説明

殺菌消毒剤

【課題】 優れた殺菌活性を有し、医療および環境の殺菌消毒剤として好適な、第4級アンモニウム塩型化合物からなる殺菌消毒剤を提供する。
【解決手段】 下記一般式(1)で表される第4級アンモニウム塩の1種または2種以上を含有する殺菌消毒剤。
【化1】


(式中、R1 は炭素数8〜14のアルキル基を表し、R2 およびR3 はそれぞれ炭素数1〜2のアルキル基を表し、 [B] は2個の1価の無機性または有機性のアニオン基または1個の2価の無機性または有機性のアニオン基を表す。)

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、塩化ベンザルコニウムやグルコン酸クロルヘキシジンに代わる殺菌活性を有する新規な化合物による医療および環境の殺菌消毒剤に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来より、殺菌消毒剤には、ガス系のエチレンオキシドなど、アルデヒド系のグルタルアルデヒドなど、アルコール系のエタノールなど、過酸化物系の過酸化水素など、ヨード系のヨードチンキやヨードホルムなど、塩素化合物系の次亜塩素酸やクロラミンなど、フェノール系のフェノール石鹸などがある。しかし、いずれの殺菌消毒剤にも臭気、刺激性や毒性があったり、容器や器具に対する作用などに欠点があり、目的に応じた使い分けがなされている。一方、塩化ベンザルコニウムなどで代表される第4級アンモニウム塩、両性界面活性剤の塩酸アルキルジアミノエチルグリシンなどやビグアニド系のグルコン酸クロルヘキシジンなどは、無臭で毒性および刺激性が低く、容器や器具に対する作用も小さく、良好な殺菌活性を有することから、多種多様な分野で使われている。特に、ビグアニド系殺菌消毒薬のグルコン酸クロルヘキシジンは、優れた殺菌効力を持つため多用され、殺菌消毒剤に対して抵抗性を有する多くの薬剤耐性菌株が発見されており、これまでにMRSA(メチシリン耐性黄色ぶどう球菌)による院内感染が問題となったように今後これら薬剤耐性微生物による日和見感染が危惧される。
【0003】しかし、グルコン酸クロルヘキシジンは塩化ベンザルコニウムや塩酸アルキルジアミノエチルグリシンより薬剤耐性菌株の出現率が高いにもかかわらず、これに優る殺菌消毒剤がないのが現状である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、従来の塩化ベンザルコニウム、塩酸アルキルジアミノエチルグリシンおよびグルコン酸クロルヘキシジンより優れた殺菌活性を有し、医療および環境の殺菌消毒剤として好適な第4級アンモニウム塩型化合物からなる殺菌消毒剤を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】この発明の発明者等は、上記課題を解決するため鋭意研究を重ねた結果、化合物中に2個のカチオン基を有する第4級アンモニウム塩に高い殺菌活性を見出し、この知見に基づきこの発明を完成するに至った。すなわち、この発明は、下記一般式(1)
【0006】
【化20】


【0007】(式中、R1 は炭素数8〜14のアルキル基を表し、R2 およびR3 はそれぞれ炭素数1〜2のアルキル基を表し、 [B] は2個の1価の無機性または有機性のアニオン基または1個の2価の無機性または有機性のアニオン基を表す。)で表される第4級アンモニウム塩の1種または2種以上を含有する殺菌消毒剤を提供する。
【0008】上記一般式の(1)で表される化合物は、これまで、文献等に記載されていない新規な化合物である。
【0009】
【発明の実施の形態】本発明において、前記無機性または有機性のアニオン基 [B] は、硫酸イオン、リン酸イオン、亜リン酸イオン、次亜リン酸イオン、硝酸イオン、亜硝酸イオン、塩素酸イオン、亜塩素酸イオン、次亜塩素酸イオンまたは下記一般式(2)〜(8)で表されるアニオン基のいずれかであるのが好ましい。
【0010】
【化21】


【0011】(式中、Xは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。)
【0012】
【化22】


【0013】(式中、R4 は水酸基またはカルボニル基を有していてもよい炭素数1〜7のアルキル基またはアルケニル基を表す。)
【0014】
【化23】


【0015】(式中、R5 は直接結合か、あるいは水酸基を有していてもよい炭素数1〜8のアルキレン基またはアルケニレン基を表す。)
【0016】
【化24】


【0017】(式中、R6 はそれぞれ炭素数1〜8のアルキル基を表し、このリン酸エステルアニオンはモノエステル体あるいはジエステル体の単独であっても、混合物であってもよい。)
【0018】
【化25】


【0019】(式中、R7 はそれぞれ炭素数1〜8のアルキル基を表し、このホスホン酸エステルアニオンはモノエステル体あるいはジエステル体の単独であっても、混合物であってもよい。)
【0020】
【化26】


【0021】(式中、R8 は炭素数1〜2のアルキル基を表す。)
【0022】
【化27】


【0023】(式中、R9 およびR10はそれぞれ水素原子、メチル基またはカルボキシル基を表す。)
この発明で用いられる前記一般式(1)で表される第4級アンモニウム塩は、例えば、下記一般式(9)の4級化剤と下記一般式(10)の3級アミンとの反応により得られる。
【0024】
【化28】


