４’−Ｃ−置換−２−ハロアデノシン誘導体
【課題】優れた抗ＨＩＶ作用を示す２−ハロアデノシン誘導体の製造方法の提供。
【解決手段】式（Ｉ）において５’位が水酸基、２位がアミノ基の化合物を出発物質として、水酸基保護工程、アミノ基のハロゲン基への変換工程、水酸基脱保護工程を経る式（Ｉ）の化合物の製造方法。
（式中、Ｘはフッ素原子又は塩素原子を示す）
【解決手段】式（Ｉ）において５’位が水酸基、２位がアミノ基の化合物を出発物質として、水酸基保護工程、アミノ基のハロゲン基への変換工程、水酸基脱保護工程を経る式（Ｉ）の化合物の製造方法。
（式中、Ｘはフッ素原子又は塩素原子を示す）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、４’−Ｃ−置換−２−ハロアデノシン誘導体及びその医薬用途、特にエイズ（ＡＩＤＳ）の治療用用途に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ＡＺＴ（ジドブジン）、ｄｄＩ（ジダノシン）、ｄｄＣ（ザルシタビン）、ｄ４Ｔ（スタブジン）、３ＴＣ（ラミブジン）などのヌクレオシド系逆転写酵素阻害剤（ｎｕｃｌｅｏｓｉｄｅ ｒｅｖｅｒｓｅ ｔｒａｎｓｃｒｉｐｔａｓｅ ｉｎｈｉｂｉｔｏｒｓ；ＮＲＴＩｓ）にプロテアーゼ阻害剤（ｐｒｏｔｅａｓｅ ｉｎｈｉｂｉｔｏｒｓ；ＰＩｓ）を加えた、いわゆる「強力な抗レトロウイルス剤による化学療法（ｈｉｇｈｌｙ ａｃｔｉｖｅ ａｎｔｉｒｅｔｒｏｖｉｒａｌ ｔｈｅｒａｐｙ；ＨＡＡＲＴ）」と呼ばれる多剤併用療法によって、ＡＩＤＳの臨床像は一変し、ＡＩＤＳによる死亡者数も各国で激減した。
【０００３】
しかし、ＨＡＡＲＴによりＡＩＤＳによる死亡者が激減する一方で、複数の薬剤に対して交叉耐性を示す多剤耐性ＨＩＶ−１（ｈｕｍａｎ ｉｍｍｕｎｏｄｅｆｉｃｉｅｎｃｙ ｖｉｒｕｓ−１）株が出現し、たとえば、ＡＺＴと３ＴＣの両方に耐性のＨＩＶに感染した患者は、１９９０年初頭ではほとんど見られなかったのに対し、１９９５〜１９９６年になると４２％にものぼっていることが報告されている。
【０００４】
大類らは、２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニルヌクレオシドを合成し、それら化合物の抗ＨＩＶ活性を測定した結果、特定の構造を有する２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニルヌクレオシドがＡＺＴと同等あるいはＡＺＴを凌ぐ優れた抗ＨＩＶ活性を有すること、ＡＺＴ、ｄｄＩ、ｄｄＣ、ｄ４Ｔ、３ＴＣなどの複数の抗ＨＩＶ剤に耐性を有する多剤耐性ウイルス株にも有効なことを明らかにした（非特許文献１〜８、特許文献１〜３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】ＷＯ００／６９８７６
【特許文献２】ＷＯ００／６９８７７
【特許文献３】ＷＯ０３／６８７９６
【非特許文献】
【０００６】
【非特許文献１】Ｎｕｃｌｅｉｃ Ａｃｉｄｓ Ｓｙｍｐ Ｓｅｒ，Ｊａｎ ２０００；（４４）：１０５−６．
【非特許文献２】Ｊ Ｍｅｄ Ｃｈｅｍ，Ｎｏｖ ２０００；４３（２３）：４５１６−２５
【非特許文献３】Ｃｕｒｒ Ｄｒｕｇ Ｔａｒｇｅｔｓ Ｉｎｆｅｃｔ Ｄｉｓｏｒｄ，Ｍａｙ ２００１；１（１）：１−１０
【非特許文献４】Ａｎｔｉｍｉｃｒｏｂ．Ａｇｅｎｔｓ Ｃｈｅｍｏｔｈｅｒ．，Ｍａｙ ２００１；４５：１５３９−１５４６
【非特許文献５】Ｎｕｃｌｅｏｓｉｄｅｓ Ｎｕｃｌｅｏｔｉｄｅｓ Ｎｕｃｌｅｉｃ Ａｃｉｄｓ，Ｍａｙ ２００３；２２（５−８）：８８７−９．
【非特許文献６】Ｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ．，４２（１９９４），ｐ１６８８
【非特許文献７】Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，３９（１９９６），ｐ３８４７
【非特許文献８】Ｂｉｏｏｒｇ Ｍｅｄ Ｃｈｅｍ Ｌｅｔｔ，Ｎｏｖ ２００３；１３（２１）：３７７５−７
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明者らは、ｉｎ ｖｉｔｒｏにおいて、種々の４’−Ｃ−置換ヌクレオシドの中でも特に優れた抗ＨＩＶ活性を示した４’−Ｃ−エチニルプリンヌクレオシド誘導体及び４’−Ｃ−シアノプリンヌクレオシド誘導体について毒性の評価を行った。その結果、（１）最も強い抗ＨＩＶ活性を示す２，６−ジアミノプリン誘導体及びグアニン誘導体はｉｎ ｖｉｔｒｏ、ｉｎ ｖｉｖｏにおいて毒性を示すこと、（２）毒性の低いアデニン誘導体は血中でアデノシンデアミナーゼにより速やかにヒポキサンチン誘導体へと変換され、抗ＨＩＶ活性が減弱することが明らかとなった。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、選択係数（細胞毒性濃度／抗ＨＩＶ活性濃度）の更なる向上とアデノシンデアミナーゼによる不活性化に対する耐性付与を目的とし、種々の４’−Ｃ−置換プリンヌクレオシドの中で、強い抗ＨＩＶ活性を示し、かつ毒性の低い４’−Ｃ−置換−２’−デオキシアデノシンをリード化合物とし、このリード化合物に化学的修飾を施すことにより数多くの誘導体を合成した。
【０００９】
従来、アデノシンデアミナーゼによる不活性化に対する耐性付与に関しては、アデノシン誘導体の塩基部２位に電子吸引性のハロゲン原子を導入することにより、アデノシンデアミナーゼに対して若干の抵抗性を示すようになることが知られている（非特許文献６と７）が、ハロゲン原子の導入による選択係数の向上に関しては何ら示唆されていない。
【００１０】
唯一、ｄ４Ｔ（スタブジン；２’，３’−ジデヒドロ−３’−デオキシチミジン）の４’位にエチニル基を導入することで選択係数の向上が報告されているものの（非特許文献８）、基本骨格を著しく異にするプリン系ヌクレオシドであるアデノシン誘導体で同様の効果を期待することはできず、何ら参考になるものではなかった。
【００１１】
新たに合成した誘導体の抗ＨＩＶ活性等を検討した結果、リード化合物である２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニルアデノシンの塩基部２位にフッ素原子を導入した２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシンは、アデノシンデアミナーゼによる不活性化に対する耐性付与だけでなく、ＡＺＴ、ｄｄＩ、ｄｄＣ、ｄ４Ｔ、３ＴＣなどの複数の抗ＨＩＶ剤に耐性を有する多剤耐性ウイルス株にも有効で、しかも抗ＨＩＶ活性が増強され、一方で、その細胞毒性は著しく減少することが明らかとなった。
【００１２】
したがって、本発明は、この知見を更に発展させ、２−ハロアデニンを核酸塩基とし、糖部４位にエチニル基又はシアノ基を有する種々の４’−Ｃ−置換−２−ハロアデノシン誘導体を合成し、その活性を確認することにより完成されたものである。
【００１３】
すなわち、本発明は、下記式［Ｉ］、［ＩＩ］又は［ＩＩＩ］で表される４’−Ｃ−置換−２−ハロアデノシン誘導体及び当該誘導体と薬学的に許容される担体とを含有してなる医薬組成物に関するものである。
【００１４】
【化１】
【００１５】
（式中、Ｘはハロゲン原子、Ｒ1はエチニル基又はシアノ基、Ｒ2は、水素原子、リン酸又はその誘導体残基を示す。）
また、本発明は、上記４’−Ｃ−置換−２−ハロアデノシン誘導体又はそれを含む医薬組成物をヒトを含む動物に投与することを特徴とするエイズの治療方法に関するものである。
【発明の効果】
【００１６】
本発明化合物は、後述試験例に示すように、たとえば、２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシンは、アデノシンデアミナーゼによる不活性化に対する耐性付与だけでなく、ＡＺＴ、ｄｄＩ、ｄｄＣ、ｄ４Ｔ、３ＴＣなどの複数の抗ＨＩＶ剤に耐性を有する多剤耐性ウイルス株にも有効で、しかもリード化合物である２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニルアデノシンの抗ＨＩＶ活性と比較して１４４倍と予想できないほどに抗ＨＩＶ活性が増強され、一方で、その細胞毒性は著しく減少することが明らかとなった。この結果、この化合物の選択係数は１１０，０００となり、従来の２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニルアデノシン（ＥｄＡｄｏ）の１，６３０を遙かに上回る驚くべき結果となった。
このように、本発明化合物は、優れた抗ＨＩＶ作用、特にＡＺＴ、ＤＤＩ、ＤＤＣ、Ｄ４Ｔ、３ＴＣなどの抗ＨＩＶ剤の複数の薬剤に耐性を有する多剤耐性ＨＩＶ株にも有効で、細胞毒性も低く、アデノシンデアミナーゼによる不活性化に対する耐性も付与されていることから、医薬品、特にエイズ治療薬として有用である。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】アデノシンデアミナーゼによる脱アミノ化反応における化合物の安定性を示したものである。黒四角は本発明化合物２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシンの結果を、黒丸は公知の２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニルアデノシンの結果を示したものである。
【図２】酸性条件下における本発明化合物２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシンの安定性を示したものである。
【図３】酸性条件下における公知の２’，３’−ジデオキシアデノシン（ｄｄＡｄｏ）の安定性を示したものである。
【図４】本発明化合物２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシンを投与後のマウスの体重変化を示したものである。図４中のグラフＡは経口投与時の結果を、グラフＢは静脈内投与時の結果を示す。なお、各グラフ中の丸印はプラセボを示し、三角印、四角印は投与量がそれぞれ３０ｍｇ／ｋｇ、１００ｍｇ／ｋｇのときの結果を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
（１）化合物
本発明化合物は、前記式［Ｉ］、［ＩＩ］又は［ＩＩＩ］で表されるものである。上記式中、Ｒ2のリン酸又はその誘導体残基としては、リン酸残基、ジリン酸残基、トリリン酸残基、ホスホン酸残基、及びこれらのジエステル、トリエステル等のポリエステル、モノアミデート、ジアミデート等のアミデート、チオエート、セレノエート、ボラノエート等を例示することができる。また、Ｘのハロゲン原子としては、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子又は塩素原子を例示することができる。
【００１９】
このような化合物のうち、（ａ）Ｒ2が水素原子又はホスホン酸残基、（ｂ）Ｘがフッ素原子又は塩素原子、（ｃ）Ｒ1がエチニル基である条件の１つ又は複数を満たすものを好適な化合物として例示することができる。具体的には、以下の化合物を挙げることができる。
【００２０】
＜式［Ｉ］化合物＞
２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン、４’−Ｃ−シアノ−２’−デオキシ−２−フルオロアデノシン、２−クロロ−２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニルアデノシン又は２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン５’−Ｈ−ホスホネート
【００２１】
＜式［ＩＩ］化合物＞
２’，３’−ジデヒドロ−２’，３’−ジデオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン、２’，３’−ジデヒドロ−２’，３’−ジデオキシ−４’−Ｃ−シアノ−２−フルオロアデノシン、２’，３’−ジデヒドロ−２’，３’−ジデオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−クロロアデノシン又は２’，３’−ジデヒドロ−２’，３’−ジデオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン５’−Ｈ−ホスホネート
【００２２】
＜式［ＩＩＩ］化合物＞
２’，３’−ジデオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン、２’，３’−ジデオキシ−４’−Ｃ−シアノ−２−フルオロアデノシン、２’，３’−ジデオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−クロロアデノシン又は２’，３’−ジデオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン５’−Ｈ−ホスホネート
【００２３】
本発明化合物は、塩、水和物又は溶媒和物の形態であってもよい。そのような塩としては、Ｒ2が水素原子である場合には塩酸塩又は硫酸塩などの酸付加物、Ｒ2がリン酸残基である場合にはナトリウム塩、カリウム塩又はリチウム塩などのアルカリ金属塩、カルシウム塩などのアルカリ土類金属塩もしくはアンモニウム塩などの薬学的に許容される任意の塩が例示される。
また、水和物又は溶媒和物としては、本発明の化合物又はその塩１分子に対し、０．１〜３．０分子の水又は溶媒が付着したものを例示することができる。更に、本発明の化合物には、互変異性体などの各種異性体も包含されうる。
【００２４】
（２）製造法
本発明化合物［Ｉ］は、以下に説明する工程により製造することができる。
第１工程；
第１工程は式［ＩＶ］で表される化合物の３’位水酸基及び５’位水酸基を保護し、式［Ｖ］で表される化合物を得る工程である。
【００２５】
【化２】
【００２６】
（式中、Ｐは保護基，Ｒ1はエチニル基又はシアノ基を示す。）
【００２７】
式［ＩＶ］で表される原料化合物のうち、Ｒ1がエチニル基である化合物はＪ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，４３，４５１６−４５２５（２０００）に記載されており、Ｒ1がシアノ基である化合物はＷＯ０３／６８７９６に記載されており、公知である。
Ｐで表される３’，５’位水酸基の保護基としては、水酸基の保護基として常用されているものであればよく、たとえばエーテル系保護基、アシル系保護基、シリル系保護基、アセタール系保護基などを例示することができる。より具体的には、エーテル系保護基としては、メチルエーテル、第３級ブチルエーテル、ベンジルエーテル、メトキシベンジルエーテル、トリチルエーテルなどを、アシル系保護基としてはアセチル、ベンゾイル、ピバロイルなどを、シリル系保護基としてはｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ブチルジフェニルシリル、トリメチルシリル、トリエチルシリルなどを、アセタール系保護基としてはイソプロピリデン、エチリデン、メチリデン、ベンジリデン、テトラヒドロピラニル、メトキシメチルなどをそれぞれ使用することができる。
【００２８】
保護基の導入は常法によって行うことができる。たとえば、ピリジン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド等の有機溶媒中、アルカリ金属アルコキシド、トリエチルアミン、４−ジメチルアミノピリジン、イミダゾール等の塩基の存在下、式（ＩＶ）の化合物と保護基導入試薬（例えば、アルキルハライド、酸ハライド、酸無水物、アルキルシリルハライド等）とを、−１０〜１００℃で反応させることによって実施することができる。
【００２９】
第２工程；
第２工程は、式［Ｖ］で表される化合物の２位アミノ基をハロゲン原子へと変換し、式［ＶＩ］で表される化合物を得る工程である。
【００３０】
【化３】
【００３１】
（式中、Ｐは保護基、Ｘはハロゲン原子、Ｒ1はエチニル基又はシアノ基を示す。）
【００３２】
式［ＶＩ］で表される化合物は、式［Ｖ］で表される化合物の２位アミノ基を亜硝酸誘導体で処理後、ハロゲン化試薬を用いて塩基部２位にハロゲン原子を導入するか、又は、２，６位のアミノ基を同条件下処理し、２，６−ジハロプリン誘導体とした後、アンモニア処理により塩基部６位のハロゲン原子をアミノ基とすることで合成することができる。
【００３３】
式［Ｖ］で表される化合物の２位アミノ基をフッ素へと置換する試薬としては、テトラフルオロホウ酸中の亜硝酸ナトリウム、フッ化水素−ピリジン中の亜硝酸ｔ−ブチル等の亜硝酸エステルなどを例示することができる。
【００３４】
反応条件は用いる試薬により異なり、たとえば、フッ化水素−ピリジン中、亜硝酸ｔ−ブチルを用いる場合、フッ化水素−ピリジンを溶媒として、亜硝酸ｔ−ブチルを１〜３モル用い、−５０℃から室温で１５分から５時間程度反応させればよい。また、２，６−ジフルオロプリン誘導体とした場合は、引き続き、ジオキサン、メタノール等の有機溶媒中、アンモニア水処理すればよい。
【００３５】
一方、式［Ｖ］で表される化合物の２位アミノ基を塩素へと置換する試薬としては、ジクロロメタンなどの有機溶媒中、三塩化アンチモン−亜硝酸ｔ−ブチル、塩化アセチル−亜硝酸ベンジルトリエチルアンモニウムの組み合わせなどを例示することができる。
【００３６】
反応条件は用いる試薬により異なり、たとえば、塩化アセチル−亜硝酸ベンジルトリエチルアンモニウムの組み合わせを用いる場合、ジクロロメタン等の有機溶媒中、化合物［Ｖ］１モルに対して、亜硝酸ベンジルトリエチルアンモニウム１〜５モルと１〜５モルの塩化アセチルとを−５０℃から室温で３０分間から３時間程度処理した後、化合物［Ｖ］を−５０℃から室温で１時間から数日間反応させればよい。また、２，６−ジクロロプリン誘導体とした場合は、引き続き、ジオキサン、メタノール等の有機溶媒中、アンモニア水処理すればよい。
【００３７】
こうして得られた化合物［ＶＩ］の保護基を除去して、Ｒ2が水素である本発明化合物を得、必要に応じてリン酸化して本発明化合物を得る。
【００３８】
【化４】
【００３９】
（式中、Ｐは保護基、Ｘはハロゲン原子、Ｒ1はエチニル基又はシアノ基、Ｒ2は水素原子、リン酸又はその誘導体残基を示す。）
保護基の除去は、使用した保護基に応じ、酸性加水分解、アルカリ性加水分解、フッ化テトラブチルアンモニウム処理、接触還元などの通常の処理方法から適宜選択して行えばよい。
【００４０】
【化５】
【００４１】
（式中、Ｘはハロゲン原子、Ｒ1はエチニル基又はシアノ基、Ｒ2は水素を示す。）
【００４２】
本発明化合物の５’−Ｈ−ホスホネート誘導体［ＶＩＩ］を得るには、有機溶媒中、適当な縮合剤を用い、Ｒ2が水素である化合物［Ｉ］とホスホン酸を縮合すればよい。用いる有機溶媒として、ピリジン、又はトリエチルアミン等の塩基存在下でのジメチルホルムアミド、縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジイソプロピルカルボジイミド、水溶性カルボジイミド等のカルボジイミド、塩化トルエンスルホニル等のスルホン酸ハロゲン化物、塩化ジフェニルリン酸等のリン酸塩化物を例示することができる。
【００４３】
反応条件は用いる試薬により異なり、たとえば、ピリジン中、ジシクロヘキシルカルボジイミドを用いる場合、化合物［Ｉ］１モルに対して、ホスホン酸を１〜５モル、ジシクロヘキシルカルボジイミドを１〜１０モル用い、０℃〜５０℃で１〜２４時間程度反応させることにより実施できる。
【００４４】
また、Ｒ2がモノリン酸残基である化合物を得る場合には、Ｒ2が水素原子である化合物をオキシ塩化リン、テトラクロロピロリン酸などのヌクレオシドの５’位の選択的なリン酸化に使用されるリン酸化剤と反応させることにより、更に、Ｒ2がジリン酸、トリリン酸残基である化合物を得るには、対応する５’−モノリン酸化合物をホスホイミダゾリド、ホスホモルホリデート、ジフェニルリン酸無水物などを用いて活性化した後、それぞれ、リン酸、ピロリン酸、又はこれらの適当な塩と反応させることにより、遊離酸型又は塩型の目的化合物を得ることができる。
【００４５】
本発明化合物［ＩＩ］は、以下に説明する工程により製造することができる。
第１工程；
第１工程は式［Ｉ］で表され、Ｒ2が水素である化合物の５’位水酸基を選択的に保護し、式［ＶＩＩＩ］で表される化合物を得る工程である。
【００４６】
【化６】
【００４７】
（式中、Ｐは保護基、Ｘはハロゲン原子、Ｒ1はエチニル基又はシアノ基、Ｒ2は水素を示す。）
【００４８】
Ｐで表される５’位水酸基の保護基としては、１級水酸基の選択的な保護基として常用されているものであればよく、具体的には、トリメトキシトリチル基、ジメトキシトリチル基、メトキシトリチル基、トリチル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、ベンゾイル基等を例示することができる。
【００４９】
保護基の導入反応は、前記と同様の方法にて実施できる。
【００５０】
第２工程；
第２工程は、式［ＶＩＩＩ］で表される化合物の３’位水酸基を脱水し、２’，３’−２重結合とし、化合物式［ＶＩＶ］とする工程である。
【００５１】
【化７】
【００５２】
（式中、Ｐは保護基、Ｘはハロゲン原子、Ｒ1はエチニル基又はシアノ基を示す。）
化合物［ＶＩＩＩ］の３’位水酸基を脱水し、化合物［ＶＩＶ］とするには、化合物［ＶＩＩＩ］の３’位水酸基をハロゲン原子、又は、メタンスルホン酸、クロロメタンスルホン酸、トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のスルホン酸エステルのような脱離能を有する官能基へと変換後、これを塩基処理により脱離させることで実施できる。
【００５３】
反応条件は用いる試薬により異なり、たとえば、トリフルオロメタンスルホン酸エステルを経る反応を用いる場合、ジクロロメタン、ピリジン等の有機溶媒中、トリフルオロメタンスルホン酸無水物とピリジン、トリエチルアミン等の塩基をそれぞれ、１〜５モル、５〜１０モル用い、−７８℃〜室温で１時間〜２４時間程度反応させることにより実施できる。
【００５４】
こうして得られた化合物［ＶＩＶ］の保護基を除去して、Ｒ2が水素である本発明化合
物を得、必要に応じてリン酸化して本発明化合物を得る。
【００５５】
【化８】
【００５６】
（式中、Ｘはハロゲン原子、Ｐは保護基、Ｒ1はエチニル基又はシアノ基、Ｒ2は、水素原子、リン酸又はその誘導体残基を示す。）
【００５７】
保護基の除去は、使用した保護基に応じ、酸性加水分解、アルカリ性加水分解、フッ化テトラブチルアンモニウム処理、接触還元などの通常の処理方法から適宜選択して行えばよい。
【００５８】
Ｒ2がリン酸又はその誘導体残基を示す化合物は、前記式［Ｉ］化合物と同様の方法で合成することができる。
【００５９】
本発明化合物［ＩＩＩ］は、以下に説明する工程により製造することができる。
第１工程；
第１工程は、式［Ｘ］で表される化合物の４位のヒドロキシメチル基を酸化してアルデヒド化合物とし、更にトリエチルシリルエチニル化合物、又はシアノ化合物へと変換することにより式［ＸＩ］で表される化合物を得る工程である。
【００６０】
【化９】
【００６１】
（Ｒ1はエチニル基、トリエチルシリルエチニル基又はシアノ基を示す。）
【００６２】
原料化合物は、式［Ｘ］で表される公知化合物である（Ｂｉｏｓｃｉ．Ｂｉｏｔｅｃｈ．Ｂｉｏｃｈｅｍ．，５７，１４３３−１４３８（１９９３））。トリエチルシリルエチニル化合物への変換反応は、式［Ｘ］化合物の４位ヒドロキシメチル基をホルミル基へと酸化した後、これをジブロモビニル基へと変換し、引き続き、強塩基処理するにより脱ブロモ化水素することにより実施できる。
【００６３】
式［Ｘ］で表される化合物の４−ヒドロキシメチル基をホルミル基に変換する場合、用いる酸化剤としては、無水クロム酸、ピリジンと無水酢酸との複合試薬、ピリジンクロロクロメート、ピリジンジクロメートなどのクロム系酸化剤；デス−マーチン試薬などの高原子価ヨウ素酸化剤；ジメチルスルホキシドと無水酢酸、塩化オキサリル又はジシクロヘキシルカルボジイミドとを組み合わせて用いるジメチルスルホキシド系酸化剤などを例示することができる。
【００６４】
