターンの描画時に、その帯状領域に隣接する次に描画を行うべき帯状領域へのパターンの描画のためのデータ（オンオフデータ）を作成する。それにより、マスクブランクス１０へのパターンの描画を迅速に行うことが可能となる。以下、その詳細について説明する。
【００４０】
（３）制御系
（３−１）構成
図５は、描画装置１００の制御系について説明するためのブロック図である。図５に示すように、制御部７は、オンオフ制御部２０および動作制御部３０を含む。
【００４１】
オンオフ制御部２０は、記憶部２１、第１のデータ処理部２２、第１のバッファ２３、第２のデータ処理部２４および第２のバッファ２５を含む。
【００４２】
記憶部２１は、描画すべきパターンに対応する描画データを記憶する。描画データは、例えばビットマップ形式で表される。第１および第２のデータ処理部２２，２４は、記憶部２１に記憶される描画データに基づいて各帯状領域に対応するオンオフデータをそれぞれ作成し、作成したオンオフデータに基づいてオンオフ切替部６を制御する。オンオフデータは、例えばレーザ光の出射のオンオフを表す論理値“１”および論理値“０”からなる。なお、描画データは、レーザ光のビーム径、ビーム強度、描画領域の幅等、描画に関する種々のパラメータの値を含む場合もある。オンオフデータは、ヘッド部４の移動速度およびレーザ光のビーム径等を考慮して作成される。
【００４３】
第１のデータ処理部２２により作成されたオンオフデータは、第１のバッファ２３に一時的に記憶され、第２のデータ処理部２４により作成されたオンオフデータは、第２のバッファ２５に一時的に記憶される。
【００４４】
動作制御部３０は、ステージ駆動部２に動作信号ＳＤ１を与えることによりステージ駆動部２の動作を制御し、ヘッド部４に動作信号ＳＤ２を与えることによりヘッド部４の動作を制御する。
【００４５】
また、動作制御部３０は、オンオフ制御部２０の第１のデータ処理部２２にデータ作成信号ＳＡ１およびオンオフ制御信号ＳＢ１を与える。第１のデータ処理部２２は、データ作成信号ＳＡ１に応答してオンオフデータの作成を開始し、オンオフ制御信号ＳＢ１に応答してオンオフ切替部６の制御を開始する。また、第１のデータ処理部２２は、オンオフデータの作成が終了したことを示す終了信号ＳＣ１を動作制御部３０に与える。
【００４６】
同様に、動作制御部３０は、オンオフ制御部２０の第２のデータ処理部２４にデータ作成信号ＳＡ２およびオンオフ制御信号ＳＢ２を与える。第２のデータ処理部２４は、データ作成信号ＳＡ２に応答してオンオフデータの作成を開始し、オンオフ制御信号ＳＢ２に応答してオンオフ切替部６の制御を開始する。また、第２のデータ処理部２４は、オンオフデータの作成が終了したことを示す終了信号ＳＣ２を動作制御部３０に与える。
【００４７】
本実施の形態において、第１および第２のデータ処理部２２，２４は、動作制御部３０からデータ作成信号ＳＡ１，ＳＡ２が与えられる毎に、帯状領域Ｐ１〜Ｐｚに対応するオンオフデータを順に作成する。
【００４８】
（３−２）動作
次に、パターンの描画時における動作制御部３０の制御動作について説明する。図６および図７は、動作制御部３０の制御動作の一例を示すフローチャートである。
【００４９】
まず、動作制御部３０は、第１のデータ処理部２２にデータ作成信号ＳＡ１を与える（ステップＳ１）。この場合、第１のデータ処理部２２が、帯状領域Ｐ１に対応するオンオフデータの作成を開始する。作成されたオンオフデータは、第１のバッファ２３に記憶される。
【００５０】
次に、動作制御部３０は、第１のデータ処理部２２からの終了信号ＳＣ１に基づいて、第１のデータ処理部２２においてオンオフデータの作成が終了したか否かを判定する（ステップＳ２）。第１のデータ処理部２２においてオンオフデータの作成が終了していない場合、動作制御部３０は、オンオフデータの作成が終了するまで待機する。
【００５１】
第１のデータ処理部２２においてオンオフデータの作成が終了すると、動作制御部３０は、帯状領域Ｐ１〜Ｐｚに対応する全てのオンオフデータの作成が終了したか否かを判定する（ステップＳ３）。
【００５２】
全てのオンオフデータの作成が終了していない場合、動作制御部３０は、第２のデータ処理部２４にデータ作成信号ＳＡ２を与える（ステップＳ４）。この場合、第２のデータ処理部２４が、帯状領域Ｐ２に対応するオンオフデータの作成を開始する。