【0025】(式中、Xは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。)
【0026】
【化29】


【0027】(式中、R1 は炭素数8〜14のアルキル基を表し、R2 およびR3 はそれぞれ炭素数1〜2のアルキル基を表す。)
上記一般式(9)の化合物としては、α,α′−ジクロロ−p−キシレン、α,α′−ジクロロ−m−キシレン、α,α′−ジクロロ−o−キシレン、α,α′−ジブロモ−p−キシレン、α,α′−ジブロモ−m−キシレン、α,α′−ジブロモ−o−キシレン、α,α′−ジヨード−p−キシレン、α,α′−ジヨード−m−キシレン、α,α′−ジヨード−o−キシレンなどのハロゲン化物が挙げられる。また、一般式(10)の化合物としては、N,N−ジメチル−オクチルアミン、N,N−ジメチル−ノニルアミン、N,N−ジメチル−デシルアミン、N,N−ジメチル−ウンデシルアミン、N,N−ジメチル−ドデシルアミン、N,N−ジメチル−トリデシルアミン、N,N−ジメチル−テトラデシルアミン、N,N−ジエチル−オクチルアミン、N,N−ジエチル−ノニルアミン、N,N−ジエチル−デシルアミン、N,N−ジエチル−ウンデシルアミン、N,N−ジエチル−ドデシルアミン、N,N−ジエチル−トリデシルアミン、N,N−ジエチル−テトラデシルアミンなどの3級アミンが挙げられ、好適には炭素数が10〜14である長鎖アルキル基を有する3級アミンが挙げられる。
【0028】また、一般式(1)で表される第4級アンモニウム塩は、下記一般式(11)の3級アミンと下記一般式(12)の4級化剤との反応によっても得られる。
【0029】
【化30】


【0030】(式中、R2 およびR3 はそれぞれ炭素数1〜2のアルキル基を表す。)
1 −X (12)
(式中、R1 は炭素数8〜14のアルキル基を表し、Xは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。)
上記一般式(11)の化合物としては、1,2−ビス(N,N−ジメチル−アミノメチル)ベンゼン、1,3−ビス(N,N−ジメチル−アミノメチル)ベンゼン、1,4−ビス(N,N−ジメチル−アミノメチル)ベンゼン、1,2−ビス(N,N−ジエチル−アミノメチル)ベンゼン、1,3−ビス(N,N−ジエチル−アミノメチル)ベンゼン、1,4−ビス(N,N−ジエチル−アミノメチル)ベンゼンなどの3級アミンが挙げられる。また、一般式(12)の化合物としては、塩化オクチル、塩化ノニル、塩化デシル、塩化ウンデシル、塩化ドデシル、塩化トリデシル、塩化テトラデシル、臭化オクチル、臭化ノニル、臭化デシル、臭化ウンデシル、臭化ドデシル、臭化トリデシル、臭化テトラデシル、ヨウ化オクチル、ヨウ化ノニル、ヨウ化デシル、ヨウ化ウンデシル、ヨウ化ドデシル、ヨウ化トリデシル、ヨウ化テトラデシルなどのハロゲン化アルキルが挙げられ、好適にはアルキル基の炭素数が10〜14のハロゲン化アルキルが挙げられる。
【0031】さらに、一般式(1)で表される第4級アンモニウム塩は、下記一般式(13)の3級アミンと下記一般式(14)の4級化剤との反応によっても得られる。
【0032】
【化31】


【0033】(式中、R1 は炭素数8〜14のアルキル基を表し、R2 は炭素数1〜2のアルキル基を表す。)
3 −Y (14)
(式中、R3 は炭素数1〜2のアルキル基を表し、Yは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子または下記一般式(15),(16)または(17)の基のいずれかを表す。)
【0034】
【化32】