反応条件は用いる酸化剤により異なり、たとえば、塩化オキサリルとジメチルスルホキシドを用いて酸化する場合、ジクロロメタンなどの有機溶媒中、必要によりアルゴン、窒素などの不活性ガス雰囲気下、式［Ｘ］化合物１モルに対して塩化オキサリルとジメチルスルホキシドをそれぞれ１〜５モル、１．５〜６モル用い、−１００〜０℃で１５分から２時間程度反応させ、トリエチルアミンなどの塩基類を２〜１０モル添加し、更に室温にて１５分から２時間程度反応させることにより実施できる。
【００６５】
次に、得られたアルデヒド化合物からアルキン化合物への変換は、アルデヒド化合物を増炭反応（Ｃ−Ｃ結合形成反応）に付し、強塩基で処理してメタルアルキニル化合物とし、最後に保護基を導入することにより実施できる。増炭反応は、ジクロロメタン、ジクロロエタンなどの有機溶媒中、必要によりアルゴン、窒素などの不活性ガス雰囲気下、先に得られたアルデヒド化合物１モルに対して四臭化炭素とトリフェニルホスフィンをそれぞれ１〜５モルと２〜１０モル用い、０〜５０℃で１５分〜３時間程度反応させることにより実施できる。
【００６６】
強塩基処理は、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジメトキシエタンなどの有機溶媒中、必要によりアルゴン、窒素などの不活性ガス雰囲気下、増炭反応により得られた化合物１モルに対してメチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウムなどのリチウム化合物２〜４モル用い、−１００〜−２０℃で５〜６０分程度反応させることにより実施できる。更に、得られた化合物のアルキニル基にシリル系保護基を導入する場合、上記強塩基処理に続けてクロロトリエチルシランなどのシリル化剤を添加し、反応させることにより実施することができる。
【００６７】
一方、式［Ｘ］化合物のシアノ化合物への変換反応は、式［Ｘ］化合物の４位ヒドロキシメチル基をホルミル基へと酸化した後、これをオキシム化合物へと変換し、引き続き、得られたオキシム化合物を脱水することにより実施できる。
【００６８】
式［Ｘ］で表される化合物の４−ヒドロキシメチル基をホルミル基に変換する場合、用いる酸化剤としては、無水クロム酸、ピリジンと無水酢酸との複合試薬、ピリジンクロロクロメート、ピリジンジクロメートなどのクロム系酸化剤；デス−マーチン試薬などの高原子価ヨウ素酸化剤；ジメチルスルホキシドと無水酢酸、塩化オキサリル又はジシクロヘキシルカルボジイミドとを組み合わせて用いるジメチルスルホキシド系酸化剤などを例示することができる。
【００６９】
反応条件は用いる酸化剤により異なり、たとえば、塩化オキサリルとジメチルスルホキシドを用いて酸化する場合、ジクロロメタンなどの有機溶媒中、必要によりアルゴン、窒素などの不活性ガス雰囲気下、式［Ｘ］化合物１モルに対して塩化オキサリルとジメチルスルホキシドをそれぞれ１〜５モル、１．５〜６モル用い、−１００〜０℃で１５分から２時間程度反応させ、トリエチルアミンなどの塩基類を２〜１０モル添加し、更に室温にて１５分から２時間程度反応させることにより実施できる。
【００７０】
アルデヒド化合物のオキシム化合物への変換は、ピリジン等の有機溶媒中、アルデヒド化合物１モルに対して１〜５モルの塩酸ヒドロキシルアミンを使用し、室温〜１００℃で３０分〜３時間程度反応させることにより実施できる。
【００７１】
オキシム化合物の脱水は、ジクロロメタン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン等の有機溶媒中、ピリジン、トリエチルアミン、酢酸ナトリウム等の塩基存在下、ホスゲン、カルボニルジイミダゾール、塩化メタンスルホニル、無水酢酸等の脱水剤を用いることで実施できる。
【００７２】
脱水反応条件は用いる脱水剤により異なり、たとえば、塩化メタンスルホニルを用いて脱水する場合、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ピリジン等の有機溶媒中、オキシム化合物１モルに対して塩化メタンスルホニルとトリエチルアミンをそれぞれ１〜５モル、５〜１０モル用い、−５０℃〜室温で１５分〜２時間程度反応させることにより実施できる。
【００７３】
第２工程；
第２工程は、式［ＸＩ］で表される化合物の３，５位の水酸基を保護するメトキシベンジリデン基を除去し、式［ＸＩＩ］で表される化合物とする工程である。
【００７４】
【化１０】
【００７５】
（Ｒ1はエチニル基、トリエチルシリルエチニル基又はシアノ基を示す。）
【００７６】
保護基の除去法としては、酸性加水分解、接触還元等の処理方法から適宜選択して行えばよい。
【００７７】
反応条件は用いる反応により異なり、たとえば、酸性加水分解を用いるときは、式［ＸＩ］の化合物をギ酸、酢酸等の有機酸、又は鉱酸の水溶液中、０〜１００℃で１〜２４時間反応させることにより実施できる。
【００７８】
第３工程；
第３工程は式［ＸＩＩ］で表される化合物の５位水酸基を選択的に保護し、式［ＸＩＩＩ］で表される化合物を得る工程である。
【００７９】
【化１１】
【００８０】
（式中、Ｐは保護基、Ｒ1はエチニル基、トリエチルシリルエチニル基又はシアノ基を示す。）
【００８１】
Ｐで表される５位水酸基の保護基としては、１級水酸基の選択的な保護基として常用されているものであればよく、具体的には、トリメトキシトリチル基、ジメトキシトリチル基、メトキシトリチル基、トリチル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、ベンゾイル基等を例示することができる。
保護基の導入反応は、前記と同様の方法にて実施できる。
【００８２】
第４工程；
第４工程は式［ＸＩＩＩ］で表される化合物の３位水酸基を還元し、式［ＸＩＶ］で表される化合物を得る工程である。
【００８３】
【化１２】
【００８４】
（式中、Ｐは保護基、Ｒ1はエチニル基、トリエチルシリルエチニル基又はシアノ基を示す。）
【００８５】
３位水酸基のデオキシ化は、３位水酸基をハロゲン化体（ヨウ素体、臭素体、塩素体）、フェノキシチオカルボニル体、チオカルボニルイミダゾール体、メチルジチオカルボネート体等に変換した後、ラジカル開始剤存在下、ラジカル還元剤により還元することによって行うことができる。
【００８６】
例えば、フェノキシチオカルボニル体に導いてデオキシ化する場合、フェノキシチオカルボニル化反応は、必要によりアルゴン、窒素等の不活性ガス雰囲気下、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジクロロメタン等の有機溶媒中、ジメチルアミノピリジン、ピリジン等の塩基共存下、３位水酸基の保護基のみ除去された上記化合物１モルに対してクロロチオノギ酸フェニル誘導体１〜１０モル、好ましくは１〜２モル用い、０〜５０℃で０．５〜５時間程度撹拌反応させることにより実施することができる。
【００８７】
続けて行う還元反応は、トルエン、ベンゼン等の有機溶媒中、必要によりアルゴン、窒素等の不活性ガス雰囲気下、アゾビスイソブチロニトリル等のラジカル開始剤存在下、上記フェノキシチオカルボニル体１モルに対して水素化トリブチルスズ、トリス（トリメチルシリル）シラン等のラジカル還元剤１〜１０モル、好ましくは２〜５モル用い、５０〜１５０℃で１〜５時間程度撹拌反応させることにより実施することができる。
【００８８】
第５工程；
第５工程は式［ＸＩＶ］で表される化合物の１，２位イソプロピリデン基を除去後、生じた水酸基をアセチル化し、式［ＸＶ］で表される化合物を得る工程である。
【００８９】
【化１３】
【００９０】
（式中、Ｐは保護基、Ｒ1はエチニル基、トリエチルシリルエチニル基又はシアノ基を示す。）
【００９１】
１，２位イソプロピリデン基の除去法として、酸性加水分解の条件を用いるときは、式［ＸＩＶ］化合物をギ酸、酢酸等の有機酸、又は鉱酸の水溶液中、０〜１００℃で１〜２４時間反応させることにより実施できる。
【００９２】
引き続く、水酸基へのアセチル基の導入は、常法により行うことができ、たとえば、ピリジン、アセトニトリル、ジクロロメタン等の有機溶媒中、ピリジン、トリエチルアミン等の塩基存在下、塩化アセチル、無水酢酸などのアセチル化剤と反応させることにより実施することができる。
【００９３】
たとえば、ピリジン中、無水酢酸により反応を行う場合、上記の脱イソプロピリデン体１モルに対して、２〜１０モルの無水酢酸、及び、場合に応じて、触媒量の４−ジメチルアミノピリジンを用い、０〜１００℃で１〜２４時間反応させることにより実施できる。
【００９４】
第６工程；
第６工程は式［ＸＶ］で表される化合物を、２，６−ジアミノプリンと縮合し、式［ＸＶＩ］で表される化合物を得る工程である。
【００９５】
【化１４】
【００９６】
（式中、Ｐは保護基、Ｒ1はエチニル基、トリエチルシリルエチニル基又はシアノ基を示す。）
【００９７】
式［ＸＶ］で表される化合物と２，６−ジアミノプリンとの縮合は、ルイス酸存在下、式［ＸＶ］の化合物を２，６−ジアミノプリンと反応させることによって行うことができる。２，６−ジアミノプリンはシリル化したものを用いてもよく、このようなシリル化した塩基類は公知の方法、たとえばヘキサメチルジシラザンとトリメチルクロロシラン中で加熱環流するか、又はアセトニトリル、１，２−ジクロロエタン等の有機溶媒中、ビス（トリメチルシリル）アセトアミドと加熱還流することにより得ることができる。使用するルイス酸としては、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル、四塩化すず、塩化亜鉛、ヨウ化亜鉛、無水塩化アルミニウムなどが例示される。
【００９８】
縮合反応は、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、アセトニトリル、トルエン等の有機溶媒中、必要によりアルゴン、窒素などの不活性ガス雰囲気下、式［ＸＶ］の化合物１モルに対し２，６−ジアミノプリン１〜１０モル及びルイス酸０．１〜１０モルとを用い、−２０〜１５０℃で３０分〜２４時間程度反応させることにより実施することができる。
【００９９】
第７工程；
第７工程は、式［ＸＶＩ］で表される化合物の２位アミノ基をフッ素又は塩素へと変換し、式［ＸＶＩＩ］で表される化合物を得る工程である。
【０１００】
【化１５】
【０１０１】
（式中、Ｐは保護基、Ｘはハロゲン原子、Ｒ1はエチニル基、トリエチルシリルエチニル基又はシアノ基を示す。）
【０１０２】
式［ＸＶＩＩ］で表される化合物は、式［ＸＶＩ］で表される化合物の２位アミノ基を亜硝酸誘導体で処理後、ハロゲン化試薬を用いて塩基部２位にハロゲン原子を導入するか、又は、２，６位のアミノ基を同条件下処理し、２，６−ジハロプリン誘導体とした後、アンモニア処理により塩基部６位のハロゲン原子をアミノ基とすることで合成することができる。
【０１０３】
式［ＸＶＩ］で表される化合物の２位アミノ基をフッ素へと置換する試薬としては、テトラフルオロホウ酸中の亜硝酸ナトリウム、フッ化水素−ピリジン中の亜硝酸ｔ−ブチル等の亜硝酸エステルなどを例示することができる。
【０１０４】
反応条件は用いる試薬により異なり、たとえば、フッ化水素−ピリジン中、亜硝酸ｔ−ブチルを用いる場合、フッ化水素−ピリジンを溶媒として、亜硝酸ｔ−ブチルを１〜３モル用い、−５０℃から０℃で１５分から５時間程度反応させればよい。また、２，６−ジフルオロプリン誘導体とした場合は、引き続き、ジオキサン、メタノール等の有機溶媒中、アンモニア水処理すればよい。
【０１０５】
一方、式［ＸＶＩ］で表される化合物の２位アミノ基を塩素へと置換する試薬としては、ジクロロメタンなどの有機溶媒中、三塩化アンチモン−亜硝酸ｔ−ブチル、塩化アセチル−亜硝酸ベンジルトリエチルアンモニウムの組み合わせなどを例示することができる。
【０１０６】
反応条件は用いる試薬により異なり、たとえば、塩化アセチル−亜硝酸ベンジルトリエチルアンモニウムの組み合わせを用いる場合、ジクロロメタン等の有機溶媒中、化合物［ＸＶＩ］１モルに対して、亜硝酸ベンジルトリエチルアンモニウム１〜５モルを−５０℃から室温で３０分間から３時間程度、１〜５モルの塩化アセチルと処理した後、化合物［ＸＶI］を−５０℃から室温で１時間から数日間反応させればよい。また、２，６−ジクロロプリン誘導体とした場合は、引き続き、ジオキサン、メタノール等の有機溶媒中、アンモニア水処理すればよい。
【０１０７】
第８工程；
第８工程は、式［ＸＶＩＩ］で表される化合物の２’位水酸基を保護するアセチル基を除去し、式［ＸＶＩＩＩ］で表される化合物を得る工程である。
【０１０８】
【化１６】
【０１０９】
（式中、Ｐは保護基、Ｘはハロゲン原子、Ｒ1はエチニル基、トリエチルシリルエチニル基又はシアノ基を示す。）
【０１１０】
アセチル基の除去は、適当な塩基又は酸触媒を用いて行うことができ、例えば塩基触媒を用いる場合、エタノール等のアルコール系溶媒と水との混合溶媒中、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチルアミン、アンモニア水等を例示することができる。
【０１１１】
例えば、メタノール中、アンモニア水を用い、０〜１００℃で１〜２４時間反応させることにより、実施できる。
【０１１２】
第９工程；
第９工程は、式［ＸＶＩＩＩ］で表される化合物の２’位水酸基を還元し、式［ＸＩＸ］で表される化合物を得る工程である。
【０１１３】
【化１７】
【０１１４】
（式中、Ｐは保護基、Ｘはハロゲン原子、Ｒ1はエチニル基、トリエチルシリルエチニル基又はシアノ基を示す。）
【０１１５】
２’位水酸基のデオキシ化は、２’位水酸基をハロゲン化体（ヨウ素体、臭素体、塩素体）、フェノキシチオカルボニル体、チオカルボニルイミダゾール体、メチルジチオカルボネート体等に変換した後、ラジカル開始剤存在下、ラジカル還元剤により還元することによって行うことができる。
【０１１６】
例えば、フェノキシチオカルボニル体に導いてデオキシ化する場合、フェノキシチオカルボニル化反応は、必要によりアルゴン、窒素等の不活性ガス雰囲気下、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジクロロメタン等の有機溶媒中、ジメチルアミノピリジン、ピリジン等の塩基共存下、２’位水酸基の保護基のみ除去された上記化合物１モルに対してクロロチオノギ酸フェニル誘導体１〜１０モル、好ましくは１〜２モル用い、０〜５０℃で０．５〜５時間程度撹拌反応させることにより実施することができる。
【０１１７】
続けて行う還元反応は、トルエン、ベンゼン等の有機溶媒中、必要によりアルゴン、窒素等の不活性ガス雰囲気下、アゾビスイソブチロニトリル等のラジカル開始剤存在下、上記フェノキシチオカルボニル体１モルに対して水素化トリブチルスズ、トリス（トリメチルシリル）シラン等のラジカル還元剤１〜１０モル、好ましくは２〜５モル用い、５０〜１５０℃で１〜５時間程度撹拌反応させることにより実施することができる。
【０１１８】
こうして得られた化合物［ＸＩＸ］の水酸基、及び、エチニル基の保護基を除去して、Ｒ2が水素である本発明化合物を得、必要に応じてリン酸化して本発明化合物を得る。
【０１１９】
【化１８】
【０１２０】
（式中、Ｐは保護基、Ｘはハロゲン原子、Ｒ1はエチニル基、トリエチルシリルエチニル基又はシアノ基、Ｒ2は、水素、リン酸又はその誘導体残基を示す。）
【０１２１】
保護基の除去は、使用した保護基に応じ、酸性加水分解、アルカリ性加水分解、フッ化テトラブチルアンモニウム処理、接触還元などの通常の処理方法から適宜選択して行えばよい。
また、Ｒ2がリン酸又はその誘導体残基を示す化合物は、前記式［Ｉ］化合物と同様の方法で合成することができる。
【０１２２】
本発明化合物は、一般のヌクレオシド、ヌクレオチドの単離精製に使用されている方法（例えば、再結晶法、イオン交換カラムクロマトグラフィー、吸着カラムクロマトグラフィーなど）を適宜組み合せて分離精製することができる。このようにして得られた化合物は、必要に応じて塩とすることもできる。
【０１２３】
（３）用途
本発明化合物は、後述の試験例に示すようにレトロウイルスに対して優れた抗ウイルス作用を有することから、これらを有効成分とする本発明組成物は医薬としての使用、具体的にはレトロウイルスの感染症の処置、特にヒト免疫不全ウイルス（ＨＩＶ）感染に起因するエイズの治療に有用である。
【０１２４】
本発明化合物の投与量は、患者の年齢、体重、疾病、患者の重篤度、薬物による忍容性、投与方法などにより異なり、これらの条件を総合した上で適宜決定されるものであるが、通常１日当たり０．００００１〜１０００ｍｇ／ｋｇ体重、好ましくは０．０００１〜１００ｍｇ／ｋｇ体重の範囲内から選ばれ、一回又は複数回に分けて投与される。
投与方法は、経口、非経口、経腸、局所投与などのいずれの経路でもよい。
【０１２５】
本発明化合物の製剤化に際しては、通常使用される製剤用担体、賦形剤、その他の添加剤を含む組成物として使用するのが普通である。担体としては、乳糖、カオリン、ショ糖、結晶セルロース、コーンスターチ、タルク、寒天、ペクチン、ステアリン酸、ステアリン酸マグネシウム、レシチン、塩化ナトリウムなどの固体状担体、グリセリン、落花生油、ポリビニルピロリドン、オリーブ油、エタノール、ベンジルアルコール、プロピレングリコール、水などの液状担体を例示することができる。
【０１２６】
剤型としては任意の形態を採ることができ、たとえば固体状担体を使用する場合には錠剤、散剤、顆粒剤、カプセル化剤、坐剤、トローチ剤などを、液状担体を使用する場合にはシロップ、乳液、軟ゼラチンカプセル、クリーム、ゲル、ペースト、スプレー、注射などをそれぞれ例示することができる。
【実施例】
【０１２７】
以下、本発明を合成例、試験例、製剤例などをあげて具体的に説明するが、本発明はこれらによって何等限定されるものではない。
【０１２８】
合成例１：２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン（化合物４）の合成
【０１２９】
（１）９−（３，５−ジ−Ｏ−アセチル−２−デオキシ−４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−リボ−ペントフラノシル）−２，６−ジアミノプリン（化合物２）の合成
【０１３０】
【化１９】
【０１３１】
化合物１（０．３３ｇ、１．１４ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（１０．０ｍＬ）に懸濁し、無水酢酸（０．２３ｍＬ、２．４３ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．６７ｇ、４．８１ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン少量を加え、室温で終夜撹拌した。
析出した結晶をろ取、乾燥し、化合物２（０．４０ｇ、１．０７ｍｍｏｌ、９３．９％）を得た。
【０１３２】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ：７．９４（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），６．７６（２Ｈ，ｂｓ，ＮＨ2），６．２７（１Ｈ，ｔ，Ｈ−１’，Ｊ＝７．００），５．８４（２Ｈ，ｂｓ，ＮＨ2），５．６０（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３’，Ｊ＝４．００，６．８０），４．４６（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ａ，Ｊ＝１１．５），４．２１（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ｂ，Ｊ＝１１．５），３．７４（１Ｈ，ｓ，ｅｔｈｙｎｙｌ）３．１２（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ａ），２．５２（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ｂ），２．１２，２．０３（ｅａｃｈ３Ｈ，ｓ，ａｃｅｔｙｌ）
【０１３３】
（２）３’，５’−ジ−Ｏ−アセチル−２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン（化合物３）の合成
【０１３４】
【化２０】
【０１３５】
化合物２（４５０ｍｇ、１．２０ｍｍｏｌ）を７０％フッ化水素−ピリジン（５．００ｍＬ）に溶解し、亜硝酸ｔ−ブチル（０．１９４ｍＬ、１．６３ｍｍｏｌ）を加え、−１０℃で１時間撹拌した。蒸留水を加えた後、クロロホルムで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥後、減圧下濃縮した。残さにクロロホルム：メタノール（５０：１）を加え、析出した結晶をろ取、乾燥し、化合物３（２４０ｍｇ、０．６４ｍｍｏｌ、５３．３％）を得た。
【０１３６】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ：８．３４（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），７．９４，７．９９（ｅａｃｈ１Ｈ，ｂｓ，ＮＨ2），６．３５（１Ｈ，ｔ，Ｈ−１’，Ｊ＝６．８０），５．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３’，Ｊ＝５．１０，７．０５），４．４１（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ａ，Ｊ＝１１．６），４．２１（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ｂ，Ｊ＝１１．６），３．４２（１Ｈ，ｓ，ｅｔｈｙｎｙｌ），３．１４（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ａ），２．６３（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ｂ），２．１２，２．００（ｅａｃｈ３Ｈ，ｓ，ａｃｅｔｙｌ）．
【０１３７】
（３）２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン（化合物４）の合成
【０１３８】
【化２１】
【０１３９】
化合物３（２００ｍｇ、０．５３ｍｍｏｌ）をメタノール（７．００ｍＬ）に溶解し、２８％アンモニア水（５．００ｍＬ）を加え、室温で４時間撹拌した。反応液を減圧下濃縮後、残さにクロロホルム：メタノール（２０：１）を加え、析出した結晶をろ取した。得られた結晶を水から再結晶化し、化合物４（１１３ｍｇ、０．３９ｍｍｏｌ、７３．６％）を得た。
【０１４０】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ：８．３０（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），７．８７，７．８４（ｅａｃｈ１Ｈ，ｂｓ，ＮＨ2），６．２４（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−１’，Ｊ＝５．０５，７．１５），５．５７（１Ｈ，ｄ，３’−ＯＨ，Ｊ＝５．５０），５．３０（１Ｈ，ｔ，５’−ＯＨ，Ｊ＝６．４０），４．５７（１Ｈ，ｍ，Ｈ−３’），３．６５（１Ｈ，ｍ，Ｈ−５’ａ），３．５５（１Ｈ，ｍ，Ｈ−５’ｂ），３．５１（１Ｈ，ｓ，ｅｔｈｙｎｙｌ），２．７０（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ａ），２．４４（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ｂ）．
【０１４１】
合成例２：４’−Ｃ−シアノ−２’−デオキシ−２−フルオロアデノシン（化合物８）の合成
【０１４２】
（１）９−（３，５−ジ−Ｏ−アセチル−４−Ｃ−シアノ−２−デオキシ−β−Ｄ−リボ−ペントフラノシル）−２，６−ジアミノプリン（化合物６）の合成
【０１４３】
【化２２】
【０１４４】
化合物５（１２２ｍｇ、０．４１８ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（５．００ｍＬ）に懸濁し、無水酢酸（１１８μｌ、１．２５ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（３５２μｌ、２．５１ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン少量を加え、室温で終夜撹拌した。析出した結晶をろ取、乾燥し、化合物６（１２８ｍｇ、０．３４１ｍｍｏｌ、８１．６％）を得た。