【００５３】
次に、動作制御部３０は、第１のデータ処理部２２にオンオフ制御信号ＳＢ１を与えるとともに（ステップＳ５）、動作信号ＳＤ２によりヘッド部４をヘッド移動部３１の一端部から他端部に移動させる（ステップＳ６）。この場合、第１のデータ処理部２２は、第１のバッファ２３に記憶されたオンオフデータ、すなわち帯状領域Ｐ１に対応するオンオフデータに基づいてオンオフ切替部６を制御する。
【００５４】
これにより、ヘッド部４がヘッド移動部３１の一端部から他端部に移動しつつ帯状領域Ｐ１に向けて所定のタイミングでレーザ光を出射する（図２（ｂ）参照）。その結果、帯状領域Ｐ１へのパターンの描画が行われる。
【００５５】
帯状領域Ｐ１へのパターンの描画中に、第２のデータ処理部２４により帯状領域Ｐ２に対応するオンオフデータの作成が継続して行われる。作成されたオンオフデータは、第２のバッファ２５に記憶される。
【００５６】
次に、動作制御部３０は、動作信号ＳＤ２によりヘッド部４をヘッド移動部３１の他端部から一端部に移動させるとともに、動作信号ＳＤ１によりステージ駆動部２を制御し、ステージ１をＹ方向に帯状領域の幅分だけ移動させる（図３（ａ）参照）。
【００５７】
次に、図７に示すように、動作制御部３０は、第２のデータ処理部２４からの終了信号ＳＣ２に基づいて、第２のデータ処理部２４においてオンオフデータの作成が終了したか否かを判定する（ステップＳ１１）。オンオフデータの作成が終了していない場合、動作制御部３０はオンオフデータの作成が終了するまで待機する。
【００５８】
第２のデータ処理部２４においてオンオフデータの作成が終了すると、動作制御部３０は、帯状領域Ｐ１〜Ｐｚに対応する全てのオンオフデータの作成が終了したか否かを判定する（ステップＳ１２）。
【００５９】
全てのオンオフデータが作成が終了していない場合、動作制御部３０は、第１のデータ処理部２２にデータ作成信号ＳＡ１を与える（ステップＳ１３）。この場合、第１のデータ処理部２２が、帯状領域Ｐ３に対応するオンオフデータの作成を開始する。
【００６０】
次に、動作制御部３０は、第２のデータ処理部２４にオンオフ制御信号ＳＢ２を与えるとともに（ステップＳ１４）、動作信号ＳＤ２によりヘッド部４をヘッド移動部３１の一端部から他端部に移動させる（ステップＳ１５）。この場合、第２のデータ処理部２４は、第２のバッファ２５に記憶されたオンオフデータ、すなわち帯状領域Ｐ２に対応するオンオフデータに基づいてオンオフ切替部６を制御する。
【００６１】
これにより、ヘッド部４がヘッド移動部３１の一端部から他端部に移動しつつ帯状領域Ｐ２に向けて所定のタイミングでレーザ光を出射する。その結果、帯状領域Ｐ２へのパターンの描画が行われる。
【００６２】
帯状領域Ｐ２へのパターンの描画中に、第１のデータ処理部２４により帯状領域Ｐ３に対応するオンオフデータの作成が継続して行われる。作成されたオンオフデータは、第１のバッファ２３に記憶される。この場合、以前に第１のバッファ２３に記憶されたオンオフデータ（帯状領域Ｐ１に対応するオンオフデータ）に新たに作成されたオンオフデータ（帯状領域Ｐ３に対応するオンオフデータ）が上書きされる。
【００６３】
次に、動作制御部３０は、動作信号ＳＤ２によりヘッド部４をヘッド移動部３１の他端部から一端部に移動させるとともに、動作信号ＳＤ２によりステージ駆動部２を制御し、ステージ１をＹ方向に帯状領域の幅分だけ移動させる。そして、制御部３０は、ステップＳ２の処理に戻る。
【００６４】
その後、動作制御部３０は、ステップＳ２〜Ｓ６，Ｓ１１〜Ｓ１５の処理を繰り返す。それにより、第１のデータ処理部２２が、帯状領域Ｐ３,Ｐ５，・・・,Ｐ（２ｎ−１），・・・に対応するオンオフデータを順に作成するとともに、そのオンオフデータに基づいてオンオフ切替部６の制御を行う。また、第２のデータ処理部２４が、帯状領域Ｐ４,Ｐ６,・・・,Ｐ（２ｎ），・・・に対応するオンオフデータを順に作成するとともに、そのオンオフデータに基づいてオンオフ切替部６の制御を行う。ここで、ｎは１以上の整数である。
【００６５】