【0035】(式中、R8 は炭素数1〜2のアルキル基を表す。)
【0036】
【化33】


【0037】(式中、R9 およびR10はそれぞれ水素原子またはメチル基を表す。)
【0038】
【化34】


【0039】(式中、R11は炭素数1〜2のアルキル基を表わす。)
上記一般式(13)の化合物としては、1,2−ビス(N−オクチル−N−メチルアミノメチル)ベンゼン、1,2−ビス(N−オクチル−N−エチルアミノメチル)ベンゼン、1,2−ビス(N−ノニル−N−メチルアミノメチル)ベンゼン、1,2−ビス(N−ノニル−N−エチルアミノメチル)ベンゼン、1,2−ビス(N−デシル−N−メチルアミノメチル)ベンゼン、1,2−ビス(N−デシル−N−エチルアミノメチル)ベンゼン、1,2−ビス(N−ウンデシル−N−メチルアミノメチル)ベンゼン、1,2−ビス(N−ウンデシル−N−エチルアミノメチル)ベンゼン、1,2−ビス(N−ドデシル−N−メチルアミノメチル)ベンゼン、1,2−ビス(N−ドデシル−N−エチルアミノメチル)ベンゼン、1,2−ビス(N−トリデシル−N−メチルアミノメチル)ベンゼン、1,2−ビス(N−トリデシル−N−エチルアミノメチル)ベンゼン、1,2−ビス(N−テトラデシル−N−メチルアミノメチル)ベンゼン、1,2−ビス(N−テトラデシル−N−エチルアミノメチル)ベンゼン、1,3−ビス(N−オクチル−N−メチルアミノメチル)ベンゼン、1,3−ビス(N−オクチル−N−エチルアミノメチル)ベンゼン、1,3−ビス(N−ノニル−N−メチルアミノメチル)ベンゼン、1,3−ビス(N−ノニル−N−エチルアミノメチル)ベンゼン、1,3−ビス(N−デシル−N−メチルアミノメチル)ベンゼン、1,3−ビス(N−デシル−N−エチルアミノメチル)ベンゼン、1,3−ビス(N−ウンデシル−N−メチルアミノメチル)ベンゼン、1,3−ビス(N−ウンデシル−N−エチルアミノメチル)ベンゼン、1,3−ビス(N−ドデシル−N−メチルアミノメチル)ベンゼン、1,3−ビス(N−ドデシル−N−エチルアミノメチル)ベンゼン、1,3−ビス(N−トリデシル−N−メチルアミノメチル)ベンゼン、1,3−ビス(N−トリデシル−N−エチルアミノメチル)ベンゼン、1,3−ビス(N−テトラデシル−N−メチルアミノメチル)ベンゼン、1,3−ビス(N−テトラデシル−N−エチルアミノメチル)ベンゼン、1,4−ビス(N−オクチル−N−メチルアミノメチル)ベンゼン、1,4−ビス(N−オクチル−N−エチルアミノメチル)ベンゼン、1,4−ビス(N−ノニル−N−メチルアミノメチル)ベンゼン、1,4−ビス(N−ノニル−N−エチルアミノメチル)ベンゼン、1,4−ビス(N−デシル−N−メチルアミノメチル)ベンゼン、1,4−ビス(N−デシル−N−エチルアミノメチル)ベンゼン、1,4−ビス(N−ウンデシル−N−メチルアミノメチル)ベンゼン、1,4−ビス(N−ウンデシル−N−エチルアミノメチル)ベンゼン、1,4−ビス(N−ドデシル−N−メチルアミノメチル)ベンゼン、1,4−ビス(N−ドデシル−N−エチルアミノメチル)ベンゼン、1,4−ビス(N−トリデシル−N−メチルアミノメチル)ベンゼン、1,4−ビス(N−トリデシル−N−エチルアミノメチル)ベンゼン、1,4−ビス(N−テトラデシル−N−メチルアミノメチル)ベンゼン、1,4−ビス(N−テトラデシル−N−エチルアミノメチル)ベンゼンなどの3級アミンが挙げられ、好適には長鎖アルキル基の炭素数が10〜14の3級アミンが挙げられる。一般式(14)の化合物としては、塩化メチル、塩化エチル、臭化メチル、臭化エチル、ヨウ化メチル、ヨウ化エチルなどのハロゲン化アルキル、ジメチル硫酸、ジエチル硫酸などのジアルキル硫酸、パラトルエンスルホン酸メチル、パラトルエンスルホン酸エチルなどのスルホン酸アルキル、トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェートなどのリン酸トリアルキルが挙げられる。
【0040】これらの3級アミンを4級化剤で4級化するに際しては、反応溶媒として水、アルコールまたは水とアルコールの混合溶媒が好適に用いられ、アルコールとしてはメタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、イソブタノール、t−ブタノールが好適に用いられるが、これらの溶媒に限定されるものではない。反応温度は3級アミンあるいは4級化剤のアルキル鎖長に影響されるが、一般に80℃以上であれば反応は速やかに進行する。
【0041】さらに、一般式(1)で表される第4級アンモニウム塩は、下記一般式(18)のカチオン基を有する第4級アンモニウム塩化合物を、硫酸、リン酸、亜リン酸、次亜リン酸、硝酸、亜硝酸、塩素酸、亜塩素酸、次亜塩素酸または一般式(19),(20),(21),(22)または(23)のいずれかの化合物でイオン交換することにより製造することができる。
【0042】
【化35】


【0043】(式中、R1 は炭素数8〜14のアルキル基を表し、R2 およびR3 はそれぞれ炭素数1〜2のアルキル基を表す。)
4 −COOH (19)
(式中、R4 は水酸基またはカルボニル基を有していてもよい炭素数1〜7のアルキル基またはアルケニル基を表す。)
HOOC−R5 −COOH (20)
(式中、R5 は直接結合か、あるいは水酸基を有してもよい炭素数1〜8のアルキレン基またはアルケニレン基を表す。)
【0044】
【化36】


【0045】(式中、R6 はそれぞれ炭素数1〜8のアルキル基を表し、このリン酸エステルはモノエステル体あるいはジエステル体の単独であっても、混合物であってもよい。)
【0046】
【化37】


【0047】(式中、R7 はそれぞれ炭素数1〜8のアルキル基を表し、このホスホン酸エステルはモノエステル体あるいはジエステル体の単独であっても、混合物であってもよい。)
【0048】
【化38】