【０１４５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：７．５４（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），６．３１（１Ｈ，ｔ，Ｈ−１’，Ｊ＝７．００），６．０６（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３’，Ｊ＝５．００，６．５０），５．３１（２Ｈ，ｂｓ，ＮＨ2），４．９５（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ａ，Ｊ＝１１．５），４．８０（２Ｈ，ｂｓ，ＮＨ2），４．３７（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ｂ，Ｊ＝１２．０），３．４３（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ａ），２．６３（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ｂ），２．２３，２．１２（ｅａｃｈ３Ｈ，ｓ，ａｃｅｔｙｌ）．
【０１４６】
（２）３’，５’−ジ−Ｏ−アセチル−４’−Ｃ−シアノ−２’−デオキシ−２−フルオロアデノシン（化合物７）の合成
【０１４７】
【化２３】
【０１４８】
化合物６（１１８ｍｇ、０．３１４ｍｍｏｌ）を７０％フッ化水素−ピリジン（２．３０ｍＬ）に溶解し、亜硝酸ｔ−ブチル（５０．０μｌ、０．４２７ｍｍｏｌ）を加え、−１０℃で３時間撹拌した。亜硝酸ｔ−ブチル（１０．０μｌ、８５μｍｏｌ）を追加し、同温度で更に１時間撹拌した。飽和重曹水を加えた後、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥後、減圧濃縮した。残さをエタノールに加熱溶解後、冷却し、析出した結晶をろ取、乾燥し、化合物７（５３．７ｍｇ、０．１４ｍｍｏｌ、４５．２％）を得た。
【０１４９】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ：８．３５（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），８．００，７．９２（ｅａｃｈ１Ｈ，ｂｓ，ＮＨ2），６．５４（１Ｈ，ｔ，Ｈ−１’，Ｊ＝７．００），５．８３（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３’，Ｊ＝４．００，６．５０），４．６３（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ａ，Ｊ＝１１．５），４．４４（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ｂ，Ｊ＝１２．０），３．２６（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ａ），２．７３（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ｂ），２．１８，２．０５（ｅａｃｈ３Ｈ，ｓ，ａｃｅｔｙｌ）．
【０１５０】
（３）４’−Ｃ−シアノ−２’−デオキシ−２−フルオロアデノシン（化合物８）の合成
【０１５１】
【化２４】
【０１５２】
化合物７（５３．７ｍｇ、０．１４２ｍｍｏｌ）をメタノール（１．９０ｍＬ）に溶解し、２８％アンモニア水（１．３０ｍＬ）を加え、室温で３０分間撹拌した。反応液を減圧下濃縮後、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル １０ｍＬ、ヘキサン：酢酸エチル＝５：１〜酢酸エチル〜酢酸エチル：メタノール＝１０：１）で精製し、化合物８（３０．２ｍｇ、０．１０ｍｍｏｌ、７２．３％）を得た。
【０１５３】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ：８．３１（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），７．９３，７．８２（ｅａｃｈ１Ｈ，ｂｓ，ＮＨ2），６．４３（１Ｈ，ｔ，Ｈ−１’，Ｊ＝７．００），６．３６（１Ｈ，ｂｓ，３’−ＯＨ），５．７４（１Ｈ，ｂｓ，５’−ＯＨ），４．７０（１Ｈ，ｔ，Ｈ−３’，Ｊ＝５．５０），３．８０（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ａ，Ｊ＝１２．０），３．６５（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ｂ，Ｊ＝１２．０），２．９３（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ａ），２．４７（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ｂ）．
【０１５４】
合成例３：２−クロロ−２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニルアデノシン（化合物９）の合成
【０１５５】
【化２５】
【０１５６】
亜硝酸ベンジルトリエチルアンモニウム（１．０４ｇ、４．３６ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（２４．０ｍＬ）に溶解し、塩化アセチル（０．４０ｍＬ、５．６３ｍｍｏｌ）を加え、０℃で３０分間撹拌した。この溶液に、化合物２（３４０ｍｇ、０．９１ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（６．００ｍＬ）溶液を加え、０℃で３時間撹拌した。反応液をクロロホルムで希釈した後、有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥、減圧下濃縮した。残さに２８％アンモニア水（１０．０ｍＬ）、メタノール（１５．０ｍＬ）を加え、室温で終夜撹拌した後、反応液を減圧下濃縮し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル ５０ｍＬ、クロロホルム：メタノール＝２０：１〜１０：１）で精製した。得られた残さを更にＯＤＳカラムクロマトグラフィー（ＯＤＳ ５０ｍＬ、５〜１０〜１５〜２０％アセトニトリル）により精製し、化合物９（３９．２ｍｇ、０．１３ｍｍｏｌ、１４．３％）を得た。
【０１５７】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ：８．３４（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），７．８４（２Ｈ，ｂｓ，ＮＨ2），６．２７（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−１’，Ｊ＝５．００，７．００），５．６０（１Ｈ，ｄ，３’−ＯＨ，Ｊ＝５．００），５．３３（１Ｈ，ｔ，５’−ＯＨ，Ｊ＝６．００），４．５６（１Ｈ，ｍ，Ｈ−３’），３．６４（１Ｈ，ｍ，Ｈ−５’ａ），３．５６（１Ｈ，ｍ，Ｈ−５’ｂ），３．５２（１Ｈ，ｓ，ｅｔｈｙｎｙｌ），２．６８（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ａ），２．４５（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ｂ）．
【０１５８】
合成例４：２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン５’−Ｈ−ホスホネート（化合物１０）の合成
【０１５９】
【化２６】
【０１６０】
化合物４（５０．０ｍｇ、０．１７１ｍｍｏｌ）をピリジン（２．００ｍＬ）に溶解し、ホスホン酸（２１．０ｍｇ，０．２５ｍｍｏｌ）、ジシクロヘキシルカルボジイミド（１０６ｍｇ、０．５１ｍｍｏｌ）を加え、室温で５時間撹拌した。沈殿をろ去後、ろ液を減圧下濃縮し、残さを水−クロロホルムで分配した。水層を減圧下濃縮し、残さを分取薄層クロマトグラフィーにより精製した（イソプロパノール：２８％アンモニア水：水＝７：１：２）。得られた残さをアセトニトリルで共沸後、メタノール−エーテルで粉末とし、化合物１０（６．３ｍｇ、１７．６μｍｏｌ、１０．３％）を得た。
【０１６１】
1Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ2Ｏ）δ：８．１３（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），６．４９（１Ｈ，ｄ，Ｈ−Ｐ，Ｊ＝６４５），６．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−１’，Ｊ＝５．００，７．５０），３．９６（２Ｈ，ｍ，Ｈ−５’），２．７５，２．５９（ｅａｃｈ １Ｈ，ｍ，Ｈ−２’）．
【０１６２】
31Ｐ−ＮＭＲ（Ｄ2Ｏ）δ：６．４５．
【０１６３】
合成例５：２’，３’−ジデヒドロ−２’，３’−ジデオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン（化合物１３）の合成
【０１６４】
【化２７】
【０１６５】
化合物４（０．２８ｇ、０．９５ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド（７．００ｍＬ）に溶解し、ｔ−ブチルクロロジフェニルシラン（０．５０ｍＬ，１．９２ｍｍｏｌ）、イミダゾール（０．２６ｇ、３．８２ｍｍｏｌ）を加え、室温で終夜撹拌した。反応液にメタノールを加えた後、減圧下濃縮し、残さを酢酸エチル−水で分配した。有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥後、減圧下濃縮し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル １００ｍＬ、クロロホルム：メタノール＝２０：１）で精製した。粗製の化合物１１（０．３８ｇ）を得た。
粗製の化合物１１（０．３８ｇ）をジクロロメタン（１０．０ｍＬ）に溶解し、−１０℃で無水トリフルオロメタンスルホン酸（０．１４ｍＬ，０．８３ｍｍｏｌ）、ピリジン（０．１４ｇ、１．７１ｍｍｏｌ）を加え、同温度で２時間撹拌した。反応液に飽和重曹水を加えた後、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥後、減圧下濃縮し、得られた粗トリフラートを精製することなく、次の反応に用いた。
【０１６６】
粗トリフラートを乾燥テトラヒドロフラン（２０．０ｍＬ）に溶解し、アルゴン雰囲気下、−７８℃で、１Ｍ ナトリウムヘキサメチルジシラジド−テトラヒドロフラン溶液（２．５０ｍＬ、２．５０ｍｍｏｌ）を加え、同温度で２時間撹拌後、反応液を室温に戻し、終夜撹拌した。反応液に水を加えた後、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥後、減圧下濃縮し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル ５０ｍＬ、クロロホルム：メタノール＝５０：１〜２０：１）で精製し、粗製の化合物１２（０．２０ｇ）を得た。
得られた粗製の化合物１２をテトラヒドロフラン（１０．０ｍＬ）に溶解し、１Ｍ フッ化テトラブチルアンモニウム−テトラヒドロフラン溶液（０．５９ｍＬ、０．５９ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間撹拌した。反応液を減圧下濃縮後、クロロホルム：メタノール（１０：１）を加え、析出した結晶をろ取した。化合物１３（５２．０ｍｇ、０．１９ｍｍｏｌ、２０．０％ ｆｒｏｍ 化合物４）を得た。
【０１６７】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ：８．０８（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），７．８４（２Ｈ，ｂｓ，ＮＨ2），６．９０（１Ｈ，ｔ，Ｈ−１’，Ｊ＝１．５０），６．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３’，Ｊ＝２．００，６．００），６．２７（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３’，Ｊ＝１．００，６．００），５．３７（１Ｈ，ｔ，５’−ＯＨ，Ｊ＝６．００）３．７１（１Ｈ，ｓ，ｅｔｈｙｎｙｌ），３．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−５’ａ，Ｊ＝６．００，１２．０），３．５７（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−５’ｂ，Ｊ＝６．００，１２．０）．
【０１６８】
合成例６：２’，３’−ジデヒドロ−２’，３’−ジデオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン５’−Ｈ−ホスホネート（化合物１４）の合成
【０１６９】
【化２８】
【０１７０】
化合物１３（１３．０ｍｇ、０．０４７ｍｍｏｌ）をピリジン（０．７ｍＬ）に溶解し、ホスホン酸（７．７ｍｇ，０．０９４ｍｍｏｌ）、ジシクロヘキシルカルボジイミド（２９．２ｍｇ、０．１４ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間撹拌した。反応液を減圧下濃縮し、残さをＯＤＳカラムクロマトグラフィー（ＯＤＳ １０ｍＬ、０〜１％アセトニトリル）により精製した。得られた残さをＤｏｗｅｘ ５０Ｗｘ８カラム（Ｎａ型）に通過させた。通過液を濃縮してえられた残さをメタノール−エーテルで粉末とし、化合物１４（４．３ｍｇ、１２μｍｏｌ、２５．５％）を得た。
【０１７１】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＭｅＯＤ）δ：８．３０（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），６．６９（１Ｈ，ｄ，Ｈ−Ｐ，Ｊ＝６２５），７．０２（１Ｈ，ｂｔ，Ｈ−１’），６．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−２’，Ｊ＝２．００，５．５０），６．２２（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３’，Ｊ＝１．００，５．５０），４．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−５’ａ，Ｊ＝７．５０，１１．０），３．９９（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−５’ｂ，Ｊ＝７．５０，１１．０）．
【０１７２】
31Ｐ−ＮＭＲ（ＭｅＯＤ）δ：４．１１．
【０１７３】
合成例７：２’，３’−ジデオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン（化合物２３）の合成
【０１７４】
（１）１，２−Ｏ−イソプロピリデン−４−Ｃ−トリエチルシリルエチニル−α−Ｄ−キシロ−ペンタフラノース（化合物１６）の合成
【０１７５】
【化２９】
【０１７６】
塩化オキサリル（０．５４ｍＬ、６．１９ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１０．０ｍＬ）に溶解後、−６０℃でジメチルスルホキシド（０．９０ｍＬ、１２．７ｍｍｏｌ）を滴下し、同温度で１５分間撹拌した。ここに化合物１５（１．０６ｇ、３．１３ｍｍｏｌ、Ｂｉｏｓｃｉ．Ｂｉｏｔｅｃｈ．Ｂｉｏｃｈｅｍ．，５７，１４３３−１４３８（１９９３））のジクロロメタン溶液（１５．０ｍＬ）を滴下し、同温度で３０分間撹拌した。トリエチルアミン（１．８６ｍＬ、１３．３ｍｍｏｌ）を加えた後、反応液を室温に戻し、３０分間撹拌した。反応液をクロロホルムで希釈後、水洗し、有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。有機層を減圧下濃縮し、得られた粗アルデヒドを精製することなく次の反応に用いた。
粗アルデヒドをジクロロメタン（４０．０ｍＬ）に溶解し、０℃で四臭化炭素（２．０８ｇ、６．２７ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（３．２８ｇ、１２．５ｍｍｏｌ）を加えた後、室温で１時間撹拌した。反応液にトリエチルアミン（２．６０ｍＬ、１８．７ｍｍｏｌ）を加えた後、クロロホルムで希釈し、有機層を水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥後、減圧下濃縮し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル １００ｍＬ、ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製した。粗ジブロモエテン（１．４２ｇ）を得た。
【０１７７】
粗ジブロモエテン（１．４２ｇ、２．８９ｍｍｏｌ）を乾燥テトラヒドロフラン（２０．０ｍＬ）に溶解し、アルゴン雰囲気下、−１０℃で２．２Ｍ メチルリチウム−エーテル溶液（４．４９ｍＬ、９．８８ｍｍｏｌ）を加え、同温度で５分間撹拌した。ここにクロロトリエチルシラン（０．９５ｍＬ、５．６６ｍｍｏｌ）を加え、更に３０分間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え撹拌後、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥後、減圧下濃縮し、得られた粗アルキンを得た。
粗アルキンを酢酸（８０．０ｍＬ）に溶解し、水（２０．０ｍＬ）を加え、室温で終夜撹拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残さをトルエンで共沸した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル ５０ｍＬ、ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製し、化合物１６（０．７０ｇ、２．１３ｍｍｏｌ、６４．４％）を得た。
【０１７８】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：６．００（１Ｈ，ｄ，Ｈ−１，Ｊ＝３．５０），４．６０（１Ｈ，ｄ，Ｈ−２，Ｊ＝４．００），４．５８（１Ｈ，ｄ，Ｈ−３，Ｊ＝５．００），３．９６−３．９１（３Ｈ，ｍ，Ｈ−５ ａｎｄ ３−ＯＨ），２．５０（１Ｈ，ｔ，５−ＯＨ），１．６４，１．３３（ｅａｃｈ３Ｈ，ｓ，ａｃｅｔｏｎｉｄｅ），０．９７（９Ｈ，ｔ，Ｅｔ，Ｊ＝８．００），０．５９（６Ｈ，ｑ，Ｅｔ，Ｊ＝８．００）．
【０１７９】
（２）５−Ｏ−ｔ−ブチルジフェニルシリル−１，２−Ｏ−イソプロピリデン−４−Ｃ−トリエチルシリルエチニル−α−Ｄ−キシロ−ペンタフラノース（化合物１７）の合成
【０１８０】
【化３０】
【０１８１】
化合物１６（０．７０ｇ、２．１３ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド（３．５０ｍＬ）に溶解し、ｔ−ブチルクロロジフェニルシラン（０．６６ｍＬ、２．５４ｍｍｏｌ）、イミダゾール（０．３５ｇ、５．１４ｍｍｏｌ）を加え、終夜撹拌した。反応液にメタノールを加え減圧下濃縮し後、残さを酢酸エチルに溶解した。有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、減圧下濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル １００ｍＬ、ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製し、化合物１７（１．１０ｇ、１．９４ｍｍｏｌ、９１．１％）を得た。
【０１８２】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：７．７２−７．３６（１０Ｈ，ｓ，ａｒｏｍａｔｉｃ），６．０２（１Ｈ，ｄ，Ｈ−１，Ｊ＝３．５０），４．６６（１Ｈ，ｄ，Ｈ−３，Ｊ＝５．５０），４．６３（１Ｈ，ｄ，Ｈ−１，Ｊ＝４．００），４．０５（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５ａ，Ｊ＝１０．５），３．９９（１Ｈ，ｄ，３−ＯＨ，Ｊ＝５．５０），３．９３（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ｂ，Ｊ＝１０．５），１．６５，１．３５（ｅａｃｈ３Ｈ，ｓ，ａｃｅｔｏｎｉｄｅ），１．０６（９Ｈ，ｓ，ｔ−Ｂｕ），０．９３（９Ｈ，ｔ，Ｅｔ，Ｊ＝８．００），０．５６（６Ｈ，ｑ，Ｅｔ，Ｊ＝８．００）．
【０１８３】
（３）５−Ｏ−ｔ−ブチルジフェニルシリル−３−デオキシ−１，２−Ｏ−イソプロピリデン−４−Ｃ−トリエチルシリルエチニル−α−Ｄ−キシロ−ペントフラノース（化合物１８）の合成
【０１８４】
【化３１】
【０１８５】
化合物１７（１．１０ｇ、１．９４ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（２０．０ｍＬ）に溶解し、クロロチオノギ酸フェニル（０．４０ｍＬ、２．８９ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（０．７１ｇ、５．８１ｍｍｏｌ）を加え、室温で３時間撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈後、有機層を０．１Ｎ塩酸、飽和重曹水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。有機層を減圧下濃縮し、得られた粗チオ炭酸エステルを精製することなく次の反応に用いた。
粗チオ炭酸エステルをトルエンで３回共沸した後、トルエン（３０．０ｍＬ）に溶解し、減圧脱気した。この溶液をアルゴン雰囲気下、８０℃で水素化トリブチルスズ（２．６１ｍＬ、９．７０ｍｍｏｌ）、少量のアゾビス（イソブチロニトリル）を加え、同条件で１時間撹拌した。反応液を減圧下濃縮後、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル １００ｍＬ、ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）で精製し、化合物１８（１．０７ｇ、１．９４ｍｍｏｌ、ｑｕａｎｔ．）を得た。
【０１８６】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：７．６９−７．３８（１０Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），５．９０（１Ｈ，ｄ，Ｈ−１，Ｊ＝４．００），４．８５（１Ｈ，ｔ，Ｈ−２，Ｊ＝５．００），３．８２（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５ａ，Ｊ＝１１．０），３．５８（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５ｂ，Ｊ＝１０．５），２．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３ａ，Ｊ＝６．００，１４．０），２．４０（１Ｈ，ｄ，Ｈ−３ｂ，Ｊ＝１４．０），１．６８，１．３６（ｅａｃｈ３Ｈ，ｓ，ａｃｅｔｏｎｉｄｅ），１．０４（９Ｈ，ｓ，ｔ−Ｂｕ）０．９２（９Ｈ，ｔ，Ｅｔ，Ｊ＝８．００），０．５４（６Ｈ，ｑ，Ｅｔ，Ｊ＝８．００）．
【０１８７】
（４）１，２−ジ−Ｏ−アセチル−５−Ｏ−ｔ−ブチルジフェニルシリル−３−デオキシ−４−Ｃ−トリエチルシリルエチニル−Ｄ−キシロ−ペントフラノース（化合物１９）の合成
【０１８８】
【化３２】
【０１８９】