そして、図６のステップＳ３において、全てのオンオフデータのオンオフデータの作成が終了すると、動作制御部３０は、第１のデータ処理部２２にオンオフ制御信号ＳＢ１を与えるとともに（ステップＳ７）、動作信号ＳＤ２によりヘッド部４をヘッド移動部３１の一端部から他端部に移動させる（ステップＳ８）。
【００６６】
この場合、直前のステップＳ２において、第１のデータ処理部２２により帯状領域Ｐｚに対応するオンオフデータの作成が終了する。第１のデータ処理部２２は、そのオンオフデータに基づいてオンオフ切替部６を制御する。そして、帯状領域Ｐｚへのパターンの描画が行われる（図４（ｅ）参照）。これにより、動作制御部３０の制御動作が終了する。
【００６７】
また、図７のステップＳ１２において、全てのオンオフデータのオンオフデータの作成が終了すると、動作制御部３０は、第２のデータ処理部２４にオンオフ制御信号ＳＢ２を与えるとともに（ステップＳ１６）、動作信号ＳＤ２によりヘッド部４をヘッド移動部３１の一端部から他端部に移動させる（ステップＳ１７）。
【００６８】
この場合、直前のステップＳ１１において、第２のデータ処理部２４により帯状領域Ｐｚに対応するオンオフデータの作成が終了する。第２のデータ処理部２４は、そのオンオフデータに基づいてオンオフ切替部６を制御する。そして、帯状領域Ｐｚへのパターンの描画が行われる（図４（ｅ）参照）。これにより、動作制御部３０の制御動作が終了する。
【００６９】
（４）効果
本実施の形態では、オンオフデータの作成およびオンオフ切替部６の制御が、帯状領域への描画毎に第１および第２のデータ処理部２２，２４により交互に行われる。この場合、第１および第２のデータ処理部２２，２４の一方によってオンオフ切替部６が制御される期間に、第１および第２のデータ処理部２２，２４の他方によって次に描画を行うべき帯状領域に対応するオンオフデータが作成される。
【００７０】
これにより、各帯状領域への描画後において、オンオフデータの作成のための待機時間を大幅に低減することができる。したがって、複数の帯状領域への描画を連続的に進めることができる。具体的には、ヘッド部４をヘッド移動部３１の一端部から他端部に移動させて１つの帯状領域への描画を行った直後に、ヘッド部４をヘッド移動部３１の他端部から一端部に迅速に移動させ、隣接する帯状領域への描画を開始することができる。その結果、パターンの描画時間を大幅に短縮することができる。
【００７１】
（５）他の動作例
上記実施の形態では、ヘッド部４がＸ方向に沿った一方向に移動するときにヘッド部４からレーザ光が出射され、ヘッド部４がその逆方向に移動するときにはヘッド部４からのレーザ光の出射が停止されるが、本発明はこれに限定されない。
【００７２】
図８および図９は、描画装置１００の他の動作例について説明するための模式的平面図である。
【００７３】
まず、図８（ａ）に示すように、上記実施の形態と同様に、ヘッド部４がヘッド移動部３１の一端部から他端部に移動しつつ所定のタイミングでマスクブランクス１０に向けてレーザ光を出射する。これにより、マスクブランクス１０上の帯状領域Ｐ１にパターンの描画が行われる。
【００７４】
この場合、第１のデータ処理部２２（図５）によりオンオフ切替部６が制御される。また、帯状領域Ｐ１へのパターンの描画中に、第２のデータ処理部２４（図５）により、次に描画を行うべき帯状領域Ｐ２に対応するオンオフデータが作成される。
【００７５】
続いて、図８（ｂ）に示すように、ヘッド部４がヘッド移動部３１の他端部に位置する状態で、ステージ１が帯状領域Ｐ１の幅分だけＹ方向に移動する。
【００７６】
そして、図９（ｃ）に示すように、ヘッド部４がヘッド移動部３１の他端部から一端部に移動しつつ所定のタイミングでマスクブランクス１０に向けてレーザ光を出射する。これにより、マスクブランクス１０上の帯状領域Ｐ２にパターンの描画が行われる。
【００７７】
この場合、第２のデータ処理部２４によりオンオフ切替部６が制御される。また、帯状領域Ｐ２へのパターンの描画中に、第１のデータ処理部２２により、次に描画を行うべき帯状領域Ｐ３に対応するオンオフデータが作成される。
【００７８】
その後、図９（ｄ）に示すように、ヘッド部４がヘッド移動部３１の一端部から他端部に移動しつつ所定のタイミングでレーザ光を出射することにより、帯状領域Ｐ３へのパターンの描画が行われる。
【００７９】