【0049】(式中、R9 およびR10はそれぞれ水素原子、メチル基またはカルボキシル基を表す。)
上記一般式(19)の化合物としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、イソ吉草酸、カプロン酸、カプリル酸、乳酸、ピルビン酸、アセト酢酸、アクリル酸、メタクリル酸などのカルボン酸が挙げられ、好適には酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、乳酸およびアセト酢酸が挙げられる。
【0050】また、一般式(20)の化合物としては、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、酒石酸、マレイン酸、フマル酸などのジカルボン酸が挙げられ、好適にはマロン酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、酒石酸およびマレイン酸が挙げられる。一般式(21)のリン酸エステルの化合物としては、炭素数1〜8のアルキル基を有するモノエステル体およびジエステル体が挙げられ、好適にはアルキル基がメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチルまたはt−ブチルであるモノエステル体およびジエステル体が挙げられる。
【0051】一般式(22)のホスホン酸エステルの化合物としては、炭素数1〜8のアルキル基を有するモノエステル体およびジエステル体が挙げられ、好適にはアルキル基がメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチルまたはt−ブチルであるモノエステル体およびジエステル体が挙げられる。
【0052】一般式(23)の化合物としては、o−トルエンスルホン酸、m−トルエンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、o−キシレン−4−スルホン酸、m−キシレン−4−スルホン酸、p−キシレンスルホン酸、イソフタリルスルホン酸などのスルホン酸エステルが好適に用いられる。かかるイオン交換は、アニオン交換樹脂を充填したカラムで処理することにより容易に行うことができる。
【0053】
【実施例】この発明を以下の実施例によりさらに説明するが、この発明はこれら実施例により何ら限定されるものではない。
実施例1ドデシルジメチルアミン42.6gおよび水50mlを500mlの反応容器に仕込み、75℃に昇温する。次に、α,α′−ジクロロ−o−キシレン17.5gおよびイソプロパノール100mlの溶液をゆっくりと滴下する。滴下終了後、加熱還流下で1時間反応させると透明均一な溶液となる。さらに2時間熟成を行った後、水200mlをゆっくり加えながら水蒸気蒸留を行い、アルコール分を留去する。水蒸気蒸留後、生成した1,2−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンジクロライドに水を加えて10重量%の濃度に調整した。また、テトラメチルシランを指標にした2%重メタノール溶液の 1H−核磁気共鳴スペクトル(以下 1H−NMRと記す。測定装置:日立製作所社製FT−NMR R−1900)分析の結果(図1)は、目的の化合物であることを示していた。
【0054】実施例2ドデシルジメチルアミン42.6gおよび水50mlを500mlの反応容器に仕込み、75℃に昇温する。次に、α,α′−ジクロロ−m−キシレン17.5gおよびイソプロパノール100mlの溶液をゆっくりと滴下する。滴下終了後、加熱還流下で1時間反応させると透明均一な溶液となる。さらに2時間熟成を行った後、水200mlをゆっくり加えながら水蒸気蒸留を行い、アルコール分を留去する。水蒸気蒸留後、生成した1,3−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンジクロライドに水を加えて5重量%の濃度に調整した。
【0055】実施例3ドデシルジメチルアミン42.6gおよび水50mlを500mlの反応容器に仕込み、75℃に昇温する。次に、α,α′−ジクロロ−p−キシレン17.5gおよびイソプロパノール200mlの溶液をゆっくりと滴下する。滴下終了後、加熱還流下で1時間反応させると透明均一な溶液となる。さらに2時間熟成を行った後、水300mlをゆっくり加えながら水蒸気蒸留を行い、アルコール分を留去する。水蒸気蒸留後、冷却して析出した結晶を濾別し、冷水にて洗浄する。得られた1,4−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンジクロライドの結晶に水を加えて溶かし、1重量%の濃度に調整した。また、1H−NMR分析の結果(図2)は、目的の化合物であることを示していた。
【0056】実施例4テトラデシルジメチルアミン48.2gおよび水50mlを500mlの反応容器に仕込み、75℃に昇温する。次に、α,α′−ジクロロ−o−キシレン17.5gおよびイソプロパノール100mlの溶液をゆっくりと滴下する。滴下終了後、加熱還流下で1時間反応させると透明均一な溶液となる。さらに2時間熟成を行った後、水200mlをゆっくり加えながら水蒸気蒸留を行い、アルコール分を留去する。水蒸気蒸留後、生成した1,2−ビス(N,N−ジメチル−N−テトラデシルアンモニオメチル)ベンゼンジクロライドに水を加えて10重量%の濃度に調整した。
【0057】実施例5テトラデシルジメチルアミン48.2gおよび水50mlを500mlの反応容器に仕込み、75℃に昇温する。次に、α,α′−ジクロロ−m−キシレン17.5gおよびイソプロパノール100mlの溶液をゆっくりと滴下する。滴下終了後、加熱還流下で1時間反応させると透明均一な溶液となる。さらに2時間熟成を行った後、水200mlをゆっくり加えながら水蒸気蒸留を行い、アルコール分を留去する。水蒸気蒸留後、生成した1,3−ビス(N,N−ジメチル−N−テトラデシルアンモニオメチル)ベンゼンジクロライドに水を加えて5重量%の濃度に調整した。
【0058】実施例6テトラデシルジメチルアミン48.2gおよび水50mlを500mlの反応容器に仕込み、75℃に昇温する。次に、α,α′−ジクロロ−p−キシレン17.5gおよびイソプロパノール100mlの溶液をゆっくりと滴下する。滴下終了後、加熱還流下で1時間反応させると透明均一な溶液となる。さらに2時間熟成を行った後、水200mlをゆっくり加えながら水蒸気蒸留を行い、アルコール分を留去する。水蒸気蒸留後、冷却して析出した結晶を濾別し、冷水にて洗浄する。得られた1,4−ビス(N,N−ジメチル−N−テトラデシルアンモニオメチル)ベンゼンジクロライドの結晶に水を加えて溶かし、1重量%の濃度に調整した。
【0059】実施例7デシルジメチルアミン37.0gおよび水50mlを500mlの反応容器に仕込み、75℃に昇温する。次に、α,α′−ジクロロ−o−キシレン17.5gおよびイソプロパノール100mlの溶液をゆっくりと滴下する。滴下終了後、加熱還流下で1時間反応させると透明均一な溶液となる。さらに2時間熟成を行った後、水200mlをゆっくり加えながら水蒸気蒸留を行い、アルコール分を留去する。水蒸気蒸留後、生成した1,2−ビス(N,N−ジメチル−N−デシルアンモニオメチル)ベンゼンジクロライドに水を加えて10重量%の濃度に調整した。
【0060】実施例8デシルジメチルアミン37.0gおよび水50mlを500mlの反応容器に仕込み、75℃に昇温する。次に、α,α′−ジクロロ−m−キシレン17.5gおよびイソプロパノール100mlの溶液をゆっくりと滴下する。滴下終了後、加熱還流下で1時間反応させると透明均一な溶液となる。さらに2時間熟成を行った後、水200mlをゆっくり加えながら水蒸気蒸留を行い、アルコール分を留去する。水蒸気蒸留後、生成した1,3−ビス(N,N−ジメチル−N−デシルアンモニオメチル)ベンゼンジクロライドに水を加えて5重量%の濃度に調整した。
【0061】実施例9デシルジメチルアミン37.0gおよび水50mlを500mlの反応容器に仕込み、75℃に昇温する。次に、α,α′−ジクロロ−p−キシレン17.5gおよびイソプロパノール100mlの溶液をゆっくりと滴下する。滴下終了後、加熱還流下で1時間反応させると透明均一の溶液となる。さらに2時間熟成を行った後、水200mlをゆっくり加えながら水蒸気蒸留を行い、アルコール分を留去する。水蒸気蒸留後、冷却して析出した結晶を濾別し、冷水にて洗浄する。得られた1,4−ビス(N,N−ジメチル−N−デシルアンモニオメチル)ベンゼンジクロライドの結晶に水を加えて溶かし、1重量%の濃度に調整した。
【0062】実施例101,2−ビス(N,N−ジメチルアミノメチル)ベンゼン17.8g、塩化デシル35.3g、水50mlおよびイソプロパノール200mlを500mlの反応容器に仕込み、加熱還流下で2時間反応させると透明均一な溶液となる。さらに2時間熟成を行った後、水300mlをゆっくり加えながら水蒸気蒸留を行い、アルコール分を留去する。水蒸気蒸留後、生成した1,2−ビス(N,N−ジメチル−N−デシルアンモニオメチル)ベンゼンジクロライドに水を加えて10重量%の濃度に調整した。
【0063】実施例111,3−ビス(N,N−ジメチルアミノメチル)ベンゼン17.8g、塩化デシル35.3g、水50mlおよびイソプロパノール200mlを500mlの反応容器に仕込み、加熱還流下で2時間反応させると透明均一な溶液となる。さらに2時間熟成を行った後、水300mlをゆっくり加えながら水蒸気蒸留を行い、アルコール分を留去する。水蒸気蒸留後、生成した1,3−ビス(N,N−ジメチル−N−デシルアンモニオメチル)ベンゼンジクロライドに水を加えて5重量%の濃度に調整した。