化合物１８（１．０７ｇ、１．９４ｍｍｏｌ）を８０％酢酸（１００ｍＬ）に溶解し、トリフルオロ酢酸（１０．０ｍＬ）を加え、４０℃で３時間撹拌した。反応液を減圧下濃縮後、残さをトルエンで共沸し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル １００ｍＬ、ヘキサン−酢酸エチル＝４：１）で精製した。得られた残さをピリジン（２０．０ｍＬ）に溶解し、無水酢酸（０．４９ｍＬ）を加え、室温で終夜撹拌した。反応液を減圧下濃縮後、残さをトルエンで共沸し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル １００ｍＬ、ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製した。化合物１９（０．７５ｇ、）を得た。
【０１９０】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：７．７１−７．３７（１０Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），６．４４（０．３Ｈ，ｄ，Ｈ−１−ａｌｐｈａ，Ｊ＝４．５０），６．３０（０．７Ｈ，ｓ，Ｈ−１−ｂｅｔａ），５．３６（０．３Ｈ，ｍ，Ｈ−２−ａｌｐｈａ），５．１９（０．７Ｈ，ｄ，Ｈ−２−ｂｅｔａ，Ｊ＝５．５０），３．７７，３．７４（ｅａｃｈ０．７Ｈ，ｄ，Ｈ−５−ｂｅｔａ，Ｊ＝１０．０），３．７６，３．６２（ｅａｃｈ０．３Ｈ，ｄ，Ｈ−５−ａｌｐｈａ，Ｊ＝１１．０），２．８６（０．３Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３ａ−ａｌｐｈａ，Ｊ＝８．５０，１２．５），２．７２（０．７Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３ａ−ｂｅｔａ，Ｊ＝５．５０，１４．０），２．３９（０．３Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３ｂ−ａｌｐｈａ，Ｊ＝１０．０，１２．５），２．３３（０．７Ｈ，ｄ，Ｈ−３ｂ−ｂｅｔａ，Ｊ＝１４．０），２．１１，２．０８（ｅａｃｈ０．９Ｈ，ｓ，ａｃｅｔｙ−ａｌｐｈａ），２．１０，１．８０（ｅａｃｈ２．１Ｈ，ｓ，ａｃｅｔｙｌ−ｂｅｔａ），１．０７４（６．３Ｈ，ｓ，ｔ−Ｂｕ−ｂｅｔａ），１．０６７（２．７Ｈ，ｓ，ｔ−Ｂｕ−ａｌｐｈａ），０．９７（６．３Ｈ，ｔ，Ｅｔ−ｂｅｔａ，Ｊ＝８．００），０．９４（２．７Ｈ，ｔ，Ｅｔ−ａｌｐｈａ，Ｊ＝８．００），０．５８（４．２Ｈ，ｑ，Ｅｔ−ｂｅｔａ，Ｊ＝８．００），０．５４（１．８Ｈ，ｑ，Ｅｔ−ａｌｐｈａ，Ｊ＝８．００）．
【０１９１】
（５）９−（２−Ｏ−アセチル−５−Ｏ−ｔ−ブチルジフェニルシリル−３−デオキシ−４−Ｃ−トリエチルシリルエチニル−β−Ｄ−キシロ−ペントフラノシル）−２，６−ジアミノプリン（化合物２０）の合成
【０１９２】
【化３３】
【０１９３】
２，６−ジアミノプリン（１．２１ｇ、８．０６ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（２４．０ｍＬ）に懸濁し、Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド（１１．９ｍＬ、４８．１ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で３時間撹拌した。この溶液を減圧下濃縮後、残さを１，２−ジクロロエタンで３回共沸した。残さに化合物１９（２．３９ｇ、４．０２ｍｍｏｌ）の１，２−ジクロロエタン溶液（２４．０ｍＬ）、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル（３．０５ｍＬ、１６．９ｍｍｏｌ）を加え、アルゴン雰囲気下、５０℃で５時間、８０℃で１０時間撹拌した。飽和重曹水を加え撹拌後、溶液をセライトろ過した。有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥後、減圧下濃縮し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル ３００ｍＬ、クロロホルム：メタノール＝２０：１）で精製した。ヘキサン−酢酸エチルから結晶化し、化合物２０（１．６０ｇ、２．３４ｍｍｏｌ、５８．２％）を得た。
【０１９４】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：７．６７−７．３３（１０Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），６．１３（１Ｈ，ｄ，Ｈ−１’，Ｊ＝３．５０），５．７７（１Ｈ，ｍｄ，Ｈ−２’），５．２８（２Ｈ，ｂｓ，ＮＨ2），４．４９（２Ｈ，ｂｓ，ＮＨ2），３．６７（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ａ，Ｊ＝１０．５），３．７９（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ｂ，Ｊ＝１１．０），３．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３’ａ，Ｊ＝７．５０，１４．０），２．３７（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３’ｂ，Ｊ＝３．００，１４．０），１．０６（９Ｈ，ｓ，ｔ−Ｂｕ），０．９９（９Ｈ，ｔ，Ｅｔ，Ｊ＝８．００），０．６１（６Ｈ，ｑ，Ｅｔ，Ｊ＝８．００）．
【０１９５】
（６）５’−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリル−３’−デオキシ−４’−Ｃ−トリエチルシリルエチニル−２−フルオロアデノシン（化合物２１）の合成
【０１９６】
【化３４】
【０１９７】
化合物２０（１００ｍｇ、０．１４６ｍｍｏｌ）をピリジン（３．００ｍＬ）に溶解し、−１５℃でフッ化水素−ピリジン（７．００ｍＬ）、亜硝酸ｔ−ブチル（１６０μｌ、１．３４ｍｍｏｌ）を加え、同温度で３０分間撹拌した。反応液に水を加えた後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重曹水で洗浄後、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、減圧下濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル ３００ｍＬ、クロロホルム：メタノール＝１００：１〜２０：１）で精製した。得られた残さ（４８．９ｍｇ）をジクロロメタン（１．３０ｍＬ）に溶解し、０℃でトリフルオロメタンスルホン酸ｔ−ブチルジメチルシリル（３６．０μｌ、０．１５７ｍｍｏｌ）、コリジン（４４．１μｌ、０．０３３１ｍｍｏｌ）を加え、同温度で５０分間撹拌した。反応液に水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を０．０１Ｎ塩酸、飽和重曹水で洗浄後、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、減圧下濃縮した。残さをジオキサン（３．００ｍＬ）に溶解し、２８％アンモニア水（０．３０ｍＬ）を加え、室温で３０分間撹拌した。反応液を減圧下濃縮後、残さをメタノール（１．２０ｍＬ）に溶解し、２８％アンモニア水（０．８０ｍＬ）を加え、室温で２時間撹拌した。反応液を減圧下濃縮し、析出した結晶をろ取し、化合物２１（３４．０ｍｇ、０．０６５２ｍｍｏｌ、４４．７％）を得た。
【０１９８】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：８．０４（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），５．９９（１Ｈ，ｄ，Ｈ−１’，Ｊ＝４．００），５．８０（２Ｈ，ｂｓ，ＮＨ2），４．７３（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’），４．２３（１Ｈ，ｄ，２’−ＯＨ，Ｊ＝５．００），３．８８（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ａ，Ｊ＝１１．０），３．７０（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ｂ，Ｊ＝１１．０），２．８２（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３’ａ，Ｊ＝７．５０，１３．０），２．４２（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３’ｂ，Ｊ＝６．５０，１３．０），１．０１（９Ｈ，ｔ，Ｅｔ，Ｊ＝８．００），０．８０（９Ｈ，ｓ，ｔ−Ｂｕ），０．６４（６Ｈ，ｑ，Ｅｔ，Ｊ＝８．００），０．０３９，−０．０１３（ｅａｃｈ３Ｈ，ｓ，Ｍｅ）．
【０１９９】
（７）５’−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリル−２’，３’−ジデオキシ−４’−Ｃ−トリエチルシリルエチニル−２−フルオロアデノシン（化合物２２）の合成
【０２００】
【化３５】
【０２０１】
化合物２１（３２．０ｍｇ、０．０６１ｍｍｏｌ）をアセトニトリルで３回共沸後、アセトニトリル（１．００ｍＬ）に溶解し、クロロチオノギ酸フェニル（１２．７μｌ、０．０９２ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（２２．５ｍｇ、０．１８０ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈後、有機層を０．０１Ｎ塩酸、飽和重曹水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。有機層を減圧下濃縮し、得られた粗チオ炭酸エステルを精製することなく次の反応に用いた。
粗チオ炭酸エステルをトルエンで３回共沸した後、トルエン（１．００ｍＬ）に溶解し、減圧脱気した。この溶液をアルゴン雰囲気下、８０℃でトリス（トリメチルシリル）シラン（９４．６μｌ、０．３０６ｍｍｏｌ）、少量のアゾビス（イソブチロニトリル）を加え、同条件で１時間撹拌した。反応液を減圧下濃縮後、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル １０ｍＬ、クロロホルム：メタノール＝２００：１〜１００：１）で精製し、化合物２２（２６．１ｍｇ、０．０５１６ｍｍｏｌ、８４．６％）を得た。
【０２０２】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：８．２４（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），６．３６（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−１’，Ｊ＝２．５０，７．００），５．９１（２Ｈ，ｂｓ，ＮＨ2），４．０４（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ａ，Ｊ＝１１．０），３．８１（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ｂ，Ｊ＝１１．０
），２．８３（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ａ），２．５４（１Ｈ，ｍ，Ｈ−３’ａ），２．３７（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ｂ），２．１１（１Ｈ，ｍ，Ｈ−３’ｂ），１．００（９Ｈ，ｔ，Ｅｔ，Ｊ＝８．００），０．９３（９Ｈ，ｓ，ｔ−Ｂｕ），０．６２（６Ｈ，ｑ，Ｅｔ，Ｊ＝８．００），０．１３（６Ｈ，ｓ，Ｍｅ）．
【０２０３】
（８）２’，３’−ジデオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン（化合物２３）の合成
【０２０４】
【化３６】
【０２０５】
化合物２２（１０１ｍｇ、０．２００ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に溶解し、１Ｍ フッ化テトラブチルアンモニウム−テトラヒドロフラン溶液（０．４２ｍＬ、０．４２ｍｍｏｌ）を加え、室温で５分間撹拌した。反応液に酢酸（２４μｌ）を加えた後、減圧下濃縮し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル １５ｍＬ、クロロホルム：メタノール＝４０：１〜２０：１）で精製した。化合物２３（５３．０ｍｇ、０．１９１ｍｍｏｌ、９５．７％）を得た。
【０２０６】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＭｅＯＤ）δ：８．２３（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），６．２２（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−１’，Ｊ＝４．００，７．００），３．７７（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ａ，Ｊ＝１２．５），３．６１（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ｂ，Ｊ＝１２．０），２．９４（１Ｈ，ｓ，ｅｔｈｙｎｙｌ），２．６６（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ａ），２．５４（１Ｈ，ｍ，Ｈ−３’ａ），２．４２（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ｂ），２．１１（１Ｈ，ｍ，Ｈ−３’ｂ）．
【０２０７】
合成例８：２’，３’−ジデオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン５’−Ｈ−ホスホネート（化合物２４）の合成
【０２０８】
【化３７】
【０２０９】
化合物２３（２０．０ｍｇ、０．０７ｍｍｏｌ）をピリジン（１ｍＬ）に溶解し、ホスホン酸（１１．８ｍｇ，０．１４４ｍｍｏｌ）、ジシクロヘキシルカルボジイミド（４４．７ｍｇ、０．２１６ｍｍｏｌ）を加え、室温で５時間撹拌した。反応液を減圧下濃縮し、残さをＯＤＳカラムクロマトグラフィー（ＯＤＳ １０ｍＬ、０−１％アセトニトリル）により精製した。得られた残さをＤｏｗｅｘ ５０Ｗｘ８カラム（Ｎａ型）に通過させた。通過液を濃縮してえられた残さをメタノール−エーテルで粉末とし、化合物２４（４．７ｍｇ、１３μｍｏｌ、１８．６％）を得た。
【０２１０】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＭｅＯＤ）δ：８．３７（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），６．７７（１Ｈ，ｄ，Ｈ−Ｐ，Ｊ＝６２５），６．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−１’，Ｊ＝４．００，６．５０），４．０９（１Ｈ，ｍ，Ｈ−５’），２．７１（２Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ａ，Ｈ−３’ａ，），２．５２（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ｂ），２．２９（１Ｈ，ｍ，Ｈ−３’ｂ）．
【０２１１】
31Ｐ−ＮＭＲ（ＭｅＯＤ）δ：４．５２
【０２１２】
製剤例１：錠剤
本発明化合物 ３０．０ｍｇ
微粉末セルロース ２５．０ｍｇ
乳糖 ３９．５ｍｇ
スターチ ４０．０ｍｇ
タルク ５．０ｍｇ
ステアリン酸マグネシウム ０．５ｍｇ
上記組成から常法によって錠剤を調製する。
【０２１３】
製剤例２：カプセル剤
本発明化合物 ３０．０ｍｇ
乳糖 ４０．０ｍｇ
スターチ １５．０ｍｇ
タルク ５．０ｍｇ
上記組成から常法によってカプセル剤を調製する。
【０２１４】
製剤例３：注射剤
本発明化合物 ３０．０ｍｇ
グルコース １００．０ｍｇ
上記組成を注射用精製水に溶解して注射剤を調製する。
【０２１５】
以下に試験例を示す。試験においては薬剤として以下の本発明化合物と公知化合物を使用した。
本発明化合物：
化合物４： ２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン
化合物８： ４’−Ｃ−シアノ−２’−デオキシ−２−フルオロアデノシン
化合物９： ２−クロロ−２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニル−アデノシン
化合物１０：２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン５’−Ｈ−ホスホネート
化合物１３：２’，３’−ジデヒドロ−２’，３’−ジデオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン
公知化合物：
ＡＺＴ：アジドチミジン
ＥｄＡｄｏ：２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニルアデノシン
ＥｄＤＡＰ：９−（４−Ｃ−エチニル−２−デオキシ−リボペントフラノシル）−２，６−ジアミノプリン
ｄｄＡｄｏ：２’，３’−ジデオキシアデノシン
【０２１６】
試験例１
＜方法＞抗ヒト免疫不全ウイルス（ＨＩＶ）活性
１）ＭＴ−４細胞を用いたＭＴＴ法
１．９６ウエルプレートを用いて被験薬剤を希釈する（１００μｌ）。ここに１ウエルあたり１００００個になるようにＨＩＶ−１（ＩＩＩbｓｔｒａｉｎ；１００ＴＣＩＤ50）感染及び非感染ＭＴ−４細胞を加えて、３７℃で５日間培養する。
２．ＭＴＴ（２０μｌ、７．５ｍｇ／ｍＬ）を加えて更に２〜３時間培養する。
３．培養終了後、１２０μｌをとり、ＭＴＴ停止液（Ｔｒｉｔｏｎ Ｘ−１００ ４％、ＨＣｌ ０．０４Ｎを加えたイソプロパノール（Ｉｓｏｐｒｏｐａｎｏｌ））を加え、撹拌して生成したホルマザン（ｆｏｒｍａｚａｍ）を溶解し、５４０ｎｍにおける吸光度を測定する。この測定値は生細胞数に比例するため、感染ＭＴ−４細胞を用いた試験の測定値が５０％になった被験薬剤の濃度をＥＣ50、また非感染ＭＴ−４細胞を用いた試験の測定値が５０％になった被験薬剤の濃度をＣＣ50とする。
【０２１７】
２）ＨｅＬａ ＣＤ４／ＬＴＲ−ｂｅｔａ−Ｇａｌ細胞を用いたＭＡＧＩアッセイ
１．ＨｅＬａ ＣＤ４／ＬＴＲ−ｂｅｔａ−Ｇａｌ細胞を１ウエルあたり１００００個の割合で９６ウエルに加える。１２〜２４時間後に培養液を捨て、希釈した被験薬剤（１００μｌ）を加える。
２．各種ＨＩＶ株（野生株：ＷＴ、耐性株：ＭＤＲ、Ｍ１８４Ｖ；各５０ＴＣＩＤ50相当）を加えて４８時間培養する。
３．培養終了後、１％ホルムアルデヒド（ｆｏｒｍａｌｄｅｈｙｄｅ）、０．２％グルタールアルデヒド（ｇｌｕｔａｒａｌｄｅｈｙｄｅ）を加えたＰＢＳで細胞を５分間固定する。
４．ＰＢＳで３回洗浄後、０．４ｍｇ／ｍＬ Ｘ−Ｇａｌで１時間染色し、青く染色された細胞の数を透過型実体顕微鏡下で各ウエルのプラーク数を数え、青染された細胞を５０％減少させる被験薬剤の濃度をＥＣ50とする。
【０２１８】
＜結果＞抗ヒト免疫不全ウイルス（ＨＩＶ）活性及び細胞毒性
１）ＭＴ−４細胞を用いたＭＴＴ法
【０２１９】
【表１】
【０２２０】
２）ＨｅＬａ ＣＤ４／ＬＴＲ−ｂｅｔａ−Ｇａｌ細胞を用いたＭＡＧＩアッセイ
【０２２１】
【表２】
【０２２２】
試験例２
＜方法＞化合物４のアデノシンデアミナーゼに対する安定性
０．５ｍＭの化合物４（５０ｍＭ Ｔｒｉｓ−ＨＣｌ緩衝液溶液（ｐＨ７．５））０．５ｍＬに子ウシ腸管由来アデノシンデアミナーゼ ０．０１ｕｎｉｔを加え、２５℃でインキュベートする。
１５分ごとに反応液５μｌを取り、高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）により分析する。反応時間０分のときの被験薬剤のピーク面積を１００％として、その経時変化を観察する。なお、ＨＰＬＣ分析は、以下の条件で行った。
カラム：ＹＭＣ−Ｐａｃｋ ＯＤＳ−Ａ（２５０×６．０ｍｍ）
溶出液：１５％ ＭｅＣＮ−５０ｍＭ ＴＥＡＡ
流速： １ｍＬ／ｍｉｎ
温度： ３０℃
検出： ２６０ｎｍ
【０２２３】
＜結果＞
その結果、図１に示すように、従来の２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニルアデノシン（ＥｄＡｄｏ）は脱アミノされるに対し、本発明化合物の２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン（化合物４）は全く脱アミノされず、アデノシンデアミナーゼに対し、抵抗性を有することが明らかとなった。
【０２２４】
試験例３
＜方法＞化合物４の酸性条件下における安定性
化合物４（２．９ｍｇ）もしくは２’，３’−ジデオキシアデノシン（ｄｄＡｄｏ：２．４ｍｇ）を予め３７℃に暖めた試験液（塩化ナトリウム２．０ｇに塩酸７．０ｍＬ及び水を加えて溶かし１０００ｍＬとしたもの）１０ｍＬに溶解し、同温度でインキュベートする。
反応液１００μｌを取り、０．１規定水酸化ナトリウム水溶液で中和後、５μｌをＨＰＬＣにより分析する。なお、ＨＰＬＣ分析条件は、試験例２と同じである。
【０２２５】
＜結果＞
その結果、従来のｄｄＡｄｏは本条件下５分ほどで約９８％が分解されるのに対し（図３）、本発明化合物の２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン（化合物４）の分解は非常に遅く、酸性条件下比較的安定であることが明らかとなった（図２）。
【０２２６】
試験例４
＜方法＞化合物４のｉｎ ｖｉｖｏにおける急性毒性試験
６週齢、雄性、ＩＣＲマウスに被検薬剤（化合物４：生理食塩水に溶解又は懸濁）を一群８匹ずつ、１００ｍｇ／ｋｇまで経口あるいは静脈内投与し、７日間マウスの生死、体重を測定した。
【０２２７】
＜結果＞
化合物４は、単回投与では経口、静脈内いずれの投与経路でも１００ｍｇ／ｋｇまでマウスの死亡は認められなかった（下記表３）。また、図４に示すように体重減少は見られず、下痢のような症状も観察されなかったことから、本発明化合物の２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン（化合物４）はマウスにおいて急性毒性を示さないことが明らかになった。
【０２２８】
【表３】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、４’−Ｃ−置換−２−ハロアデノシン誘導体及びその医薬用途、特にエイズ（ＡＩＤＳ）の治療用用途に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ＡＺＴ（ジドブジン）、ｄｄＩ（ジダノシン）、ｄｄＣ（ザルシタビン）、ｄ４Ｔ（スタブジン）、３ＴＣ（ラミブジン）などのヌクレオシド系逆転写酵素阻害剤（ｎｕｃｌｅｏｓｉｄｅ ｒｅｖｅｒｓｅ ｔｒａｎｓｃｒｉｐｔａｓｅ ｉｎｈｉｂｉｔｏｒｓ；ＮＲＴＩｓ）にプロテアーゼ阻害剤（ｐｒｏｔｅａｓｅ ｉｎｈｉｂｉｔｏｒｓ；ＰＩｓ）を加えた、いわゆる「強力な抗レトロウイルス剤による化学療法（ｈｉｇｈｌｙ ａｃｔｉｖｅ ａｎｔｉｒｅｔｒｏｖｉｒａｌ ｔｈｅｒａｐｙ；ＨＡＡＲＴ）」と呼ばれる多剤併用療法によって、ＡＩＤＳの臨床像は一変し、ＡＩＤＳによる死亡者数も各国で激減した。
【０００３】
しかし、ＨＡＡＲＴによりＡＩＤＳによる死亡者が激減する一方で、複数の薬剤に対して交叉耐性を示す多剤耐性ＨＩＶ−１（ｈｕｍａｎ ｉｍｍｕｎｏｄｅｆｉｃｉｅｎｃｙ ｖｉｒｕｓ−１）株が出現し、たとえば、ＡＺＴと３ＴＣの両方に耐性のＨＩＶに感染した患者は、１９９０年初頭ではほとんど見られなかったのに対し、１９９５〜１９９６年になると４２％にものぼっていることが報告されている。
【０００４】
大類らは、２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニルヌクレオシドを合成し、それら化合物の抗ＨＩＶ活性を測定した結果、特定の構造を有する２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニルヌクレオシドがＡＺＴと同等あるいはＡＺＴを凌ぐ優れた抗ＨＩＶ活性を有すること、ＡＺＴ、ｄｄＩ、ｄｄＣ、ｄ４Ｔ、３ＴＣなどの複数の抗ＨＩＶ剤に耐性を有する多剤耐性ウイルス株にも有効なことを明らかにした（非特許文献１〜８、特許文献１〜３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】ＷＯ００／６９８７６