上記のようにして、ヘッド部４がヘッド移動部３１の他端部から一端部に移動しつつ所定のタイミングでレーザ光を出射することにより、帯状領域Ｐ４，Ｐ６，・・・，Ｐ２ｎへの描画が行われる。この場合、第２のデータ処理部２４によりオンオフ切替部６が制御され、第１のデータ処理部２２により、次に描画を行うべき帯状領域に対応するオンオフデータが作成される。
【００８０】
また、ヘッド部４がヘッド移動部３１の一端部から他端部に移動しつつ所定のタイミングでレーザ光を出射することにより、帯状領域Ｐ５，ｐ７，・・・，Ｐ（２ｎ−１）への描画が行われる。この場合、第１のデータ処理部２２によりオンオフ切替部６が制御され、第２のデータ処理部２４により、次に描画を行うべき帯状領域に対応するオンオフデータが作成される。
【００８１】
このように、本例においては、ヘッド部４がＸ方向に沿った一方向に移動するときおよび逆方向に移動するときの両方において、ヘッド部４からレーザ光が出射され、パターンの描画が行われる。なお、本例では、ヘッド部４がヘッド移動部３１の一端部から他端部に移動する期間およびヘッド部４がヘッド移動部３１の他端部から一端部に移動する期間の両方が描画期間に相当する。
【００８２】
本例においても、第１および第２のデータ処理部２２，２４の一方によってオンオフ切替部６が制御される期間に、第１および第２のデータ処理部２２，２４の他方によって次に描画を行うべき帯状領域に対応するオンオフデータが作成される。それにより、各帯状領域への描画後において、オンオフデータの作成のための待機時間を大幅に低減することができる。
【００８３】
したがって、ヘッド部４をヘッド移動部３１の一端部から他端部に移動させて１つの帯状領域への描画を行った直後に、ヘッド部４をヘッド移動部３１の他端部から一端部に移動させて次の帯状領域への描画を行うことができる。それにより、帯状領域への描画毎にヘッド部４をヘッド移動部３１の一端部に戻す場合に比べて、描画効率をさらに向上することができる。
【００８４】
（６）他の実施の形態
上記実施の形態では、第１のデータ処理部２２により作成されたオンオフデータが第１のバッファ２３に記憶され、第２のデータ処理部２４により作成されたオンオフデータが第２のバッファ２５に記憶されるが、第１のデータ処理部２２により作成されたオンオフデータおよび第２のデータ処理部２４により作成されたオンオフデータが共通のバッファに記憶されてもよい。この場合、共通のバッファとして例えばＦＩＦＯ（first in, first out）メモリを用いてもよい。
【００８５】
また、上記実施の形態では、第１のデータ処理部２２および第２のデータ処理部２４によりオンオフデータの作成およびオンオフ切替部６の制御が交互に行われるが、３つ以上の複数のデータ処理部を設けて、その３つ以上の複数のデータ処理部により順にオンオフデータの作成およびオンオフ切替部６の制御を行ってもよい。
【００８６】
この場合、１つの帯状領域に対応するオンオフデータの作成時間が１つの帯状領域への描画時間より長くても、複数の帯状領域への描画を連続的に行うことができる。
【００８７】
（７） 請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応関係
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
【００８８】
Ｘ方向が第１の方向の例であり、Ｙ方向が第２の方向の例であり、ヘッド部４がレーザ光出射部の例であり、キャリッジ３およびヘッド部４が第１の移動機構の例であり、ステージ駆動部２が第２の移動機構の例であり、第１および第２のデータ処理部２２，２４がデータ処理部の例であり、オンオフ切替部６が切替部の例であり、動作制御部３０が制御手段の例である。
【００８９】
請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の要素を用いることもできる。
【産業上の利用可能性】
【００９０】
本発明は、種々のマスクブランクスへのパターンの描画に有効に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００９１】
【図１】本実施の形態に係る描画装置の構成を示す模式図である。
【図２】描画装置の動作について説明するための模式的平面図である。