【0064】実施例121,4−ビス(N,N−ジメチルアミノメチル)ベンゼン17.8g、塩化デシル35.3g、水50mlおよびイソプロパノール200mlを500mlの反応容器に仕込み、加熱還流下で2時間反応させると透明均一な溶液となる。さらに2時間熟成を行った後、水300mlをゆっくり加えながら水蒸気蒸留を行い、アルコール分を留去する。水蒸気蒸留後、生成した1,4−ビス(N,N−ジメチル−N−デシルアンモニオメチル)ベンゼンジクロライドに水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0065】実施例131,2−ビス(N,N−ジメチルアミノメチル)ベンゼン17.8g、塩化ドデシル40.9g、水50mlおよびイソプロパノール200mlを500mlの反応容器に仕込み、加熱還流下で3時間反応させると透明均一な溶液となる。さらに2時間熟成を行った後、水300mlをゆっくり加えながら水蒸気蒸留を行い、アルコール分を留去する。水蒸気蒸留後、生成した1,2−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンジクロライドに水を加えて10重量%の濃度に調整した。
【0066】実施例141,3−ビス(N,N−ジメチルアミノメチル)ベンゼン17.8g、塩化ドデシル40.9g、水50mlおよびイソプロパノール200mlを500mlの反応容器に仕込み、加熱還流下で3時間反応させると透明均一な溶液となる。さらに2時間熟成を行った後、水300mlをゆっくり加えながら水蒸気蒸留を行い、アルコール分を留去する。水蒸気蒸留後、生成した1,3−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンジクロライドに水を加えて5重量%の濃度に調整した。
【0067】実施例151,4−ビス(N,N−ジメチルアミノメチル)ベンゼン17.8g、塩化ドデシル40.9g、水50mlおよびイソプロパノール200mlを500mlの反応容器に仕込み、加熱還流下で3時間反応させると透明均一な溶液となる。さらに2時間熟成を行った後、水300mlをゆっくり加えながら水蒸気蒸留を行い、アルコール分を留去する。水蒸気蒸留後、生成した1,4−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンジクロライドに水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0068】実施例161,2−ビス(N,N−ジメチルアミノメチル)ベンゼン17.8g、塩化テトラデシル46.5g、水50mlおよびイソプロパノール200mlを500mlの反応容器に仕込み、加熱還流下で3時間反応させると透明均一な溶液となる。さらに3時間熟成を行った後、水300mlをゆっくり加えながら水蒸気蒸留を行い、アルコール分を留去する。水蒸気蒸留後、生成した1,2−ビス(N,N−ジメチル−N−テトラデシルアンモニオメチル)ベンゼンジクロライドに水を加えて10重量%の濃度に調整した。
【0069】実施例171,3−ビス(N,N−ジメチルアミノメチル)ベンゼン17.8g、塩化テトラデシル46.5g、水50mlおよびイソプロパノール200mlを500mlの反応容器に仕込み、加熱還流下で3時間反応させると透明均一な溶液となる。さらに3時間熟成を行った後、水300mlをゆっくり加えながら水蒸気蒸留を行い、アルコール分を留去する。水蒸気蒸留後、生成した1,3−ビス(N,N−ジメチル−N−テトラデシルアンモニオメチル)ベンゼンジクロライドに水を加えて5重量%の濃度に調整した。
【0070】実施例181,4−ビス(N,N−ジメチルアミノメチル)ベンゼン17.8g、塩化テトラデシル46.5g、水50mlおよびイソプロパノール200mlを500mlの反応容器に仕込み、加熱還流下で3時間反応させると透明均一な溶液となる。さらに3時間熟成を行った後、水300mlをゆっくり加えながら水蒸気蒸留を行い、アルコール分を留去する。水蒸気蒸留後、生成した1,4−ビス(N,N−ジメチル−N−テトラデシルアンモニオメチル)ベンゼンジクロライドに水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0071】実施例19実施例7で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をリン酸メチルエステル(モノ体/ジ体=50/50)にてpH6.8±0.2に調整し、生成した1,2−ビス(N,N−ジメチル−N−デシルアンモニオメチル)ベンゼンのリン酸メチルエステル塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0072】実施例20実施例8で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をリン酸メチルエステル(モノ体/ジ体=50/50)にてpH6.8±0.2に調整し、生成した1,3−ビス(N,N−ジメチル−N−デシルアンモニオメチル)ベンゼンのリン酸メチルエステル塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0073】実施例21実施例9で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をリン酸メチルエステル(モノ体/ジ体=50/50)にてpH6.8±0.2に調整し、生成した1,4−ビス(N,N−ジメチル−N−デシルアンモニオメチル)ベンゼンのリン酸メチルエステル塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0074】実施例22実施例1で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をリン酸メチルエステル(モノ体/ジ体=50/50)にてpH6.8±0.2に調整し、生成した1,2−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンのリン酸メチルエステル塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0075】実施例23実施例2で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をリン酸メチルエステル(モノ体/ジ体=50/50)にてpH6.8±0.2に調整し、生成した1,3−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンのリン酸メチルエステル塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0076】実施例24実施例3で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をリン酸メチルエステル(モノ体/ジ体=50/50)にてpH6.8±0.2に調整し、生成した1,4−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンのリン酸メチルエステル塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0077】実施例25実施例4で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をリン酸メチルエステル(モノ体/ジ体=50/50)にてpH6.8±0.2に調整し、生成した1,2−ビス(N,N−ジメチル−N−テトラデシルアンモニオメチル)ベンゼンのリン酸メチルエステル塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0078】実施例26実施例5で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をリン酸メチルエステル(モノ体/ジ体=50/50)にてpH6.8±0.2に調整し、生成した1,3−ビス(N,N−ジメチル−N−テトラデシルアンモニオメチル)ベンゼンのリン酸メチルエステル塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0079】実施例27実施例6で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をリン酸メチルエステル(モノ体/ジ体=50/50)にてpH6.8±0.2に調整し、生成した1,4−ビス(N,N−ジメチル−N−テトラデシルアンモニオメチル)ベンゼンのリン酸メチルエステル塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0080】実施例28実施例1で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をリン酸エチルエステル(モノ体/ジ体=50/50)にてpH6.8±0.2に調整し、生成した1,2−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンのリン酸エチルエステル塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0081】実施例29実施例2で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をリン酸エチルエステル(モノ体/ジ体=50/50)にてpH6.8±0.2に調整し、生成した1,3−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンのリン酸エチルエステル塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0082】実施例30実施例3で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をリン酸エチルエステル(モノ体/ジ体=50/50)にてpH6.8±0.2に調整し、生成した1,4−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンのリン酸エチルエステル塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0083】実施例31実施例1で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をリン酸プロピルエステル(モノ体/ジ体=50/50)にてpH6.8±0.2に調整し、生成した1,2−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンのリン酸プロピルエステル塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0084】実施例32実施例2で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をリン酸プロピルエステル(モノ体/ジ体=50/50)にてpH6.8±0.2に調整し、生成した1,3−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンのリン酸プロピルエステル塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0085】実施例33実施例3で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をリン酸プロピルエステル(モノ体/ジ体=50/50)にてpH6.8±0.2に調整し、生成した1,4−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンのリン酸プロピルエステル塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0086】実施例34実施例1で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をリン酸ブチルエステル(モノ体/ジ体=50/50)にてpH7.0±0.3に調整し、生成した1,2−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンのリン酸ブチルエステル塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0087】実施例35実施例2で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をリン酸ブチルエステル(モノ体/ジ体=50/50)にてpH7.0±0.3に調整し、生成した1,3−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンのリン酸ブチルエステル塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0088】実施例36実施例3で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をリン酸ブチルエステル(モノ体/ジ体=50/50)にてpH7.0±0.3に調整し、生成した1,4−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンのリン酸ブチルエステル塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。また、 1H−NMR分析の結果(図3)は、目的の化合物であることを示していた。
【0089】実施例37実施例1で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をリン酸ヘキシルエステル(モノ体/ジ体=50/50)にてpH7.0±0.5に調整し、生成した1,2−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンのリン酸ヘキシルエステル塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0090】実施例38実施例2で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をリン酸ヘキシルエステル(モノ体/ジ体=50/50)にてpH7.0±0.5に調整し、生成した1,3−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンのリン酸ヘキシルエステル塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0091】実施例39実施例3で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をリン酸ヘキシルエステル(モノ体/ジ体=50/50)にてpH7.0±0.5に調整し、生成した1,4−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンのリン酸ヘキシルエステル塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0092】実施例40実施例1で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液を酒石酸にてpH7.0±0.5に調整し、生成した1,2−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンの酒石酸塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0093】実施例41実施例1で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をコハク酸にてpH7.0±0.5に調整し、生成した1,2−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンのコハク酸塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0094】実施例42実施例1で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をマロン酸にてpH7.0±0.5に調整し、生成した1,2−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンのマロン酸塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0095】実施例43実施例1で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をアジピン酸にてpH7.0±0.5に調整し、生成した1,2−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンのアジピン酸塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0096】実施例44実施例1で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液を酢酸にてpH7.0±0.5に調整し、生成した1,2−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンの酢酸塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0097】実施例45実施例1で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液を乳酸にてpH7.0±0.5に調整し、生成した1,2−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンの乳酸塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0098】実施例46実施例1で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をグルコン酸にてpH7.0±0.5に調整し、生成した1,2−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンのグルコン酸塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0099】実施例47実施例3で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液を酒石酸にてpH7.0±0.5に調整し、生成した1,4−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンの酒石酸塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0100】実施例48実施例3で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をコハク酸にてpH7.0±0.5に調整し、生成した1,4−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンのコハク酸塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0101】実施例49実施例3で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をマロン酸にてpH7.0±0.5に調整し、生成した1,4−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンのマロン酸塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0102】実施例50実施例3で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をアジピン酸にてpH7.0±0.5に調整し、生成した1,4−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンのアジピン酸塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0103】実施例51実施例3で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液を酢酸にてpH7.0±0.5に調整し、生成した1,4−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンの酢酸塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0104】実施例52実施例3で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液を乳酸にてpH7.0±0.5に調整し、生成した1,4−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンの乳酸塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0105】実施例53実施例3で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をグルコン酸にてpH7.0±0.5に調整し、生成した1,4−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンのグルコン酸塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。また、 1H−NMR分析の結果(図4)は、目的の化合物であることを示していた。