【特許文献２】ＷＯ００／６９８７７
【特許文献３】ＷＯ０３／６８７９６
【非特許文献】
【０００６】
【非特許文献１】Ｎｕｃｌｅｉｃ Ａｃｉｄｓ Ｓｙｍｐ Ｓｅｒ，Ｊａｎ ２０００；（４４）：１０５−６．
【非特許文献２】Ｊ Ｍｅｄ Ｃｈｅｍ，Ｎｏｖ ２０００；４３（２３）：４５１６−２５
【非特許文献３】Ｃｕｒｒ Ｄｒｕｇ Ｔａｒｇｅｔｓ Ｉｎｆｅｃｔ Ｄｉｓｏｒｄ，Ｍａｙ ２００１；１（１）：１−１０
【非特許文献４】Ａｎｔｉｍｉｃｒｏｂ．Ａｇｅｎｔｓ Ｃｈｅｍｏｔｈｅｒ．，Ｍａｙ ２００１；４５：１５３９−１５４６
【非特許文献５】Ｎｕｃｌｅｏｓｉｄｅｓ Ｎｕｃｌｅｏｔｉｄｅｓ Ｎｕｃｌｅｉｃ Ａｃｉｄｓ，Ｍａｙ ２００３；２２（５−８）：８８７−９．
【非特許文献６】Ｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ．，４２（１９９４），ｐ１６８８
【非特許文献７】Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，３９（１９９６），ｐ３８４７
【非特許文献８】Ｂｉｏｏｒｇ Ｍｅｄ Ｃｈｅｍ Ｌｅｔｔ，Ｎｏｖ ２００３；１３（２１）：３７７５−７
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明者らは、ｉｎ ｖｉｔｒｏにおいて、種々の４’−Ｃ−置換ヌクレオシドの中でも特に優れた抗ＨＩＶ活性を示した４’−Ｃ−エチニルプリンヌクレオシド誘導体及び４’−Ｃ−シアノプリンヌクレオシド誘導体について毒性の評価を行った。その結果、（１）最も強い抗ＨＩＶ活性を示す２，６−ジアミノプリン誘導体及びグアニン誘導体はｉｎ ｖｉｔｒｏ、ｉｎ ｖｉｖｏにおいて毒性を示すこと、（２）毒性の低いアデニン誘導体は血中でアデノシンデアミナーゼにより速やかにヒポキサンチン誘導体へと変換され、抗ＨＩＶ活性が減弱することが明らかとなった。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、選択係数（細胞毒性濃度／抗ＨＩＶ活性濃度）の更なる向上とアデノシンデアミナーゼによる不活性化に対する耐性付与を目的とし、種々の４’−Ｃ−置換プリンヌクレオシドの中で、強い抗ＨＩＶ活性を示し、かつ毒性の低い４’−Ｃ−置換−２’−デオキシアデノシンをリード化合物とし、このリード化合物に化学的修飾を施すことにより数多くの誘導体を合成した。
【０００９】
従来、アデノシンデアミナーゼによる不活性化に対する耐性付与に関しては、アデノシン誘導体の塩基部２位に電子吸引性のハロゲン原子を導入することにより、アデノシンデアミナーゼに対して若干の抵抗性を示すようになることが知られている（非特許文献６と７）が、ハロゲン原子の導入による選択係数の向上に関しては何ら示唆されていない。
【００１０】
唯一、ｄ４Ｔ（スタブジン；２’，３’−ジデヒドロ−３’−デオキシチミジン）の４’位にエチニル基を導入することで選択係数の向上が報告されているものの（非特許文献８）、基本骨格を著しく異にするプリン系ヌクレオシドであるアデノシン誘導体で同様の効果を期待することはできず、何ら参考になるものではなかった。
【００１１】
新たに合成した誘導体の抗ＨＩＶ活性等を検討した結果、リード化合物である２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニルアデノシンの塩基部２位にフッ素原子を導入した２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシンは、アデノシンデアミナーゼによる不活性化に対する耐性付与だけでなく、ＡＺＴ、ｄｄＩ、ｄｄＣ、ｄ４Ｔ、３ＴＣなどの複数の抗ＨＩＶ剤に耐性を有する多剤耐性ウイルス株にも有効で、しかも抗ＨＩＶ活性が増強され、一方で、その細胞毒性は著しく減少することが明らかとなった。
【００１２】
したがって、本発明は、この知見を更に発展させ、２−ハロアデニンを核酸塩基とし、糖部４位にエチニル基又はシアノ基を有する種々の４’−Ｃ−置換−２−ハロアデノシン誘導体を合成し、その活性を確認することにより完成されたものである。
【００１３】
すなわち、本発明は、下記式［Ｉ］、［ＩＩ］又は［ＩＩＩ］で表される４’−Ｃ−置換−２−ハロアデノシン誘導体及び当該誘導体と薬学的に許容される担体とを含有してなる医薬組成物に関するものである。
【００１４】
【化１】
【００１５】
（式中、Ｘはハロゲン原子、Ｒ1はエチニル基又はシアノ基、Ｒ2は、水素原子、リン酸又はその誘導体残基を示す。）
また、本発明は、上記４’−Ｃ−置換−２−ハロアデノシン誘導体又はそれを含む医薬組成物をヒトを含む動物に投与することを特徴とするエイズの治療方法に関するものである。
【発明の効果】
【００１６】
本発明化合物は、後述試験例に示すように、たとえば、２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシンは、アデノシンデアミナーゼによる不活性化に対する耐性付与だけでなく、ＡＺＴ、ｄｄＩ、ｄｄＣ、ｄ４Ｔ、３ＴＣなどの複数の抗ＨＩＶ剤に耐性を有する多剤耐性ウイルス株にも有効で、しかもリード化合物である２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニルアデノシンの抗ＨＩＶ活性と比較して１４４倍と予想できないほどに抗ＨＩＶ活性が増強され、一方で、その細胞毒性は著しく減少することが明らかとなった。この結果、この化合物の選択係数は１１０，０００となり、従来の２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニルアデノシン（ＥｄＡｄｏ）の１，６３０を遙かに上回る驚くべき結果となった。
このように、本発明化合物は、優れた抗ＨＩＶ作用、特にＡＺＴ、ＤＤＩ、ＤＤＣ、Ｄ４Ｔ、３ＴＣなどの抗ＨＩＶ剤の複数の薬剤に耐性を有する多剤耐性ＨＩＶ株にも有効で、細胞毒性も低く、アデノシンデアミナーゼによる不活性化に対する耐性も付与されていることから、医薬品、特にエイズ治療薬として有用である。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】アデノシンデアミナーゼによる脱アミノ化反応における化合物の安定性を示したものである。黒四角は本発明化合物２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシンの結果を、黒丸は公知の２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニルアデノシンの結果を示したものである。
【図２】酸性条件下における本発明化合物２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシンの安定性を示したものである。
【図３】酸性条件下における公知の２’，３’−ジデオキシアデノシン（ｄｄＡｄｏ）の安定性を示したものである。
【図４】本発明化合物２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシンを投与後のマウスの体重変化を示したものである。図４中のグラフＡは経口投与時の結果を、グラフＢは静脈内投与時の結果を示す。なお、各グラフ中の丸印はプラセボを示し、三角印、四角印は投与量がそれぞれ３０ｍｇ／ｋｇ、１００ｍｇ／ｋｇのときの結果を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
（１）化合物
本発明化合物は、前記式［Ｉ］、［ＩＩ］又は［ＩＩＩ］で表されるものである。上記式中、Ｒ2のリン酸又はその誘導体残基としては、リン酸残基、ジリン酸残基、トリリン酸残基、ホスホン酸残基、及びこれらのジエステル、トリエステル等のポリエステル、モノアミデート、ジアミデート等のアミデート、チオエート、セレノエート、ボラノエート等を例示することができる。また、Ｘのハロゲン原子としては、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子又は塩素原子を例示することができる。
【００１９】
このような化合物のうち、（ａ）Ｒ2が水素原子又はホスホン酸残基、（ｂ）Ｘがフッ素原子又は塩素原子、（ｃ）Ｒ1がエチニル基である条件の１つ又は複数を満たすものを好適な化合物として例示することができる。具体的には、以下の化合物を挙げることができる。
【００２０】
＜式［Ｉ］化合物＞
２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン、４’−Ｃ−シアノ−２’−デオキシ−２−フルオロアデノシン、２−クロロ−２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニルアデノシン又は２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン５’−Ｈ−ホスホネート
【００２１】
＜式［ＩＩ］化合物＞
２’，３’−ジデヒドロ−２’，３’−ジデオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン、２’，３’−ジデヒドロ−２’，３’−ジデオキシ−４’−Ｃ−シアノ−２−フルオロアデノシン、２’，３’−ジデヒドロ−２’，３’−ジデオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−クロロアデノシン又は２’，３’−ジデヒドロ−２’，３’−ジデオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン５’−Ｈ−ホスホネート
【００２２】
＜式［ＩＩＩ］化合物＞
２’，３’−ジデオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン、２’，３’−ジデオキシ−４’−Ｃ−シアノ−２−フルオロアデノシン、２’，３’−ジデオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−クロロアデノシン又は２’，３’−ジデオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン５’−Ｈ−ホスホネート
【００２３】
本発明化合物は、塩、水和物又は溶媒和物の形態であってもよい。そのような塩としては、Ｒ2が水素原子である場合には塩酸塩又は硫酸塩などの酸付加物、Ｒ2がリン酸残基である場合にはナトリウム塩、カリウム塩又はリチウム塩などのアルカリ金属塩、カルシウム塩などのアルカリ土類金属塩もしくはアンモニウム塩などの薬学的に許容される任意の塩が例示される。
また、水和物又は溶媒和物としては、本発明の化合物又はその塩１分子に対し、０．１〜３．０分子の水又は溶媒が付着したものを例示することができる。更に、本発明の化合物には、互変異性体などの各種異性体も包含されうる。
【００２４】
（２）製造法
本発明化合物［Ｉ］は、以下に説明する工程により製造することができる。
第１工程；
第１工程は式［ＩＶ］で表される化合物の３’位水酸基及び５’位水酸基を保護し、式［Ｖ］で表される化合物を得る工程である。
【００２５】
【化２】
【００２６】
（式中、Ｐは保護基，Ｒ1はエチニル基又はシアノ基を示す。）
【００２７】
式［ＩＶ］で表される原料化合物のうち、Ｒ1がエチニル基である化合物はＪ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，４３，４５１６−４５２５（２０００）に記載されており、Ｒ1がシアノ基である化合物はＷＯ０３／６８７９６に記載されており、公知である。
Ｐで表される３’，５’位水酸基の保護基としては、水酸基の保護基として常用されているものであればよく、たとえばエーテル系保護基、アシル系保護基、シリル系保護基、アセタール系保護基などを例示することができる。より具体的には、エーテル系保護基としては、メチルエーテル、第３級ブチルエーテル、ベンジルエーテル、メトキシベンジルエーテル、トリチルエーテルなどを、アシル系保護基としてはアセチル、ベンゾイル、ピバロイルなどを、シリル系保護基としてはｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ブチルジフェニルシリル、トリメチルシリル、トリエチルシリルなどを、アセタール系保護基としてはイソプロピリデン、エチリデン、メチリデン、ベンジリデン、テトラヒドロピラニル、メトキシメチルなどをそれぞれ使用することができる。
【００２８】
保護基の導入は常法によって行うことができる。たとえば、ピリジン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド等の有機溶媒中、アルカリ金属アルコキシド、トリエチルアミン、４−ジメチルアミノピリジン、イミダゾール等の塩基の存在下、式（ＩＶ）の化合物と保護基導入試薬（例えば、アルキルハライド、酸ハライド、酸無水物、アルキルシリルハライド等）とを、−１０〜１００℃で反応させることによって実施することができる。
【００２９】
第２工程；
第２工程は、式［Ｖ］で表される化合物の２位アミノ基をハロゲン原子へと変換し、式［ＶＩ］で表される化合物を得る工程である。
【００３０】
【化３】
【００３１】
（式中、Ｐは保護基、Ｘはハロゲン原子、Ｒ1はエチニル基又はシアノ基を示す。）
【００３２】
式［ＶＩ］で表される化合物は、式［Ｖ］で表される化合物の２位アミノ基を亜硝酸誘導体で処理後、ハロゲン化試薬を用いて塩基部２位にハロゲン原子を導入するか、又は、２，６位のアミノ基を同条件下処理し、２，６−ジハロプリン誘導体とした後、アンモニア処理により塩基部６位のハロゲン原子をアミノ基とすることで合成することができる。
【００３３】
式［Ｖ］で表される化合物の２位アミノ基をフッ素へと置換する試薬としては、テトラフルオロホウ酸中の亜硝酸ナトリウム、フッ化水素−ピリジン中の亜硝酸ｔ−ブチル等の亜硝酸エステルなどを例示することができる。
【００３４】
反応条件は用いる試薬により異なり、たとえば、フッ化水素−ピリジン中、亜硝酸ｔ−ブチルを用いる場合、フッ化水素−ピリジンを溶媒として、亜硝酸ｔ−ブチルを１〜３モル用い、−５０℃から室温で１５分から５時間程度反応させればよい。また、２，６−ジフルオロプリン誘導体とした場合は、引き続き、ジオキサン、メタノール等の有機溶媒中、アンモニア水処理すればよい。
【００３５】
一方、式［Ｖ］で表される化合物の２位アミノ基を塩素へと置換する試薬としては、ジクロロメタンなどの有機溶媒中、三塩化アンチモン−亜硝酸ｔ−ブチル、塩化アセチル−亜硝酸ベンジルトリエチルアンモニウムの組み合わせなどを例示することができる。
【００３６】
反応条件は用いる試薬により異なり、たとえば、塩化アセチル−亜硝酸ベンジルトリエチルアンモニウムの組み合わせを用いる場合、ジクロロメタン等の有機溶媒中、化合物［Ｖ］１モルに対して、亜硝酸ベンジルトリエチルアンモニウム１〜５モルと１〜５モルの塩化アセチルとを−５０℃から室温で３０分間から３時間程度処理した後、化合物［Ｖ］を−５０℃から室温で１時間から数日間反応させればよい。また、２，６−ジクロロプリン誘導体とした場合は、引き続き、ジオキサン、メタノール等の有機溶媒中、アンモニア水処理すればよい。
【００３７】
こうして得られた化合物［ＶＩ］の保護基を除去して、Ｒ2が水素である本発明化合物を得、必要に応じてリン酸化して本発明化合物を得る。
【００３８】
【化４】
【００３９】
（式中、Ｐは保護基、Ｘはハロゲン原子、Ｒ1はエチニル基又はシアノ基、Ｒ2は水素原子、リン酸又はその誘導体残基を示す。）
保護基の除去は、使用した保護基に応じ、酸性加水分解、アルカリ性加水分解、フッ化テトラブチルアンモニウム処理、接触還元などの通常の処理方法から適宜選択して行えばよい。
【００４０】
【化５】
【００４１】
（式中、Ｘはハロゲン原子、Ｒ1はエチニル基又はシアノ基、Ｒ2は水素を示す。）
【００４２】
本発明化合物の５’−Ｈ−ホスホネート誘導体［ＶＩＩ］を得るには、有機溶媒中、適当な縮合剤を用い、Ｒ2が水素である化合物［Ｉ］とホスホン酸を縮合すればよい。用いる有機溶媒として、ピリジン、又はトリエチルアミン等の塩基存在下でのジメチルホルムアミド、縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジイソプロピルカルボジイミド、水溶性カルボジイミド等のカルボジイミド、塩化トルエンスルホニル等のスルホン酸ハロゲン化物、塩化ジフェニルリン酸等のリン酸塩化物を例示することができる。
【００４３】
反応条件は用いる試薬により異なり、たとえば、ピリジン中、ジシクロヘキシルカルボジイミドを用いる場合、化合物［Ｉ］１モルに対して、ホスホン酸を１〜５モル、ジシクロヘキシルカルボジイミドを１〜１０モル用い、０℃〜５０℃で１〜２４時間程度反応させることにより実施できる。
【００４４】
また、Ｒ2がモノリン酸残基である化合物を得る場合には、Ｒ2が水素原子である化合物をオキシ塩化リン、テトラクロロピロリン酸などのヌクレオシドの５’位の選択的なリン酸化に使用されるリン酸化剤と反応させることにより、更に、Ｒ2がジリン酸、トリリン酸残基である化合物を得るには、対応する５’−モノリン酸化合物をホスホイミダゾリド、ホスホモルホリデート、ジフェニルリン酸無水物などを用いて活性化した後、それぞれ、リン酸、ピロリン酸、又はこれらの適当な塩と反応させることにより、遊離酸型又は塩型の目的化合物を得ることができる。
【００４５】
本発明化合物［ＩＩ］は、以下に説明する工程により製造することができる。
第１工程；
第１工程は式［Ｉ］で表され、Ｒ2が水素である化合物の５’位水酸基を選択的に保護し、式［ＶＩＩＩ］で表される化合物を得る工程である。
【００４６】
【化６】
【００４７】
（式中、Ｐは保護基、Ｘはハロゲン原子、Ｒ1はエチニル基又はシアノ基、Ｒ2は水素を示す。）
【００４８】
Ｐで表される５’位水酸基の保護基としては、１級水酸基の選択的な保護基として常用されているものであればよく、具体的には、トリメトキシトリチル基、ジメトキシトリチル基、メトキシトリチル基、トリチル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、ベンゾイル基等を例示することができる。
【００４９】
保護基の導入反応は、前記と同様の方法にて実施できる。
【００５０】
第２工程；
第２工程は、式［ＶＩＩＩ］で表される化合物の３’位水酸基を脱水し、２’，３’−２重結合とし、化合物式［ＶＩＶ］とする工程である。
【００５１】
【化７】
【００５２】
（式中、Ｐは保護基、Ｘはハロゲン原子、Ｒ1はエチニル基又はシアノ基を示す。）
化合物［ＶＩＩＩ］の３’位水酸基を脱水し、化合物［ＶＩＶ］とするには、化合物［ＶＩＩＩ］の３’位水酸基をハロゲン原子、又は、メタンスルホン酸、クロロメタンスルホン酸、トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のスルホン酸エステルのような脱離能を有する官能基へと変換後、これを塩基処理により脱離させることで実施できる。
【００５３】
反応条件は用いる試薬により異なり、たとえば、トリフルオロメタンスルホン酸エステルを経る反応を用いる場合、ジクロロメタン、ピリジン等の有機溶媒中、トリフルオロメタンスルホン酸無水物とピリジン、トリエチルアミン等の塩基をそれぞれ、１〜５モル、５〜１０モル用い、−７８℃〜室温で１時間〜２４時間程度反応させることにより実施できる。
【００５４】
こうして得られた化合物［ＶＩＶ］の保護基を除去して、Ｒ2が水素である本発明化合
物を得、必要に応じてリン酸化して本発明化合物を得る。
【００５５】
【化８】
【００５６】
（式中、Ｘはハロゲン原子、Ｐは保護基、Ｒ1はエチニル基又はシアノ基、Ｒ2は、水素原子、リン酸又はその誘導体残基を示す。）
【００５７】
保護基の除去は、使用した保護基に応じ、酸性加水分解、アルカリ性加水分解、フッ化テトラブチルアンモニウム処理、接触還元などの通常の処理方法から適宜選択して行えばよい。
【００５８】
Ｒ2がリン酸又はその誘導体残基を示す化合物は、前記式［Ｉ］化合物と同様の方法で合成することができる。
【００５９】
本発明化合物［ＩＩＩ］は、以下に説明する工程により製造することができる。
第１工程；
第１工程は、式［Ｘ］で表される化合物の４位のヒドロキシメチル基を酸化してアルデヒド化合物とし、更にトリエチルシリルエチニル化合物、又はシアノ化合物へと変換することにより式［ＸＩ］で表される化合物を得る工程である。
【００６０】
【化９】
【００６１】
（Ｒ1はエチニル基、トリエチルシリルエチニル基又はシアノ基を示す。）
【００６２】
原料化合物は、式［Ｘ］で表される公知化合物である（Ｂｉｏｓｃｉ．Ｂｉｏｔｅｃｈ．Ｂｉｏｃｈｅｍ．，５７，１４３３−１４３８（１９９３））。トリエチルシリルエチニル化合物への変換反応は、式［Ｘ］化合物の４位ヒドロキシメチル基をホルミル基へと酸化した後、これをジブロモビニル基へと変換し、引き続き、強塩基処理するにより脱ブロモ化水素することにより実施できる。
【００６３】
式［Ｘ］で表される化合物の４−ヒドロキシメチル基をホルミル基に変換する場合、用いる酸化剤としては、無水クロム酸、ピリジンと無水酢酸との複合試薬、ピリジンクロロクロメート、ピリジンジクロメートなどのクロム系酸化剤；デス−マーチン試薬などの高原子価ヨウ素酸化剤；ジメチルスルホキシドと無水酢酸、塩化オキサリル又はジシクロヘキシルカルボジイミドとを組み合わせて用いるジメチルスルホキシド系酸化剤などを例示することができる。
【００６４】
反応条件は用いる酸化剤により異なり、たとえば、塩化オキサリルとジメチルスルホキシドを用いて酸化する場合、ジクロロメタンなどの有機溶媒中、必要によりアルゴン、窒素などの不活性ガス雰囲気下、式［Ｘ］化合物１モルに対して塩化オキサリルとジメチルスルホキシドをそれぞれ１〜５モル、１．５〜６モル用い、−１００〜０℃で１５分から２時間程度反応させ、トリエチルアミンなどの塩基類を２〜１０モル添加し、更に室温にて１５分から２時間程度反応させることにより実施できる。
【００６５】
次に、得られたアルデヒド化合物からアルキン化合物への変換は、アルデヒド化合物を増炭反応（Ｃ−Ｃ結合形成反応）に付し、強塩基で処理してメタルアルキニル化合物とし、最後に保護基を導入することにより実施できる。増炭反応は、ジクロロメタン、ジクロロエタンなどの有機溶媒中、必要によりアルゴン、窒素などの不活性ガス雰囲気下、先に得られたアルデヒド化合物１モルに対して四臭化炭素とトリフェニルホスフィンをそれぞれ１〜５モルと２〜１０モル用い、０〜５０℃で１５分〜３時間程度反応させることにより実施できる。
【００６６】
強塩基処理は、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジメトキシエタンなどの有機溶媒中、必要によりアルゴン、窒素などの不活性ガス雰囲気下、増炭反応により得られた化合物１モルに対してメチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウムなどのリチウム化合物２〜４モル用い、−１００〜−２０℃で５〜６０分程度反応させることにより実施できる。更に、得られた化合物のアルキニル基にシリル系保護基を導入する場合、上記強塩基処理に続けてクロロトリエチルシランなどのシリル化剤を添加し、反応させることにより実施することができる。
【００６７】
一方、式［Ｘ］化合物のシアノ化合物への変換反応は、式［Ｘ］化合物の４位ヒドロキシメチル基をホルミル基へと酸化した後、これをオキシム化合物へと変換し、引き続き、得られたオキシム化合物を脱水することにより実施できる。
【００６８】
式［Ｘ］で表される化合物の４−ヒドロキシメチル基をホルミル基に変換する場合、用いる酸化剤としては、無水クロム酸、ピリジンと無水酢酸との複合試薬、ピリジンクロロクロメート、ピリジンジクロメートなどのクロム系酸化剤；デス−マーチン試薬などの高原子価ヨウ素酸化剤；ジメチルスルホキシドと無水酢酸、塩化オキサリル又はジシクロヘキシルカルボジイミドとを組み合わせて用いるジメチルスルホキシド系酸化剤などを例示することができる。
【００６９】
反応条件は用いる酸化剤により異なり、たとえば、塩化オキサリルとジメチルスルホキシドを用いて酸化する場合、ジクロロメタンなどの有機溶媒中、必要によりアルゴン、窒素などの不活性ガス雰囲気下、式［Ｘ］化合物１モルに対して塩化オキサリルとジメチルスルホキシドをそれぞれ１〜５モル、１．５〜６モル用い、−１００〜０℃で１５分から２時間程度反応させ、トリエチルアミンなどの塩基類を２〜１０モル添加し、更に室温にて１５分から２時間程度反応させることにより実施できる。
【００７０】
アルデヒド化合物のオキシム化合物への変換は、ピリジン等の有機溶媒中、アルデヒド化合物１モルに対して１〜５モルの塩酸ヒドロキシルアミンを使用し、室温〜１００℃で３０分〜３時間程度反応させることにより実施できる。
【００７１】
オキシム化合物の脱水は、ジクロロメタン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン等の有機溶媒中、ピリジン、トリエチルアミン、酢酸ナトリウム等の塩基存在下、ホスゲン、カルボニルジイミダゾール、塩化メタンスルホニル、無水酢酸等の脱水剤を用いることで実施できる。
【００７２】
脱水反応条件は用いる脱水剤により異なり、たとえば、塩化メタンスルホニルを用いて脱水する場合、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ピリジン等の有機溶媒中、オキシム化合物１モルに対して塩化メタンスルホニルとトリエチルアミンをそれぞれ１〜５モル、５〜１０モル用い、−５０℃〜室温で１５分〜２時間程度反応させることにより実施できる。
【００７３】
第２工程；
第２工程は、式［ＸＩ］で表される化合物の３，５位の水酸基を保護するメトキシベンジリデン基を除去し、式［ＸＩＩ］で表される化合物とする工程である。
【００７４】
【化１０】
【００７５】
（Ｒ1はエチニル基、トリエチルシリルエチニル基又はシアノ基を示す。）
【００７６】
保護基の除去法としては、酸性加水分解、接触還元等の処理方法から適宜選択して行えばよい。
【００７７】
反応条件は用いる反応により異なり、たとえば、酸性加水分解を用いるときは、式［ＸＩ］の化合物をギ酸、酢酸等の有機酸、又は鉱酸の水溶液中、０〜１００℃で１〜２４時間反応させることにより実施できる。
【００７８】
第３工程；
第３工程は式［ＸＩＩ］で表される化合物の５位水酸基を選択的に保護し、式［ＸＩＩＩ］で表される化合物を得る工程である。
【００７９】
【化１１】
【００８０】
（式中、Ｐは保護基、Ｒ1はエチニル基、トリエチルシリルエチニル基又はシアノ基を示す。）
【００８１】
Ｐで表される５位水酸基の保護基としては、１級水酸基の選択的な保護基として常用されているものであればよく、具体的には、トリメトキシトリチル基、ジメトキシトリチル基、メトキシトリチル基、トリチル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、ベンゾイル基等を例示することができる。
保護基の導入反応は、前記と同様の方法にて実施できる。
【００８２】
第４工程；
第４工程は式［ＸＩＩＩ］で表される化合物の３位水酸基を還元し、式［ＸＩＶ］で表される化合物を得る工程である。
【００８３】
【化１２】
【００８４】
（式中、Ｐは保護基、Ｒ1はエチニル基、トリエチルシリルエチニル基又はシアノ基を示す。）
【００８５】
３位水酸基のデオキシ化は、３位水酸基をハロゲン化体（ヨウ素体、臭素体、塩素体）、フェノキシチオカルボニル体、チオカルボニルイミダゾール体、メチルジチオカルボネート体等に変換した後、ラジカル開始剤存在下、ラジカル還元剤により還元することによって行うことができる。
【００８６】
例えば、フェノキシチオカルボニル体に導いてデオキシ化する場合、フェノキシチオカルボニル化反応は、必要によりアルゴン、窒素等の不活性ガス雰囲気下、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジクロロメタン等の有機溶媒中、ジメチルアミノピリジン、ピリジン等の塩基共存下、３位水酸基の保護基のみ除去された上記化合物１モルに対してクロロチオノギ酸フェニル誘導体１〜１０モル、好ましくは１〜２モル用い、０〜５０℃で０．５〜５時間程度撹拌反応させることにより実施することができる。
【００８７】
続けて行う還元反応は、トルエン、ベンゼン等の有機溶媒中、必要によりアルゴン、窒素等の不活性ガス雰囲気下、アゾビスイソブチロニトリル等のラジカル開始剤存在下、上記フェノキシチオカルボニル体１モルに対して水素化トリブチルスズ、トリス（トリメチルシリル）シラン等のラジカル還元剤１〜１０モル、好ましくは２〜５モル用い、５０〜１５０℃で１〜５時間程度撹拌反応させることにより実施することができる。
【００８８】
第５工程；
第５工程は式［ＸＩＶ］で表される化合物の１，２位イソプロピリデン基を除去後、生じた水酸基をアセチル化し、式［ＸＶ］で表される化合物を得る工程である。
【００８９】
【化１３】
【００９０】
（式中、Ｐは保護基、Ｒ1はエチニル基、トリエチルシリルエチニル基又はシアノ基を示す。）
【００９１】
１，２位イソプロピリデン基の除去法として、酸性加水分解の条件を用いるときは、式［ＸＩＶ］化合物をギ酸、酢酸等の有機酸、又は鉱酸の水溶液中、０〜１００℃で１〜２４時間反応させることにより実施できる。
【００９２】
引き続く、水酸基へのアセチル基の導入は、常法により行うことができ、たとえば、ピリジン、アセトニトリル、ジクロロメタン等の有機溶媒中、ピリジン、トリエチルアミン等の塩基存在下、塩化アセチル、無水酢酸などのアセチル化剤と反応させることにより実施することができる。
【００９３】
たとえば、ピリジン中、無水酢酸により反応を行う場合、上記の脱イソプロピリデン体１モルに対して、２〜１０モルの無水酢酸、及び、場合に応じて、触媒量の４−ジメチルアミノピリジンを用い、０〜１００℃で１〜２４時間反応させることにより実施できる。
【００９４】
第６工程；
第６工程は式［ＸＶ］で表される化合物を、２，６−ジアミノプリンと縮合し、式［ＸＶＩ］で表される化合物を得る工程である。
【００９５】
【化１４】
【００９６】
（式中、Ｐは保護基、Ｒ1はエチニル基、トリエチルシリルエチニル基又はシアノ基を示す。）
【００９７】
式［ＸＶ］で表される化合物と２，６−ジアミノプリンとの縮合は、ルイス酸存在下、式［ＸＶ］の化合物を２，６−ジアミノプリンと反応させることによって行うことができる。２，６−ジアミノプリンはシリル化したものを用いてもよく、このようなシリル化した塩基類は公知の方法、たとえばヘキサメチルジシラザンとトリメチルクロロシラン中で加熱環流するか、又はアセトニトリル、１，２−ジクロロエタン等の有機溶媒中、ビス（トリメチルシリル）アセトアミドと加熱還流することにより得ることができる。使用するルイス酸としては、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル、四塩化すず、塩化亜鉛、ヨウ化亜鉛、無水塩化アルミニウムなどが例示される。
【００９８】
縮合反応は、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、アセトニトリル、トルエン等の有機溶媒中、必要によりアルゴン、窒素などの不活性ガス雰囲気下、式［ＸＶ］の化合物１モルに対し２，６−ジアミノプリン１〜１０モル及びルイス酸０．１〜１０モルとを用い、−２０〜１５０℃で３０分〜２４時間程度反応させることにより実施することができる。
【００９９】
第７工程；
第７工程は、式［ＸＶＩ］で表される化合物の２位アミノ基をフッ素又は塩素へと変換し、式［ＸＶＩＩ］で表される化合物を得る工程である。
【０１００】
【化１５】
【０１０１】
（式中、Ｐは保護基、Ｘはハロゲン原子、Ｒ1はエチニル基、トリエチルシリルエチニル基又はシアノ基を示す。）
【０１０２】
式［ＸＶＩＩ］で表される化合物は、式［ＸＶＩ］で表される化合物の２位アミノ基を亜硝酸誘導体で処理後、ハロゲン化試薬を用いて塩基部２位にハロゲン原子を導入するか、又は、２，６位のアミノ基を同条件下処理し、２，６−ジハロプリン誘導体とした後、アンモニア処理により塩基部６位のハロゲン原子をアミノ基とすることで合成することができる。
【０１０３】
式［ＸＶＩ］で表される化合物の２位アミノ基をフッ素へと置換する試薬としては、テトラフルオロホウ酸中の亜硝酸ナトリウム、フッ化水素−ピリジン中の亜硝酸ｔ−ブチル等の亜硝酸エステルなどを例示することができる。
【０１０４】
反応条件は用いる試薬により異なり、たとえば、フッ化水素−ピリジン中、亜硝酸ｔ−ブチルを用いる場合、フッ化水素−ピリジンを溶媒として、亜硝酸ｔ−ブチルを１〜３モル用い、−５０℃から０℃で１５分から５時間程度反応させればよい。また、２，６−ジフルオロプリン誘導体とした場合は、引き続き、ジオキサン、メタノール等の有機溶媒中、アンモニア水処理すればよい。
【０１０５】
一方、式［ＸＶＩ］で表される化合物の２位アミノ基を塩素へと置換する試薬としては、ジクロロメタンなどの有機溶媒中、三塩化アンチモン−亜硝酸ｔ−ブチル、塩化アセチル−亜硝酸ベンジルトリエチルアンモニウムの組み合わせなどを例示することができる。
【０１０６】
反応条件は用いる試薬により異なり、たとえば、塩化アセチル−亜硝酸ベンジルトリエチルアンモニウムの組み合わせを用いる場合、ジクロロメタン等の有機溶媒中、化合物［ＸＶＩ］１モルに対して、亜硝酸ベンジルトリエチルアンモニウム１〜５モルを−５０℃から室温で３０分間から３時間程度、１〜５モルの塩化アセチルと処理した後、化合物［ＸＶI］を−５０℃から室温で１時間から数日間反応させればよい。また、２，６−ジクロロプリン誘導体とした場合は、引き続き、ジオキサン、メタノール等の有機溶媒中、アンモニア水処理すればよい。
【０１０７】
第８工程；
第８工程は、式［ＸＶＩＩ］で表される化合物の２’位水酸基を保護するアセチル基を除去し、式［ＸＶＩＩＩ］で表される化合物を得る工程である。
【０１０８】
【化１６】
【０１０９】
（式中、Ｐは保護基、Ｘはハロゲン原子、Ｒ1はエチニル基、トリエチルシリルエチニル基又はシアノ基を示す。）
【０１１０】
アセチル基の除去は、適当な塩基又は酸触媒を用いて行うことができ、例えば塩基触媒を用いる場合、エタノール等のアルコール系溶媒と水との混合溶媒中、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチルアミン、アンモニア水等を例示することができる。
【０１１１】
例えば、メタノール中、アンモニア水を用い、０〜１００℃で１〜２４時間反応させることにより、実施できる。
【０１１２】
第９工程；
第９工程は、式［ＸＶＩＩＩ］で表される化合物の２’位水酸基を還元し、式［ＸＩＸ］で表される化合物を得る工程である。
【０１１３】
【化１７】
【０１１４】
（式中、Ｐは保護基、Ｘはハロゲン原子、Ｒ1はエチニル基、トリエチルシリルエチニル基又はシアノ基を示す。）
【０１１５】
２’位水酸基のデオキシ化は、２’位水酸基をハロゲン化体（ヨウ素体、臭素体、塩素体）、フェノキシチオカルボニル体、チオカルボニルイミダゾール体、メチルジチオカルボネート体等に変換した後、ラジカル開始剤存在下、ラジカル還元剤により還元することによって行うことができる。
【０１１６】
例えば、フェノキシチオカルボニル体に導いてデオキシ化する場合、フェノキシチオカルボニル化反応は、必要によりアルゴン、窒素等の不活性ガス雰囲気下、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジクロロメタン等の有機溶媒中、ジメチルアミノピリジン、ピリジン等の塩基共存下、２’位水酸基の保護基のみ除去された上記化合物１モルに対してクロロチオノギ酸フェニル誘導体１〜１０モル、好ましくは１〜２モル用い、０〜５０℃で０．５〜５時間程度撹拌反応させることにより実施することができる。
【０１１７】
続けて行う還元反応は、トルエン、ベンゼン等の有機溶媒中、必要によりアルゴン、窒素等の不活性ガス雰囲気下、アゾビスイソブチロニトリル等のラジカル開始剤存在下、上記フェノキシチオカルボニル体１モルに対して水素化トリブチルスズ、トリス（トリメチルシリル）シラン等のラジカル還元剤１〜１０モル、好ましくは２〜５モル用い、５０〜１５０℃で１〜５時間程度撹拌反応させることにより実施することができる。
【０１１８】
こうして得られた化合物［ＸＩＸ］の水酸基、及び、エチニル基の保護基を除去して、Ｒ2が水素である本発明化合物を得、必要に応じてリン酸化して本発明化合物を得る。
【０１１９】
【化１８】
【０１２０】
（式中、Ｐは保護基、Ｘはハロゲン原子、Ｒ1はエチニル基、トリエチルシリルエチニル基又はシアノ基、Ｒ2は、水素、リン酸又はその誘導体残基を示す。）
【０１２１】
保護基の除去は、使用した保護基に応じ、酸性加水分解、アルカリ性加水分解、フッ化テトラブチルアンモニウム処理、接触還元などの通常の処理方法から適宜選択して行えばよい。
また、Ｒ2がリン酸又はその誘導体残基を示す化合物は、前記式［Ｉ］化合物と同様の方法で合成することができる。
【０１２２】
本発明化合物は、一般のヌクレオシド、ヌクレオチドの単離精製に使用されている方法（例えば、再結晶法、イオン交換カラムクロマトグラフィー、吸着カラムクロマトグラフィーなど）を適宜組み合せて分離精製することができる。このようにして得られた化合物は、必要に応じて塩とすることもできる。
【０１２３】
（３）用途
本発明化合物は、後述の試験例に示すようにレトロウイルスに対して優れた抗ウイルス作用を有することから、これらを有効成分とする本発明組成物は医薬としての使用、具体的にはレトロウイルスの感染症の処置、特にヒト免疫不全ウイルス（ＨＩＶ）感染に起因するエイズの治療に有用である。
【０１２４】
本発明化合物の投与量は、患者の年齢、体重、疾病、患者の重篤度、薬物による忍容性、投与方法などにより異なり、これらの条件を総合した上で適宜決定されるものであるが、通常１日当たり０．００００１〜１０００ｍｇ／ｋｇ体重、好ましくは０．０００１〜１００ｍｇ／ｋｇ体重の範囲内から選ばれ、一回又は複数回に分けて投与される。
投与方法は、経口、非経口、経腸、局所投与などのいずれの経路でもよい。
【０１２５】
本発明化合物の製剤化に際しては、通常使用される製剤用担体、賦形剤、その他の添加剤を含む組成物として使用するのが普通である。担体としては、乳糖、カオリン、ショ糖、結晶セルロース、コーンスターチ、タルク、寒天、ペクチン、ステアリン酸、ステアリン酸マグネシウム、レシチン、塩化ナトリウムなどの固体状担体、グリセリン、落花生油、ポリビニルピロリドン、オリーブ油、エタノール、ベンジルアルコール、プロピレングリコール、水などの液状担体を例示することができる。
【０１２６】
剤型としては任意の形態を採ることができ、たとえば固体状担体を使用する場合には錠剤、散剤、顆粒剤、カプセル化剤、坐剤、トローチ剤などを、液状担体を使用する場合にはシロップ、乳液、軟ゼラチンカプセル、クリーム、ゲル、ペースト、スプレー、注射などをそれぞれ例示することができる。
【実施例】
【０１２７】
以下、本発明を合成例、試験例、製剤例などをあげて具体的に説明するが、本発明はこれらによって何等限定されるものではない。
【０１２８】
合成例１：２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン（化合物４）の合成
【０１２９】
（１）９−（３，５−ジ−Ｏ−アセチル−２−デオキシ−４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−リボ−ペントフラノシル）−２，６−ジアミノプリン（化合物２）の合成
【０１３０】
【化１９】
【０１３１】
化合物１（０．３３ｇ、１．１４ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（１０．０ｍＬ）に懸濁し、無水酢酸（０．２３ｍＬ、２．４３ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．６７ｇ、４．８１ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン少量を加え、室温で終夜撹拌した。
析出した結晶をろ取、乾燥し、化合物２（０．４０ｇ、１．０７ｍｍｏｌ、９３．９％）を得た。
【０１３２】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ：７．９４（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），６．７６（２Ｈ，ｂｓ，ＮＨ2），６．２７（１Ｈ，ｔ，Ｈ−１’，Ｊ＝７．００），５．８４（２Ｈ，ｂｓ，ＮＨ2），５．６０（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３’，Ｊ＝４．００，６．８０），４．４６（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ａ，Ｊ＝１１．５），４．２１（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ｂ，Ｊ＝１１．５），３．７４（１Ｈ，ｓ，ｅｔｈｙｎｙｌ）３．１２（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ａ），２．５２（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ｂ），２．１２，２．０３（ｅａｃｈ３Ｈ，ｓ，ａｃｅｔｙｌ）
【０１３３】
（２）３’，５’−ジ−Ｏ−アセチル−２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン（化合物３）の合成
【０１３４】
【化２０】
【０１３５】
化合物２（４５０ｍｇ、１．２０ｍｍｏｌ）を７０％フッ化水素−ピリジン（５．００ｍＬ）に溶解し、亜硝酸ｔ−ブチル（０．１９４ｍＬ、１．６３ｍｍｏｌ）を加え、−１０℃で１時間撹拌した。蒸留水を加えた後、クロロホルムで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥後、減圧下濃縮した。残さにクロロホルム：メタノール（５０：１）を加え、析出した結晶をろ取、乾燥し、化合物３（２４０ｍｇ、０．６４ｍｍｏｌ、５３．３％）を得た。
【０１３６】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ：８．３４（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），７．９４，７．９９（ｅａｃｈ１Ｈ，ｂｓ，ＮＨ2），６．３５（１Ｈ，ｔ，Ｈ−１’，Ｊ＝６．８０），５．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３’，Ｊ＝５．１０，７．０５），４．４１（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ａ，Ｊ＝１１．６），４．２１（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ｂ，Ｊ＝１１．６），３．４２（１Ｈ，ｓ，ｅｔｈｙｎｙｌ），３．１４（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ａ），２．６３（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ｂ），２．１２，２．００（ｅａｃｈ３Ｈ，ｓ，ａｃｅｔｙｌ）．
【０１３７】
（３）２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン（化合物４）の合成
【０１３８】
【化２１】
【０１３９】
化合物３（２００ｍｇ、０．５３ｍｍｏｌ）をメタノール（７．００ｍＬ）に溶解し、２８％アンモニア水（５．００ｍＬ）を加え、室温で４時間撹拌した。反応液を減圧下濃縮後、残さにクロロホルム：メタノール（２０：１）を加え、析出した結晶をろ取した。得られた結晶を水から再結晶化し、化合物４（１１３ｍｇ、０．３９ｍｍｏｌ、７３．６％）を得た。
【０１４０】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ：８．３０（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），７．８７，７．８４（ｅａｃｈ１Ｈ，ｂｓ，ＮＨ2），６．２４（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−１’，Ｊ＝５．０５，７．１５），５．５７（１Ｈ，ｄ，３’−ＯＨ，Ｊ＝５．５０），５．３０（１Ｈ，ｔ，５’−ＯＨ，Ｊ＝６．４０），４．５７（１Ｈ，ｍ，Ｈ−３’），３．６５（１Ｈ，ｍ，Ｈ−５’ａ），３．５５（１Ｈ，ｍ，Ｈ−５’ｂ），３．５１（１Ｈ，ｓ，ｅｔｈｙｎｙｌ），２．７０（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ａ），２．４４（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ｂ）．
【０１４１】
合成例２：４’−Ｃ−シアノ−２’−デオキシ−２−フルオロアデノシン（化合物８）の合成
【０１４２】
（１）９−（３，５−ジ−Ｏ−アセチル−４−Ｃ−シアノ−２−デオキシ−β−Ｄ−リボ−ペントフラノシル）−２，６−ジアミノプリン（化合物６）の合成
【０１４３】
【化２２】
【０１４４】
化合物５（１２２ｍｇ、０．４１８ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（５．００ｍＬ）に懸濁し、無水酢酸（１１８μｌ、１．２５ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（３５２μｌ、２．５１ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン少量を加え、室温で終夜撹拌した。析出した結晶をろ取、乾燥し、化合物６（１２８ｍｇ、０．３４１ｍｍｏｌ、８１．６％）を得た。
【０１４５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：７．５４（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），６．３１（１Ｈ，ｔ，Ｈ−１’，Ｊ＝７．００），６．０６（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３’，Ｊ＝５．００，６．５０），５．３１（２Ｈ，ｂｓ，ＮＨ2），４．９５（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ａ，Ｊ＝１１．５），４．８０（２Ｈ，ｂｓ，ＮＨ2），４．３７（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ｂ，Ｊ＝１２．０），３．４３（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ａ），２．６３（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ｂ），２．２３，２．１２（ｅａｃｈ３Ｈ，ｓ，ａｃｅｔｙｌ）．
【０１４６】
（２）３’，５’−ジ−Ｏ−アセチル−４’−Ｃ−シアノ−２’−デオキシ−２−フルオロアデノシン（化合物７）の合成
【０１４７】
【化２３】
【０１４８】
化合物６（１１８ｍｇ、０．３１４ｍｍｏｌ）を７０％フッ化水素−ピリジン（２．３０ｍＬ）に溶解し、亜硝酸ｔ−ブチル（５０．０μｌ、０．４２７ｍｍｏｌ）を加え、−１０℃で３時間撹拌した。亜硝酸ｔ−ブチル（１０．０μｌ、８５μｍｏｌ）を追加し、同温度で更に１時間撹拌した。飽和重曹水を加えた後、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥後、減圧濃縮した。残さをエタノールに加熱溶解後、冷却し、析出した結晶をろ取、乾燥し、化合物７（５３．７ｍｇ、０．１４ｍｍｏｌ、４５．２％）を得た。
【０１４９】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ：８．３５（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），８．００，７．９２（ｅａｃｈ１Ｈ，ｂｓ，ＮＨ2），６．５４（１Ｈ，ｔ，Ｈ−１’，Ｊ＝７．００），５．８３（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３’，Ｊ＝４．００，６．５０），４．６３（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ａ，Ｊ＝１１．５），４．４４（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ｂ，Ｊ＝１２．０），３．２６（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ａ），２．７３（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ｂ），２．１８，２．０５（ｅａｃｈ３Ｈ，ｓ，ａｃｅｔｙｌ）．