【図３】描画装置の動作について説明するための模式的平面図である。
【図４】描画装置の動作について説明するための模式的平面図である。
【図５】描画装置の制御系について説明するためのブロック図である。
【図６】動作制御部の制御動作の一例を示すフローチャートである。
【図７】動作制御部の制御動作の一例を示すフローチャートである。
【図８】描画装置の他の動作例について説明するための模式的平面図である。
【図９】描画装置の他の動作例について説明するための模式的平面図である。
【符号の説明】
【００９２】
１ ステージ
２ ステージ駆動部
３ キャリッジ
４ ヘッド部
５ レーザ光発生部
６ オンオフ切替部
７ 制御部
１０ マスクブランクス
２０ オンオフ制御部
２１ 記憶部
２２ 第１のデータ処理部
２３ 第１のバッファ
２４ 第２のデータ処理部
２５ 第２のバッファ
３０ 動作制御部
３１ ヘッド移動部
１００ 描画装置
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光によりマスクブランクスにパターンの描画を行う描画装置であって、
レーザ光を出射するためのレーザ光出射部と、
前記レーザ光出射部を第１の方向およびその逆方向に往復移動させる第１の移動機構と、
前記レーザ光出射部と前記マスクブランクスとを前記第１の方向と交差する第２の方向に相対的に移動させる第２の移動機構と、
前記パターンに対応する描画データに基づいてレーザ光の出射および非出射を切り替えるためのオンオフデータを作成する複数のデータ処理部と、
前記複数のデータ処理部のいずれかにより作成されたオンオフデータに基づいて前記レーザ光出射部によるレーザ光の出射および非出射を切り替える切替部と、
前記第１および第２の移動機構ならびに前記複数のデータ処理部を制御する制御手段とを備え、
前記レーザ光出射部の往路および復路の移動時間のうち少なくとも一方が描画期間に設定され、
前記制御手段は、各描画期間において、前記複数のデータ処理部のうち一のデータ処理部により既に作成されたオンオフデータが前記切替部に出力されるとともに、前記複数のデータ処理部のうち他のデータ処理部により次の描画期間のオンオフデータが作成されるように前記複数のデータ処理部を制御することを特徴とする描画装置。
【請求項２】
前記複数のデータ処理部は、第１および第２のデータ処理部を含み、
前記制御手段は、前記第１のデータ処理部によるオンオフデータの作成および前記第２のデータ処理部によるオンオフデータの出力と、前記第２のデータ処理部によるオンオフデータの作成および前記第１のデータ処理部によるオンオフデータの出力とが、描画期間ごとに交互に行われるように、前記複数のデータ処理部を制御することを特徴とする請求項１記載の描画装置。
【請求項３】
前記レーザ光出射部の往路および復路の移動時間のうち一方が描画期間に設定され、前記レーザ光出射部の往路および復路の移動時間のうち他方が非描画期間に設定され、
前記制御手段は、前記レーザ光出射部の往復移動ごとに前記レーザ光出射部と前記マスクブランクスとが相対的に前記第２の方向に移動し、各描画期間において、前記複数のデータ処理部のうち一のデータ処理部により既に作成されたオンオフデータが前記切替部に出力されるとともに、前記複数のデータ処理部のうち他のデータ処理部により次の描画期間のオンオフデータが作成され、各非描画期間において、前記レーザ光出射部によりレーザ光が出射されないように、前記第１および第２の移動機構ならびに前記複数のデータ処理部を制御することを特徴とする請求項１または２記載の描画装置。
【請求項４】
前記レーザ光出射部の往路および復路の移動時間がそれぞれ描画期間に設定され、
前記制御手段は、前記レーザ光出射部の往路の移動および復路の移動ごとに前記レーザ光出射部と前記マスクブランクスとが相対的に前記第２の方向に移動し、各描画期間において、前記複数のデータ処理部のうち一のデータ処理部により既に作成されたオンオフデータが前記切替部に出力されるとともに、前記複数のデータ処理部のうち他のデータ処理部により次の描画期間のオンオフデータが作成されるように、前記第１および第２の移動機構ならびに前記複数のデータ処理部を制御することを特徴とする請求項１または２記載の描画装置。
【請求項１】