【0106】実施例54実施例2で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液を酒石酸にてpH7.0±0.5に調整し、生成した1,3−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンの酒石酸塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0107】実施例55実施例2で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をコハク酸にてpH7.0±0.5に調整し、生成した1,3−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンのコハク酸塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0108】実施例56実施例2で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をマロン酸にてpH7.0±0.5に調整し、生成した1,3−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンのマロン酸塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0109】実施例57実施例2で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をアジピン酸にてpH7.0±0.5に調整し、生成した1,3−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンのアジピン酸塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0110】実施例58実施例2で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液を酢酸にてpH7.0±0.5に調整し、生成した1,3−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンの酢酸塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0111】実施例59実施例2で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液を乳酸にてpH7.0±0.5に調整し、生成した1,3−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンの乳酸塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0112】実施例60実施例2で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をグルコン酸にてpH7.0±0.5に調整し、生成した1,3−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンのグルコン酸塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0113】実施例61実施例7で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をリン酸ブチルエステル(モノ体/ジ体=50/50)にてpH7.0±0.5に調整し、生成した1,2−ビス(N,N−ジメチル−N−デシルアンモニオメチル)ベンゼンのリン酸ブチルエステル塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0114】実施例62実施例9で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をリン酸ブチルエステル(モノ体/ジ体=50/50)にてpH7.0±0.5に調整し、生成した1,4−ビス(N,N−ジメチル−N−デシルアンモニオメチル)ベンゼンのリン酸ブチルエステル塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0115】実施例63実施例4で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をリン酸ブチルエステル(モノ体/ジ体=50/50)にてpH7.0±0.5に調整し、生成した1,2−ビス(N,N−ジメチル−N−テトラデシルアンモニオメチル)ベンゼンのリン酸ブチルエステル塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0116】実施例64実施例6で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をリン酸ブチルエステル(モノ体/ジ体=50/50)にてpH7.0±0.5に調整し、生成した1,4−ビス(N,N−ジメチル−N−テトラデシルアンモニオメチル)ベンゼンのリン酸ブチルエステル塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0117】実施例65実施例7で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をグルコン酸にてpH7.0±0.5に調整し、生成した1,2−ビス(N,N−ジメチル−N−デシルアンモニオメチル)ベンゼンのグルコン酸塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0118】実施例66実施例9で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をグルコン酸にてpH7.0±0.5に調整し、生成した1,4−ビス(N,N−ジメチル−N−デシルアンモニオメチル)ベンゼンのグルコン酸塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0119】実施例67実施例4で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をグルコン酸にてpH7.0±0.5に調整し、生成した1,2−ビス(N,N−ジメチル−N−テトラデシルアンモニオメチル)ベンゼンのグルコン酸塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0120】実施例68実施例6で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をグルコン酸にてpH7.0±0.5に調整し、生成した1,4−ビス(N,N−ジメチル−N−テトラデシルアンモニオメチル)ベンゼンのグルコン酸塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0121】実施例69実施例1で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液を硫酸にてpH7.0±0.2に調整し、生成した1,2−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンの硫酸塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0122】実施例70実施例1で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液を硝酸にてpH7.0±0.2に調整し、生成した1,2−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンの硝酸塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0123】実施例71実施例1で得た化合物をアニオン交換樹脂を充填したカラムで処理する。処理液をp−トルエンスルホン酸にてpH7.0±0.5に調整し、生成した1,2−ビス(N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニオメチル)ベンゼンのp−トルエンスルホン塩に水を加えて1重量%の濃度に調整した。
【0124】比較例1塩化ベンザルコニウム比較例2グルコン酸クロルヘキシジン評価方法日本化学療法学会標準法に準じて実施例1〜実施例71および比較例1および2の化合物の不揮発分による最小殺菌濃度(MBC)をメチシリン耐性黄色ぶどう球菌(S. aureus (MRSA))2株、黄色ぶどう球菌(S. aureus )2株、大腸菌(E. coli )3株、緑膿菌(P. aeruginosa )3株、肺炎桿菌(K. pneumoniae )2株、セラチア菌(S. marcescens )2株およびサルモネラ菌(S. enteritidis)2株にて測定し、殺菌効果の比較を行った。その結果を表1〜表19に示す。
【0125】
【表1】