【０１５０】
（３）４’−Ｃ−シアノ−２’−デオキシ−２−フルオロアデノシン（化合物８）の合成
【０１５１】
【化２４】
【０１５２】
化合物７（５３．７ｍｇ、０．１４２ｍｍｏｌ）をメタノール（１．９０ｍＬ）に溶解し、２８％アンモニア水（１．３０ｍＬ）を加え、室温で３０分間撹拌した。反応液を減圧下濃縮後、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル １０ｍＬ、ヘキサン：酢酸エチル＝５：１〜酢酸エチル〜酢酸エチル：メタノール＝１０：１）で精製し、化合物８（３０．２ｍｇ、０．１０ｍｍｏｌ、７２．３％）を得た。
【０１５３】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ：８．３１（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），７．９３，７．８２（ｅａｃｈ１Ｈ，ｂｓ，ＮＨ2），６．４３（１Ｈ，ｔ，Ｈ−１’，Ｊ＝７．００），６．３６（１Ｈ，ｂｓ，３’−ＯＨ），５．７４（１Ｈ，ｂｓ，５’−ＯＨ），４．７０（１Ｈ，ｔ，Ｈ−３’，Ｊ＝５．５０），３．８０（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ａ，Ｊ＝１２．０），３．６５（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ｂ，Ｊ＝１２．０），２．９３（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ａ），２．４７（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ｂ）．
【０１５４】
合成例３：２−クロロ−２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニルアデノシン（化合物９）の合成
【０１５５】
【化２５】
【０１５６】
亜硝酸ベンジルトリエチルアンモニウム（１．０４ｇ、４．３６ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（２４．０ｍＬ）に溶解し、塩化アセチル（０．４０ｍＬ、５．６３ｍｍｏｌ）を加え、０℃で３０分間撹拌した。この溶液に、化合物２（３４０ｍｇ、０．９１ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（６．００ｍＬ）溶液を加え、０℃で３時間撹拌した。反応液をクロロホルムで希釈した後、有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥、減圧下濃縮した。残さに２８％アンモニア水（１０．０ｍＬ）、メタノール（１５．０ｍＬ）を加え、室温で終夜撹拌した後、反応液を減圧下濃縮し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル ５０ｍＬ、クロロホルム：メタノール＝２０：１〜１０：１）で精製した。得られた残さを更にＯＤＳカラムクロマトグラフィー（ＯＤＳ ５０ｍＬ、５〜１０〜１５〜２０％アセトニトリル）により精製し、化合物９（３９．２ｍｇ、０．１３ｍｍｏｌ、１４．３％）を得た。
【０１５７】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ：８．３４（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），７．８４（２Ｈ，ｂｓ，ＮＨ2），６．２７（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−１’，Ｊ＝５．００，７．００），５．６０（１Ｈ，ｄ，３’−ＯＨ，Ｊ＝５．００），５．３３（１Ｈ，ｔ，５’−ＯＨ，Ｊ＝６．００），４．５６（１Ｈ，ｍ，Ｈ−３’），３．６４（１Ｈ，ｍ，Ｈ−５’ａ），３．５６（１Ｈ，ｍ，Ｈ−５’ｂ），３．５２（１Ｈ，ｓ，ｅｔｈｙｎｙｌ），２．６８（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ａ），２．４５（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ｂ）．
【０１５８】
合成例４：２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン５’−Ｈ−ホスホネート（化合物１０）の合成
【０１５９】
【化２６】
【０１６０】
化合物４（５０．０ｍｇ、０．１７１ｍｍｏｌ）をピリジン（２．００ｍＬ）に溶解し、ホスホン酸（２１．０ｍｇ，０．２５ｍｍｏｌ）、ジシクロヘキシルカルボジイミド（１０６ｍｇ、０．５１ｍｍｏｌ）を加え、室温で５時間撹拌した。沈殿をろ去後、ろ液を減圧下濃縮し、残さを水−クロロホルムで分配した。水層を減圧下濃縮し、残さを分取薄層クロマトグラフィーにより精製した（イソプロパノール：２８％アンモニア水：水＝７：１：２）。得られた残さをアセトニトリルで共沸後、メタノール−エーテルで粉末とし、化合物１０（６．３ｍｇ、１７．６μｍｏｌ、１０．３％）を得た。
【０１６１】
1Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ2Ｏ）δ：８．１３（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），６．４９（１Ｈ，ｄ，Ｈ−Ｐ，Ｊ＝６４５），６．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−１’，Ｊ＝５．００，７．５０），３．９６（２Ｈ，ｍ，Ｈ−５’），２．７５，２．５９（ｅａｃｈ １Ｈ，ｍ，Ｈ−２’）．
【０１６２】
31Ｐ−ＮＭＲ（Ｄ2Ｏ）δ：６．４５．
【０１６３】
合成例５：２’，３’−ジデヒドロ−２’，３’−ジデオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン（化合物１３）の合成
【０１６４】
【化２７】
【０１６５】
化合物４（０．２８ｇ、０．９５ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド（７．００ｍＬ）に溶解し、ｔ−ブチルクロロジフェニルシラン（０．５０ｍＬ，１．９２ｍｍｏｌ）、イミダゾール（０．２６ｇ、３．８２ｍｍｏｌ）を加え、室温で終夜撹拌した。反応液にメタノールを加えた後、減圧下濃縮し、残さを酢酸エチル−水で分配した。有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥後、減圧下濃縮し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル １００ｍＬ、クロロホルム：メタノール＝２０：１）で精製した。粗製の化合物１１（０．３８ｇ）を得た。
粗製の化合物１１（０．３８ｇ）をジクロロメタン（１０．０ｍＬ）に溶解し、−１０℃で無水トリフルオロメタンスルホン酸（０．１４ｍＬ，０．８３ｍｍｏｌ）、ピリジン（０．１４ｇ、１．７１ｍｍｏｌ）を加え、同温度で２時間撹拌した。反応液に飽和重曹水を加えた後、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥後、減圧下濃縮し、得られた粗トリフラートを精製することなく、次の反応に用いた。
【０１６６】
粗トリフラートを乾燥テトラヒドロフラン（２０．０ｍＬ）に溶解し、アルゴン雰囲気下、−７８℃で、１Ｍ ナトリウムヘキサメチルジシラジド−テトラヒドロフラン溶液（２．５０ｍＬ、２．５０ｍｍｏｌ）を加え、同温度で２時間撹拌後、反応液を室温に戻し、終夜撹拌した。反応液に水を加えた後、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥後、減圧下濃縮し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル ５０ｍＬ、クロロホルム：メタノール＝５０：１〜２０：１）で精製し、粗製の化合物１２（０．２０ｇ）を得た。
得られた粗製の化合物１２をテトラヒドロフラン（１０．０ｍＬ）に溶解し、１Ｍ フッ化テトラブチルアンモニウム−テトラヒドロフラン溶液（０．５９ｍＬ、０．５９ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間撹拌した。反応液を減圧下濃縮後、クロロホルム：メタノール（１０：１）を加え、析出した結晶をろ取した。化合物１３（５２．０ｍｇ、０．１９ｍｍｏｌ、２０．０％ ｆｒｏｍ 化合物４）を得た。
【０１６７】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ：８．０８（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），７．８４（２Ｈ，ｂｓ，ＮＨ2），６．９０（１Ｈ，ｔ，Ｈ−１’，Ｊ＝１．５０），６．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３’，Ｊ＝２．００，６．００），６．２７（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３’，Ｊ＝１．００，６．００），５．３７（１Ｈ，ｔ，５’−ＯＨ，Ｊ＝６．００）３．７１（１Ｈ，ｓ，ｅｔｈｙｎｙｌ），３．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−５’ａ，Ｊ＝６．００，１２．０），３．５７（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−５’ｂ，Ｊ＝６．００，１２．０）．
【０１６８】
合成例６：２’，３’−ジデヒドロ−２’，３’−ジデオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン５’−Ｈ−ホスホネート（化合物１４）の合成
【０１６９】
【化２８】
【０１７０】
化合物１３（１３．０ｍｇ、０．０４７ｍｍｏｌ）をピリジン（０．７ｍＬ）に溶解し、ホスホン酸（７．７ｍｇ，０．０９４ｍｍｏｌ）、ジシクロヘキシルカルボジイミド（２９．２ｍｇ、０．１４ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間撹拌した。反応液を減圧下濃縮し、残さをＯＤＳカラムクロマトグラフィー（ＯＤＳ １０ｍＬ、０〜１％アセトニトリル）により精製した。得られた残さをＤｏｗｅｘ ５０Ｗｘ８カラム（Ｎａ型）に通過させた。通過液を濃縮してえられた残さをメタノール−エーテルで粉末とし、化合物１４（４．３ｍｇ、１２μｍｏｌ、２５．５％）を得た。
【０１７１】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＭｅＯＤ）δ：８．３０（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），６．６９（１Ｈ，ｄ，Ｈ−Ｐ，Ｊ＝６２５），７．０２（１Ｈ，ｂｔ，Ｈ−１’），６．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−２’，Ｊ＝２．００，５．５０），６．２２（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３’，Ｊ＝１．００，５．５０），４．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−５’ａ，Ｊ＝７．５０，１１．０），３．９９（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−５’ｂ，Ｊ＝７．５０，１１．０）．
【０１７２】
31Ｐ−ＮＭＲ（ＭｅＯＤ）δ：４．１１．
【０１７３】
合成例７：２’，３’−ジデオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン（化合物２３）の合成
【０１７４】
（１）１，２−Ｏ−イソプロピリデン−４−Ｃ−トリエチルシリルエチニル−α−Ｄ−キシロ−ペンタフラノース（化合物１６）の合成
【０１７５】
【化２９】
【０１７６】
塩化オキサリル（０．５４ｍＬ、６．１９ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１０．０ｍＬ）に溶解後、−６０℃でジメチルスルホキシド（０．９０ｍＬ、１２．７ｍｍｏｌ）を滴下し、同温度で１５分間撹拌した。ここに化合物１５（１．０６ｇ、３．１３ｍｍｏｌ、Ｂｉｏｓｃｉ．Ｂｉｏｔｅｃｈ．Ｂｉｏｃｈｅｍ．，５７，１４３３−１４３８（１９９３））のジクロロメタン溶液（１５．０ｍＬ）を滴下し、同温度で３０分間撹拌した。トリエチルアミン（１．８６ｍＬ、１３．３ｍｍｏｌ）を加えた後、反応液を室温に戻し、３０分間撹拌した。反応液をクロロホルムで希釈後、水洗し、有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。有機層を減圧下濃縮し、得られた粗アルデヒドを精製することなく次の反応に用いた。
粗アルデヒドをジクロロメタン（４０．０ｍＬ）に溶解し、０℃で四臭化炭素（２．０８ｇ、６．２７ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（３．２８ｇ、１２．５ｍｍｏｌ）を加えた後、室温で１時間撹拌した。反応液にトリエチルアミン（２．６０ｍＬ、１８．７ｍｍｏｌ）を加えた後、クロロホルムで希釈し、有機層を水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥後、減圧下濃縮し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル １００ｍＬ、ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製した。粗ジブロモエテン（１．４２ｇ）を得た。
【０１７７】
粗ジブロモエテン（１．４２ｇ、２．８９ｍｍｏｌ）を乾燥テトラヒドロフラン（２０．０ｍＬ）に溶解し、アルゴン雰囲気下、−１０℃で２．２Ｍ メチルリチウム−エーテル溶液（４．４９ｍＬ、９．８８ｍｍｏｌ）を加え、同温度で５分間撹拌した。ここにクロロトリエチルシラン（０．９５ｍＬ、５．６６ｍｍｏｌ）を加え、更に３０分間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え撹拌後、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥後、減圧下濃縮し、得られた粗アルキンを得た。
粗アルキンを酢酸（８０．０ｍＬ）に溶解し、水（２０．０ｍＬ）を加え、室温で終夜撹拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残さをトルエンで共沸した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル ５０ｍＬ、ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製し、化合物１６（０．７０ｇ、２．１３ｍｍｏｌ、６４．４％）を得た。
【０１７８】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：６．００（１Ｈ，ｄ，Ｈ−１，Ｊ＝３．５０），４．６０（１Ｈ，ｄ，Ｈ−２，Ｊ＝４．００），４．５８（１Ｈ，ｄ，Ｈ−３，Ｊ＝５．００），３．９６−３．９１（３Ｈ，ｍ，Ｈ−５ ａｎｄ ３−ＯＨ），２．５０（１Ｈ，ｔ，５−ＯＨ），１．６４，１．３３（ｅａｃｈ３Ｈ，ｓ，ａｃｅｔｏｎｉｄｅ），０．９７（９Ｈ，ｔ，Ｅｔ，Ｊ＝８．００），０．５９（６Ｈ，ｑ，Ｅｔ，Ｊ＝８．００）．
【０１７９】
（２）５−Ｏ−ｔ−ブチルジフェニルシリル−１，２−Ｏ−イソプロピリデン−４−Ｃ−トリエチルシリルエチニル−α−Ｄ−キシロ−ペンタフラノース（化合物１７）の合成
【０１８０】
【化３０】
【０１８１】
化合物１６（０．７０ｇ、２．１３ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド（３．５０ｍＬ）に溶解し、ｔ−ブチルクロロジフェニルシラン（０．６６ｍＬ、２．５４ｍｍｏｌ）、イミダゾール（０．３５ｇ、５．１４ｍｍｏｌ）を加え、終夜撹拌した。反応液にメタノールを加え減圧下濃縮し後、残さを酢酸エチルに溶解した。有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、減圧下濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル １００ｍＬ、ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製し、化合物１７（１．１０ｇ、１．９４ｍｍｏｌ、９１．１％）を得た。
【０１８２】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：７．７２−７．３６（１０Ｈ，ｓ，ａｒｏｍａｔｉｃ），６．０２（１Ｈ，ｄ，Ｈ−１，Ｊ＝３．５０），４．６６（１Ｈ，ｄ，Ｈ−３，Ｊ＝５．５０），４．６３（１Ｈ，ｄ，Ｈ−１，Ｊ＝４．００），４．０５（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５ａ，Ｊ＝１０．５），３．９９（１Ｈ，ｄ，３−ＯＨ，Ｊ＝５．５０），３．９３（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ｂ，Ｊ＝１０．５），１．６５，１．３５（ｅａｃｈ３Ｈ，ｓ，ａｃｅｔｏｎｉｄｅ），１．０６（９Ｈ，ｓ，ｔ−Ｂｕ），０．９３（９Ｈ，ｔ，Ｅｔ，Ｊ＝８．００），０．５６（６Ｈ，ｑ，Ｅｔ，Ｊ＝８．００）．
【０１８３】
（３）５−Ｏ−ｔ−ブチルジフェニルシリル−３−デオキシ−１，２−Ｏ−イソプロピリデン−４−Ｃ−トリエチルシリルエチニル−α−Ｄ−キシロ−ペントフラノース（化合物１８）の合成
【０１８４】
【化３１】
【０１８５】
化合物１７（１．１０ｇ、１．９４ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（２０．０ｍＬ）に溶解し、クロロチオノギ酸フェニル（０．４０ｍＬ、２．８９ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（０．７１ｇ、５．８１ｍｍｏｌ）を加え、室温で３時間撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈後、有機層を０．１Ｎ塩酸、飽和重曹水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。有機層を減圧下濃縮し、得られた粗チオ炭酸エステルを精製することなく次の反応に用いた。
粗チオ炭酸エステルをトルエンで３回共沸した後、トルエン（３０．０ｍＬ）に溶解し、減圧脱気した。この溶液をアルゴン雰囲気下、８０℃で水素化トリブチルスズ（２．６１ｍＬ、９．７０ｍｍｏｌ）、少量のアゾビス（イソブチロニトリル）を加え、同条件で１時間撹拌した。反応液を減圧下濃縮後、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル １００ｍＬ、ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）で精製し、化合物１８（１．０７ｇ、１．９４ｍｍｏｌ、ｑｕａｎｔ．）を得た。
【０１８６】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：７．６９−７．３８（１０Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），５．９０（１Ｈ，ｄ，Ｈ−１，Ｊ＝４．００），４．８５（１Ｈ，ｔ，Ｈ−２，Ｊ＝５．００），３．８２（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５ａ，Ｊ＝１１．０），３．５８（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５ｂ，Ｊ＝１０．５），２．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３ａ，Ｊ＝６．００，１４．０），２．４０（１Ｈ，ｄ，Ｈ−３ｂ，Ｊ＝１４．０），１．６８，１．３６（ｅａｃｈ３Ｈ，ｓ，ａｃｅｔｏｎｉｄｅ），１．０４（９Ｈ，ｓ，ｔ−Ｂｕ）０．９２（９Ｈ，ｔ，Ｅｔ，Ｊ＝８．００），０．５４（６Ｈ，ｑ，Ｅｔ，Ｊ＝８．００）．
【０１８７】
（４）１，２−ジ−Ｏ−アセチル−５−Ｏ−ｔ−ブチルジフェニルシリル−３−デオキシ−４−Ｃ−トリエチルシリルエチニル−Ｄ−キシロ−ペントフラノース（化合物１９）の合成
【０１８８】
【化３２】
【０１８９】
化合物１８（１．０７ｇ、１．９４ｍｍｏｌ）を８０％酢酸（１００ｍＬ）に溶解し、トリフルオロ酢酸（１０．０ｍＬ）を加え、４０℃で３時間撹拌した。反応液を減圧下濃縮後、残さをトルエンで共沸し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル １００ｍＬ、ヘキサン−酢酸エチル＝４：１）で精製した。得られた残さをピリジン（２０．０ｍＬ）に溶解し、無水酢酸（０．４９ｍＬ）を加え、室温で終夜撹拌した。反応液を減圧下濃縮後、残さをトルエンで共沸し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル １００ｍＬ、ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製した。化合物１９（０．７５ｇ、）を得た。
【０１９０】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：７．７１−７．３７（１０Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），６．４４（０．３Ｈ，ｄ，Ｈ−１−ａｌｐｈａ，Ｊ＝４．５０），６．３０（０．７Ｈ，ｓ，Ｈ−１−ｂｅｔａ），５．３６（０．３Ｈ，ｍ，Ｈ−２−ａｌｐｈａ），５．１９（０．７Ｈ，ｄ，Ｈ−２−ｂｅｔａ，Ｊ＝５．５０），３．７７，３．７４（ｅａｃｈ０．７Ｈ，ｄ，Ｈ−５−ｂｅｔａ，Ｊ＝１０．０），３．７６，３．６２（ｅａｃｈ０．３Ｈ，ｄ，Ｈ−５−ａｌｐｈａ，Ｊ＝１１．０），２．８６（０．３Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３ａ−ａｌｐｈａ，Ｊ＝８．５０，１２．５），２．７２（０．７Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３ａ−ｂｅｔａ，Ｊ＝５．５０，１４．０），２．３９（０．３Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３ｂ−ａｌｐｈａ，Ｊ＝１０．０，１２．５），２．３３（０．７Ｈ，ｄ，Ｈ−３ｂ−ｂｅｔａ，Ｊ＝１４．０），２．１１，２．０８（ｅａｃｈ０．９Ｈ，ｓ，ａｃｅｔｙ−ａｌｐｈａ），２．１０，１．８０（ｅａｃｈ２．１Ｈ，ｓ，ａｃｅｔｙｌ−ｂｅｔａ），１．０７４（６．３Ｈ，ｓ，ｔ−Ｂｕ−ｂｅｔａ），１．０６７（２．７Ｈ，ｓ，ｔ−Ｂｕ−ａｌｐｈａ），０．９７（６．３Ｈ，ｔ，Ｅｔ−ｂｅｔａ，Ｊ＝８．００），０．９４（２．７Ｈ，ｔ，Ｅｔ−ａｌｐｈａ，Ｊ＝８．００），０．５８（４．２Ｈ，ｑ，Ｅｔ−ｂｅｔａ，Ｊ＝８．００），０．５４（１．８Ｈ，ｑ，Ｅｔ−ａｌｐｈａ，Ｊ＝８．００）．
【０１９１】
（５）９−（２−Ｏ−アセチル−５−Ｏ−ｔ−ブチルジフェニルシリル−３−デオキシ−４−Ｃ−トリエチルシリルエチニル−β−Ｄ−キシロ−ペントフラノシル）−２，６−ジアミノプリン（化合物２０）の合成
【０１９２】
【化３３】
【０１９３】