レーザ光によりマスクブランクスにパターンの描画を行う描画装置であって、
レーザ光を出射するためのレーザ光出射部と、
前記レーザ光出射部を第１の方向およびその逆方向に往復移動させる第１の移動機構と、
前記レーザ光出射部と前記マスクブランクスとを前記第１の方向と交差する第２の方向に相対的に移動させる第２の移動機構と、
前記パターンに対応する描画データに基づいてレーザ光の出射および非出射を切り替えるためのオンオフデータを作成する複数のデータ処理部と、
前記複数のデータ処理部のいずれかにより作成されたオンオフデータに基づいて前記レーザ光出射部によるレーザ光の出射および非出射を切り替える切替部と、
前記第１および第２の移動機構ならびに前記複数のデータ処理部を制御する制御手段とを備え、
前記レーザ光出射部の往路および復路の移動時間のうち少なくとも一方が描画期間に設定され、
前記制御手段は、各描画期間において、前記複数のデータ処理部のうち一のデータ処理部により既に作成されたオンオフデータが前記切替部に出力されるとともに、前記複数のデータ処理部のうち他のデータ処理部により次の描画期間のオンオフデータが作成されるように前記複数のデータ処理部を制御することを特徴とする描画装置。
【請求項２】
前記複数のデータ処理部は、第１および第２のデータ処理部を含み、
前記制御手段は、前記第１のデータ処理部によるオンオフデータの作成および前記第２のデータ処理部によるオンオフデータの出力と、前記第２のデータ処理部によるオンオフデータの作成および前記第１のデータ処理部によるオンオフデータの出力とが、描画期間ごとに交互に行われるように、前記複数のデータ処理部を制御することを特徴とする請求項１記載の描画装置。
【請求項３】
前記レーザ光出射部の往路および復路の移動時間のうち一方が描画期間に設定され、前記レーザ光出射部の往路および復路の移動時間のうち他方が非描画期間に設定され、
前記制御手段は、前記レーザ光出射部の往復移動ごとに前記レーザ光出射部と前記マスクブランクスとが相対的に前記第２の方向に移動し、各描画期間において、前記複数のデータ処理部のうち一のデータ処理部により既に作成されたオンオフデータが前記切替部に出力されるとともに、前記複数のデータ処理部のうち他のデータ処理部により次の描画期間のオンオフデータが作成され、各非描画期間において、前記レーザ光出射部によりレーザ光が出射されないように、前記第１および第２の移動機構ならびに前記複数のデータ処理部を制御することを特徴とする請求項１または２記載の描画装置。
【請求項４】
前記レーザ光出射部の往路および復路の移動時間がそれぞれ描画期間に設定され、
前記制御手段は、前記レーザ光出射部の往路の移動および復路の移動ごとに前記レーザ光出射部と前記マスクブランクスとが相対的に前記第２の方向に移動し、各描画期間において、前記複数のデータ処理部のうち一のデータ処理部により既に作成されたオンオフデータが前記切替部に出力されるとともに、前記複数のデータ処理部のうち他のデータ処理部により次の描画期間のオンオフデータが作成されるように、前記第１および第２の移動機構ならびに前記複数のデータ処理部を制御することを特徴とする請求項１または２記載の描画装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２０１０−４５２４１（Ｐ２０１０−４５２４１Ａ）
【公開日】平成２２年２月２５日（２０１０．２．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−２０８９５８（Ｐ２００８−２０８９５８）
【出願日】平成２０年８月１４日（２００８．８．１４）
【出願人】（３０２００３２４４）株式会社エスケーエレクトロニクス (31)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年２月２５日（２０１０．２．２５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年８月１４日（２００８．８．１４）
【出願人】（３０２００３２４４）株式会社エスケーエレクトロニクス (31)
【Ｆターム（参考）】
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