【0126】
【表2】


【0127】
【表3】


【0128】
【表4】


【0129】
【表5】


【0130】
【表6】


【0131】
【表7】


【0132】
【表8】


【0133】
【表9】


【0134】
【表10】


【0135】
【表11】


【0136】
【表12】


【0137】
【表13】


【0138】
【表14】


【0139】
【表15】


【0140】
【表16】


【0141】
【表17】


【0142】
【表18】


【0143】
【表19】


【0144】
【発明の効果】この発明により合成された第4級アンモニウム塩は、従来の殺菌消毒剤である塩化ベンザルコニウムより高い殺菌効力を示し、グルコン酸クロルヘキシジンと同等またはそれ以上の殺菌性能を有することから、殺菌消毒剤などとして有用である。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1で得られた化合物の 1H−NMRスペクトル図である。
【図2】実施例3で得られた化合物の 1H−NMRスペクトル図である。
【図3】実施例36で得られた化合物の 1H−NMRスペクトル図である。
【図4】実施例53で得られた化合物の 1H−NMRスペクトル図である。

【特許請求の範囲】
【請求項1】 下記一般式(1)で表される第4級アンモニウム塩の1種または2種以上を含有する殺菌消毒剤。
【化1】


(式中、R1 は炭素数8〜14のアルキル基を表し、R2 およびR3 はそれぞれ炭素数1〜2のアルキル基を表し、 [B] は2個の1価の無機性または有機性のアニオン基または1個の2価の無機性または有機性のアニオン基を表す。)
【請求項2】 前記無機性または有機性のアニオン基 [B] が、硫酸イオン、リン酸イオン、亜リン酸イオン、次亜リン酸イオン、硝酸イオン、亜硝酸イオン、塩素酸イオン、亜塩素酸イオン、次亜塩素酸イオンまたは下記一般式(2)〜(8)で表されるアニオン基のいずれかである請求項1記載の殺菌消毒剤。
【化2】


(式中、Xは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。)
【化3】


(式中、R4 は水酸基またはカルボニル基を有していてもよい炭素数1〜7のアルキル基またはアルケニル基を表す。)
【化4】


(式中、R5 は直接結合か、あるいは水酸基を有していてもよい炭素数1〜8のアルキレン基またはアルケニレン基を表す。)
【化5】


(式中、R6 はそれぞれ炭素数1〜8のアルキル基を表し、このリン酸エステルアニオンはモノエステル体あるいはジエステル体の単独であっても、混合物であってもよい。)
【化6】


(式中、R7 はそれぞれ炭素数1〜8のアルキル基を表し、このホスホン酸エステルアニオンはモノエステル体あるいはジエステル体の単独であっても、混合物であってもよい。)
【化7】


(式中、R8 は炭素数1〜2のアルキル基を表す。)
【化8】


(式中、R9 およびR10はそれぞれ水素原子、メチル基またはカルボキシル基を表す。)
【請求項3】 前記第4級アンモニウム塩が下記一般式(9)の化合物と下記一般式(10)の化合物との反応により合成されたものである請求項1記載の殺菌消毒剤。
【化9】


(式中、Xは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。)
【化10】


(式中、R1 は炭素数8〜14のアルキル基を表し、R2 およびR3 はそれぞれ炭素数1〜2のアルキル基を表す。)
【請求項4】 前記第4級アンモニウム塩が下記一般式(11)の化合物と下記一般式(12)の化合物との反応により合成されたものである請求項1記載の殺菌消毒剤。
【化11】


(式中、R2 およびR3 はそれぞれ炭素数1〜2のアルキル基を表す。)
1 −X (12)
(式中、R1 は炭素数8〜14のアルキル基を表し、Xは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。)
【請求項5】 前記第4級アンモニウム塩が下記一般式(13)の化合物と下記一般式(14)の化合物との反応により合成されたものである請求項1記載の殺菌消毒剤。
【化12】


(式中、R1 は炭素数8〜14のアルキル基を表し、R2 は炭素数1〜2のアルキル基を表す。)
3 −Y (14)
(式中、R3 は炭素数1〜2のアルキル基を表し、Yは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子または下記一般式(15),(16)または(17)の基のいずれかを表す。)
【化13】


(式中、R8 は炭素数1〜2のアルキル基を表す。)
【化14】


(式中、R9 およびR10はそれぞれ水素原子またはメチル基を表す。)
【化15】


(式中、R11は炭素数1〜2のアルキル基を表す。)
【請求項6】 前記第4級アンモニウム塩が、下記一般式(18)のカチオン基を有する第4級アンモニウム塩化合物を、硫酸、リン酸、亜リン酸、次亜リン酸、硝酸、亜硝酸、塩素酸、亜塩素酸、次亜塩素酸または下記一般式(19),(20),(21),(22)または(23)のいずれかの化合物を用いてイオン交換することにより製造されたものである請求項1記載の殺菌消毒剤。
【化16】


(式中、R1 は炭素数8〜14のアルキル基を表し、R2 およびR3 はそれぞれ炭素数1〜2のアルキル基を表す。)
4 −COOH (19)
(式中、R4 は水酸基またはカルボニル基を有していてもよい炭素数1〜7のアルキル基またはアルケニル基を表す。)
HOOC−R5 −COOH (20)
(式中、R5 は直接結合か、あるいは水酸基を有していてもよい炭素数1〜8のアルキレン基またはアルケニレン基を表す。)
【化17】


(式中、R6 はそれぞれ炭素数1〜8のアルキル基を表し、このリン酸エステルはモノエステル体あるいはジエステル体の単独であっても、混合物であってもよい。)
【化18】


(式中、R7 はそれぞれ炭素数1〜8のアルキル基を表し、このホスホン酸エステルはモノエステル体あるいはジエステル体の単独であっても、混合物であってもよい。)
【化19】


(式中、R9 およびR10はそれぞれ水素原子、メチル基またはカルボキシル基を表す。)
【請求項7】 請求項1に規定した一般式(1)で表される第4級アンモニウム塩化合物。
【請求項8】 前記無機性または有機性のアニオン基 [B] が、硫酸イオン、リン酸イオン、亜リン酸イオン、次亜リン酸イオン、硝酸イオン、亜硝酸イオン、塩素酸イオン、亜塩素酸イオン、次亜塩素酸イオンまたは請求項2に規定した一般式(2)〜(8)で表されるアニオン基のいずれかである請求項7記載の化合物。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【公開番号】特開平10−114604
【公開日】平成10年(1998)5月6日
【国際特許分類】
【出願番号】特願平9−40516
【出願日】平成9年(1997)2月25日
【出願人】(000226161)日華化学株式会社 (208)