２，６−ジアミノプリン（１．２１ｇ、８．０６ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（２４．０ｍＬ）に懸濁し、Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド（１１．９ｍＬ、４８．１ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で３時間撹拌した。この溶液を減圧下濃縮後、残さを１，２−ジクロロエタンで３回共沸した。残さに化合物１９（２．３９ｇ、４．０２ｍｍｏｌ）の１，２−ジクロロエタン溶液（２４．０ｍＬ）、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル（３．０５ｍＬ、１６．９ｍｍｏｌ）を加え、アルゴン雰囲気下、５０℃で５時間、８０℃で１０時間撹拌した。飽和重曹水を加え撹拌後、溶液をセライトろ過した。有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥後、減圧下濃縮し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル ３００ｍＬ、クロロホルム：メタノール＝２０：１）で精製した。ヘキサン−酢酸エチルから結晶化し、化合物２０（１．６０ｇ、２．３４ｍｍｏｌ、５８．２％）を得た。
【０１９４】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：７．６７−７．３３（１０Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），６．１３（１Ｈ，ｄ，Ｈ−１’，Ｊ＝３．５０），５．７７（１Ｈ，ｍｄ，Ｈ−２’），５．２８（２Ｈ，ｂｓ，ＮＨ2），４．４９（２Ｈ，ｂｓ，ＮＨ2），３．６７（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ａ，Ｊ＝１０．５），３．７９（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ｂ，Ｊ＝１１．０），３．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３’ａ，Ｊ＝７．５０，１４．０），２．３７（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３’ｂ，Ｊ＝３．００，１４．０），１．０６（９Ｈ，ｓ，ｔ−Ｂｕ），０．９９（９Ｈ，ｔ，Ｅｔ，Ｊ＝８．００），０．６１（６Ｈ，ｑ，Ｅｔ，Ｊ＝８．００）．
【０１９５】
（６）５’−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリル−３’−デオキシ−４’−Ｃ−トリエチルシリルエチニル−２−フルオロアデノシン（化合物２１）の合成
【０１９６】
【化３４】
【０１９７】
化合物２０（１００ｍｇ、０．１４６ｍｍｏｌ）をピリジン（３．００ｍＬ）に溶解し、−１５℃でフッ化水素−ピリジン（７．００ｍＬ）、亜硝酸ｔ−ブチル（１６０μｌ、１．３４ｍｍｏｌ）を加え、同温度で３０分間撹拌した。反応液に水を加えた後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重曹水で洗浄後、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、減圧下濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル ３００ｍＬ、クロロホルム：メタノール＝１００：１〜２０：１）で精製した。得られた残さ（４８．９ｍｇ）をジクロロメタン（１．３０ｍＬ）に溶解し、０℃でトリフルオロメタンスルホン酸ｔ−ブチルジメチルシリル（３６．０μｌ、０．１５７ｍｍｏｌ）、コリジン（４４．１μｌ、０．０３３１ｍｍｏｌ）を加え、同温度で５０分間撹拌した。反応液に水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を０．０１Ｎ塩酸、飽和重曹水で洗浄後、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、減圧下濃縮した。残さをジオキサン（３．００ｍＬ）に溶解し、２８％アンモニア水（０．３０ｍＬ）を加え、室温で３０分間撹拌した。反応液を減圧下濃縮後、残さをメタノール（１．２０ｍＬ）に溶解し、２８％アンモニア水（０．８０ｍＬ）を加え、室温で２時間撹拌した。反応液を減圧下濃縮し、析出した結晶をろ取し、化合物２１（３４．０ｍｇ、０．０６５２ｍｍｏｌ、４４．７％）を得た。
【０１９８】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：８．０４（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），５．９９（１Ｈ，ｄ，Ｈ−１’，Ｊ＝４．００），５．８０（２Ｈ，ｂｓ，ＮＨ2），４．７３（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’），４．２３（１Ｈ，ｄ，２’−ＯＨ，Ｊ＝５．００），３．８８（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ａ，Ｊ＝１１．０），３．７０（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ｂ，Ｊ＝１１．０），２．８２（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３’ａ，Ｊ＝７．５０，１３．０），２．４２（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３’ｂ，Ｊ＝６．５０，１３．０），１．０１（９Ｈ，ｔ，Ｅｔ，Ｊ＝８．００），０．８０（９Ｈ，ｓ，ｔ−Ｂｕ），０．６４（６Ｈ，ｑ，Ｅｔ，Ｊ＝８．００），０．０３９，−０．０１３（ｅａｃｈ３Ｈ，ｓ，Ｍｅ）．
【０１９９】
（７）５’−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリル−２’，３’−ジデオキシ−４’−Ｃ−トリエチルシリルエチニル−２−フルオロアデノシン（化合物２２）の合成
【０２００】
【化３５】
【０２０１】
化合物２１（３２．０ｍｇ、０．０６１ｍｍｏｌ）をアセトニトリルで３回共沸後、アセトニトリル（１．００ｍＬ）に溶解し、クロロチオノギ酸フェニル（１２．７μｌ、０．０９２ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（２２．５ｍｇ、０．１８０ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈後、有機層を０．０１Ｎ塩酸、飽和重曹水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。有機層を減圧下濃縮し、得られた粗チオ炭酸エステルを精製することなく次の反応に用いた。
粗チオ炭酸エステルをトルエンで３回共沸した後、トルエン（１．００ｍＬ）に溶解し、減圧脱気した。この溶液をアルゴン雰囲気下、８０℃でトリス（トリメチルシリル）シラン（９４．６μｌ、０．３０６ｍｍｏｌ）、少量のアゾビス（イソブチロニトリル）を加え、同条件で１時間撹拌した。反応液を減圧下濃縮後、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル １０ｍＬ、クロロホルム：メタノール＝２００：１〜１００：１）で精製し、化合物２２（２６．１ｍｇ、０．０５１６ｍｍｏｌ、８４．６％）を得た。
【０２０２】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：８．２４（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），６．３６（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−１’，Ｊ＝２．５０，７．００），５．９１（２Ｈ，ｂｓ，ＮＨ2），４．０４（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ａ，Ｊ＝１１．０），３．８１（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ｂ，Ｊ＝１１．０
），２．８３（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ａ），２．５４（１Ｈ，ｍ，Ｈ−３’ａ），２．３７（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ｂ），２．１１（１Ｈ，ｍ，Ｈ−３’ｂ），１．００（９Ｈ，ｔ，Ｅｔ，Ｊ＝８．００），０．９３（９Ｈ，ｓ，ｔ−Ｂｕ），０．６２（６Ｈ，ｑ，Ｅｔ，Ｊ＝８．００），０．１３（６Ｈ，ｓ，Ｍｅ）．
【０２０３】
（８）２’，３’−ジデオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン（化合物２３）の合成
【０２０４】
【化３６】
【０２０５】
化合物２２（１０１ｍｇ、０．２００ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に溶解し、１Ｍ フッ化テトラブチルアンモニウム−テトラヒドロフラン溶液（０．４２ｍＬ、０．４２ｍｍｏｌ）を加え、室温で５分間撹拌した。反応液に酢酸（２４μｌ）を加えた後、減圧下濃縮し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル １５ｍＬ、クロロホルム：メタノール＝４０：１〜２０：１）で精製した。化合物２３（５３．０ｍｇ、０．１９１ｍｍｏｌ、９５．７％）を得た。
【０２０６】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＭｅＯＤ）δ：８．２３（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），６．２２（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−１’，Ｊ＝４．００，７．００），３．７７（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ａ，Ｊ＝１２．５），３．６１（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ｂ，Ｊ＝１２．０），２．９４（１Ｈ，ｓ，ｅｔｈｙｎｙｌ），２．６６（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ａ），２．５４（１Ｈ，ｍ，Ｈ−３’ａ），２．４２（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ｂ），２．１１（１Ｈ，ｍ，Ｈ−３’ｂ）．
【０２０７】
合成例８：２’，３’−ジデオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン５’−Ｈ−ホスホネート（化合物２４）の合成
【０２０８】
【化３７】
【０２０９】
化合物２３（２０．０ｍｇ、０．０７ｍｍｏｌ）をピリジン（１ｍＬ）に溶解し、ホスホン酸（１１．８ｍｇ，０．１４４ｍｍｏｌ）、ジシクロヘキシルカルボジイミド（４４．７ｍｇ、０．２１６ｍｍｏｌ）を加え、室温で５時間撹拌した。反応液を減圧下濃縮し、残さをＯＤＳカラムクロマトグラフィー（ＯＤＳ １０ｍＬ、０−１％アセトニトリル）により精製した。得られた残さをＤｏｗｅｘ ５０Ｗｘ８カラム（Ｎａ型）に通過させた。通過液を濃縮してえられた残さをメタノール−エーテルで粉末とし、化合物２４（４．７ｍｇ、１３μｍｏｌ、１８．６％）を得た。
【０２１０】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＭｅＯＤ）δ：８．３７（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），６．７７（１Ｈ，ｄ，Ｈ−Ｐ，Ｊ＝６２５），６．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−１’，Ｊ＝４．００，６．５０），４．０９（１Ｈ，ｍ，Ｈ−５’），２．７１（２Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ａ，Ｈ−３’ａ，），２．５２（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ｂ），２．２９（１Ｈ，ｍ，Ｈ−３’ｂ）．
【０２１１】
31Ｐ−ＮＭＲ（ＭｅＯＤ）δ：４．５２
【０２１２】
製剤例１：錠剤
本発明化合物 ３０．０ｍｇ
微粉末セルロース ２５．０ｍｇ
乳糖 ３９．５ｍｇ
スターチ ４０．０ｍｇ
タルク ５．０ｍｇ
ステアリン酸マグネシウム ０．５ｍｇ
上記組成から常法によって錠剤を調製する。
【０２１３】
製剤例２：カプセル剤
本発明化合物 ３０．０ｍｇ
乳糖 ４０．０ｍｇ
スターチ １５．０ｍｇ
タルク ５．０ｍｇ
上記組成から常法によってカプセル剤を調製する。
【０２１４】
製剤例３：注射剤
本発明化合物 ３０．０ｍｇ
グルコース １００．０ｍｇ
上記組成を注射用精製水に溶解して注射剤を調製する。
【０２１５】
以下に試験例を示す。試験においては薬剤として以下の本発明化合物と公知化合物を使用した。
本発明化合物：
化合物４： ２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン
化合物８： ４’−Ｃ−シアノ−２’−デオキシ−２−フルオロアデノシン
化合物９： ２−クロロ−２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニル−アデノシン
化合物１０：２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン５’−Ｈ−ホスホネート
化合物１３：２’，３’−ジデヒドロ−２’，３’−ジデオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン
公知化合物：
ＡＺＴ：アジドチミジン
ＥｄＡｄｏ：２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニルアデノシン
ＥｄＤＡＰ：９−（４−Ｃ−エチニル−２−デオキシ−リボペントフラノシル）−２，６−ジアミノプリン
ｄｄＡｄｏ：２’，３’−ジデオキシアデノシン
【０２１６】
試験例１
＜方法＞抗ヒト免疫不全ウイルス（ＨＩＶ）活性
１）ＭＴ−４細胞を用いたＭＴＴ法
１．９６ウエルプレートを用いて被験薬剤を希釈する（１００μｌ）。ここに１ウエルあたり１００００個になるようにＨＩＶ−１（ＩＩＩbｓｔｒａｉｎ；１００ＴＣＩＤ50）感染及び非感染ＭＴ−４細胞を加えて、３７℃で５日間培養する。
２．ＭＴＴ（２０μｌ、７．５ｍｇ／ｍＬ）を加えて更に２〜３時間培養する。
３．培養終了後、１２０μｌをとり、ＭＴＴ停止液（Ｔｒｉｔｏｎ Ｘ−１００ ４％、ＨＣｌ ０．０４Ｎを加えたイソプロパノール（Ｉｓｏｐｒｏｐａｎｏｌ））を加え、撹拌して生成したホルマザン（ｆｏｒｍａｚａｍ）を溶解し、５４０ｎｍにおける吸光度を測定する。この測定値は生細胞数に比例するため、感染ＭＴ−４細胞を用いた試験の測定値が５０％になった被験薬剤の濃度をＥＣ50、また非感染ＭＴ−４細胞を用いた試験の測定値が５０％になった被験薬剤の濃度をＣＣ50とする。
【０２１７】
２）ＨｅＬａ ＣＤ４／ＬＴＲ−ｂｅｔａ−Ｇａｌ細胞を用いたＭＡＧＩアッセイ
１．ＨｅＬａ ＣＤ４／ＬＴＲ−ｂｅｔａ−Ｇａｌ細胞を１ウエルあたり１００００個の割合で９６ウエルに加える。１２〜２４時間後に培養液を捨て、希釈した被験薬剤（１００μｌ）を加える。
２．各種ＨＩＶ株（野生株：ＷＴ、耐性株：ＭＤＲ、Ｍ１８４Ｖ；各５０ＴＣＩＤ50相当）を加えて４８時間培養する。
３．培養終了後、１％ホルムアルデヒド（ｆｏｒｍａｌｄｅｈｙｄｅ）、０．２％グルタールアルデヒド（ｇｌｕｔａｒａｌｄｅｈｙｄｅ）を加えたＰＢＳで細胞を５分間固定する。
４．ＰＢＳで３回洗浄後、０．４ｍｇ／ｍＬ Ｘ−Ｇａｌで１時間染色し、青く染色された細胞の数を透過型実体顕微鏡下で各ウエルのプラーク数を数え、青染された細胞を５０％減少させる被験薬剤の濃度をＥＣ50とする。
【０２１８】
＜結果＞抗ヒト免疫不全ウイルス（ＨＩＶ）活性及び細胞毒性
１）ＭＴ−４細胞を用いたＭＴＴ法
【０２１９】
【表１】
【０２２０】
２）ＨｅＬａ ＣＤ４／ＬＴＲ−ｂｅｔａ−Ｇａｌ細胞を用いたＭＡＧＩアッセイ
【０２２１】
【表２】
【０２２２】
試験例２
＜方法＞化合物４のアデノシンデアミナーゼに対する安定性
０．５ｍＭの化合物４（５０ｍＭ Ｔｒｉｓ−ＨＣｌ緩衝液溶液（ｐＨ７．５））０．５ｍＬに子ウシ腸管由来アデノシンデアミナーゼ ０．０１ｕｎｉｔを加え、２５℃でインキュベートする。
１５分ごとに反応液５μｌを取り、高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）により分析する。反応時間０分のときの被験薬剤のピーク面積を１００％として、その経時変化を観察する。なお、ＨＰＬＣ分析は、以下の条件で行った。
カラム：ＹＭＣ−Ｐａｃｋ ＯＤＳ−Ａ（２５０×６．０ｍｍ）
溶出液：１５％ ＭｅＣＮ−５０ｍＭ ＴＥＡＡ
流速： １ｍＬ／ｍｉｎ
温度： ３０℃
検出： ２６０ｎｍ
【０２２３】
＜結果＞
その結果、図１に示すように、従来の２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニルアデノシン（ＥｄＡｄｏ）は脱アミノされるに対し、本発明化合物の２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン（化合物４）は全く脱アミノされず、アデノシンデアミナーゼに対し、抵抗性を有することが明らかとなった。
【０２２４】
試験例３
＜方法＞化合物４の酸性条件下における安定性
化合物４（２．９ｍｇ）もしくは２’，３’−ジデオキシアデノシン（ｄｄＡｄｏ：２．４ｍｇ）を予め３７℃に暖めた試験液（塩化ナトリウム２．０ｇに塩酸７．０ｍＬ及び水を加えて溶かし１０００ｍＬとしたもの）１０ｍＬに溶解し、同温度でインキュベートする。
反応液１００μｌを取り、０．１規定水酸化ナトリウム水溶液で中和後、５μｌをＨＰＬＣにより分析する。なお、ＨＰＬＣ分析条件は、試験例２と同じである。
【０２２５】
＜結果＞
その結果、従来のｄｄＡｄｏは本条件下５分ほどで約９８％が分解されるのに対し（図３）、本発明化合物の２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン（化合物４）の分解は非常に遅く、酸性条件下比較的安定であることが明らかとなった（図２）。
【０２２６】
試験例４
＜方法＞化合物４のｉｎ ｖｉｖｏにおける急性毒性試験
６週齢、雄性、ＩＣＲマウスに被検薬剤（化合物４：生理食塩水に溶解又は懸濁）を一群８匹ずつ、１００ｍｇ／ｋｇまで経口あるいは静脈内投与し、７日間マウスの生死、体重を測定した。
【０２２７】
＜結果＞
化合物４は、単回投与では経口、静脈内いずれの投与経路でも１００ｍｇ／ｋｇまでマウスの死亡は認められなかった（下記表３）。また、図４に示すように体重減少は見られず、下痢のような症状も観察されなかったことから、本発明化合物の２’−デオキシ−４’−Ｃ−エチニル−２−フルオロアデノシン（化合物４）はマウスにおいて急性毒性を示さないことが明らかになった。
【０２２８】
【表３】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式［ＩＶ］
【化１】
（式中、Ｒ1はエチニル基又はシアノ基を示す）
で表される化合物の３’位水酸基及び５’位水酸基を保護し、式［Ｖ］
【化２】
（式中、Ｐは保護基を示し、Ｒ1は前記と同じ）
で表される化合物を得、該化合物［Ｖ］の２位アミノ基をフッ素原子又は塩素原子へと変換して［ＶＩ］
【化３】
（式中、Ｘはフッ素原子又は塩素原子を示し、Ｒ1及びＰは前記と同じ）
で表される化合物を得、次いで該化合物の［ＶＩ］の保護基を除去することを特徴とする式［Ｉ］
【化４】
（式中、Ｒ2は水素原子を示し、Ｒ1及びＸは前記と同じ）
で表される化合物の製造法。
【請求項２】
Ｐで示される保護基が、エーテル系保護基、アシル系保護基、シリル系保護基又はアセタール系保護基である請求項１記載の製造法。
【請求項３】
化合物［Ｖ］の２位アミノ基をフッ素原子又は塩素原子に変換する手段が、亜硝酸誘導体で処理後、フッ素化試薬又は塩素化試薬を反応させる手段か、あるいは２，６位のアミノ基を亜硝酸誘導体で処理して２，６−ジフルオロプリン誘導体又は２，６−ジクロロプリン誘導体とした後、アンモニア処理により塩基部６位のフッ素原子又は塩素原子をアミノ基へとする手段である請求項１又は２記載の製造法。
【請求項４】
化合物［Ｖ］の２位のアミノ基をフッ素原子又は塩素原子に変換する手段が、亜硝酸誘導体で処理後、フッ素化試薬又は塩素化試薬を反応させる手段である請求項１又は２記載の製造法。
【請求項５】
化合物［Ｖ］の２位アミノ基をフッ素原子又は塩素原子に変換する手段が、テトラフルオロホウ酸中の亜硝酸ナトリウム、フッ化水素ピリジン中の亜硝酸エステル、有機溶媒中の三塩化アンチモン−亜硝酸ｔ−ブチル、又は有機溶媒中の塩化アセチル−亜硝酸ベンジルトリエチルアンモニウムを反応させる手段である請求項４記載の製造法。
【請求項１】
式［ＩＶ］
【化１】
（式中、Ｒ1はエチニル基又はシアノ基を示す）
で表される化合物の３’位水酸基及び５’位水酸基を保護し、式［Ｖ］
【化２】
（式中、Ｐは保護基を示し、Ｒ1は前記と同じ）
で表される化合物を得、該化合物［Ｖ］の２位アミノ基をフッ素原子又は塩素原子へと変換して［ＶＩ］
【化３】
（式中、Ｘはフッ素原子又は塩素原子を示し、Ｒ1及びＰは前記と同じ）
で表される化合物を得、次いで該化合物の［ＶＩ］の保護基を除去することを特徴とする式［Ｉ］
【化４】
（式中、Ｒ2は水素原子を示し、Ｒ1及びＸは前記と同じ）
で表される化合物の製造法。
【請求項２】
Ｐで示される保護基が、エーテル系保護基、アシル系保護基、シリル系保護基又はアセタール系保護基である請求項１記載の製造法。
【請求項３】
化合物［Ｖ］の２位アミノ基をフッ素原子又は塩素原子に変換する手段が、亜硝酸誘導体で処理後、フッ素化試薬又は塩素化試薬を反応させる手段か、あるいは２，６位のアミノ基を亜硝酸誘導体で処理して２，６−ジフルオロプリン誘導体又は２，６−ジクロロプリン誘導体とした後、アンモニア処理により塩基部６位のフッ素原子又は塩素原子をアミノ基へとする手段である請求項１又は２記載の製造法。
【請求項４】
化合物［Ｖ］の２位のアミノ基をフッ素原子又は塩素原子に変換する手段が、亜硝酸誘導体で処理後、フッ素化試薬又は塩素化試薬を反応させる手段である請求項１又は２記載の製造法。
【請求項５】
化合物［Ｖ］の２位アミノ基をフッ素原子又は塩素原子に変換する手段が、テトラフルオロホウ酸中の亜硝酸ナトリウム、フッ化水素ピリジン中の亜硝酸エステル、有機溶媒中の三塩化アンチモン−亜硝酸ｔ−ブチル、又は有機溶媒中の塩化アセチル−亜硝酸ベンジルトリエチルアンモニウムを反応させる手段である請求項４記載の製造法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２０１１−２５６１７３（Ｐ２０１１−２５６１７３Ａ）
【公開日】平成２３年１２月２２日（２０１１．１２．２２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１４２７９３（Ｐ２０１１−１４２７９３）
【出願日】平成２３年６月２８日（２０１１．６．２８）
【分割の表示】特願２００７−３１５３１５（Ｐ２００７−３１５３１５）の分割
【原出願日】平成１７年３月２４日（２００５．３．２４）
【出願人】（０００００６７７０）ヤマサ醤油株式会社 (56)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１２月２２日（２０１１．１２．２２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年６月２８日（２０１１．６．２８）
【分割の表示】特願２００７−３１５３１５（Ｐ２００７−３１５３１５）の分割
【原出願日】平成１７年３月２４日（２００５．３．２４）
【出願人】（０００００６７７０）ヤマサ醤油株式会社 (56)
【Ｆターム（参考）】
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