親水性、防曇性を有し、透明性に優れ、かつＵＶ光によるガス分解性を有する、可視光応答性を有するＴｉ酸化物膜およびその製造方法並びにＴｉ酸化物膜付き基体を提供する。 ガラス基板上に形成されたＴｉ酸化物膜であって、１００ｍＷ／ｃｍ^２の輝度を有するキセノンランプの光を、４００ｎｍ未満の紫外光をカットして前記Ｔｉ酸化物膜に照射しながら前記Ｔｉ酸化物膜に電圧を印加したときの電流値が、暗所における前記Ｔｉ酸化物膜に該電圧と同じ電圧を印加したときの電流値に対して１０００倍以上であるＴｉ酸化物膜。 （もっと読む）

要約
課題 ＣＯＦ_２を収率よく、工業的に製造できる方法の提供。
解決手段 一酸化炭素Ａとフッ素Ｂを、希釈ガスとともに反応容器１内に連続的に供給し、反応させてフッ化カルボニルを製造する方法であって、希釈ガスとしてフッ化水素またはフッ化カルボニルを用いることを特徴とするフッ化カルボニルの製造方法。一酸化炭素Ａとフッ素Ｂとを反応させてフッ化カルボニルを生成させるフッ化カルボニルの製造装置であって、一酸化炭素Ａの供給手段、フッ素Ｂの供給手段、フッ化水素またはフッ化カルボニルからなる希釈ガスの供給手段、および反応容器を備えてなることを特徴とするフッ化カルボニルの製造装置。 （もっと読む）

熱歪みを利用する板ガラスの切断において、カレットの発生を防止しかつ比較的に厚い板ガラスに対しても直線性に優れた良好な切断面を得る。
板ガラスの切断開始点にクラック起点となる切り目を刻入した後に、板ガラスを加熱バーナーで仮想切断線に沿って加熱し、次いで加熱された部分の仮想切断線部を、ノズル中心部の液体噴出口が外周の気体噴射口より突出している冷却ノズルで生成されるミストにより局所冷却し、前記切り目の微細なクラックを仮想切断線に沿って伸展せしめて板ガラスに切断に必要なクラックを形成する。 （もっと読む）

変調駆動光として極短パルスの高パワーレーザー光を用いても光変調特性が劣化せず長寿命であり、かつ、１．５５μｍ等の波長の光を用いての応答速度が速い空間光変調素子の提供。 プリズム２と、光照射によって複素屈折率が変化する光機能性材料からなる光機能性材料層３との間に、プリズム２の屈折率よりも低屈折率である透明材料からなる低屈折率層４を介在させてなり、光機能性材料としてカーボンナノチューブを用いることを特徴とする空間光変調素子。 （もっと読む）

短波長光（発振波長１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザー、発振波長１５７ｎｍのＦ２エキシマレーザー）に対して高い透明性と耐久性を有する有用な含フッ素重合体をペリクル材料等として提供する。
ペリクル膜および／または該接着剤に用いられる重合体（Ｉ）が、下記単位（１）を必須とする重合体からなるペリクル。単位（１）とは、フッ素原子を含有し重合体主鎖を形成する連鎖が炭素原子とエーテル性酸素原子からなり、該主鎖を形成する炭素原子の１個以上は環基を形成する炭素原子であり、かつ該主鎖を形成するエーテル性酸素原子の１個以上は環基を形成しない酸素原子である単位。たとえば下式（Ａ１）で表される単位（ただし、ｎは１または２、Ｒ^Ｆ１は−Ｆまたは−ＣＦ_３、Ｒ^Ｆ２は−Ｆまたは炭素数１〜５のペルフルオロアルキル基、を示す。）。
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比較的低エネルギーの紫外線を用いて、容易に撥水性親水性パターンを有する薄膜を形成できる含フッ素化合物を提供する。
下式１で表される含フッ素化合物（式１中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子または１価有機基、そのうちの少なくとも一つはフッ素原子を有する１価有機基。Ｒ^５は水素原子または１価有機基。Ｒ^６は１価有機基。Ａはヘテロ原子。）を用いて薄膜を形成し、紫外線を照射することにより撥水性親水性パターンを有する薄膜を形成する。
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外装容器の一方向側のみに端子を設けた場合でも素子体から端子への抵抗を低減させ、かつ、インダクタンスを低減させることができ、さらに素子体の製造時間を短縮させることのできるコンデンサを提供する。
素子体１０１は、電極体１０３Ａ、１０３Ｂの端部帯状部１０８Ａ、１０８Ｂが、セパレータ５Ａ、５Ｂの長手方向に沿って互いに反対側にセパレータ５Ａ、５Ｂより突出するように巻回されて形成されている。この素子体１０１の渦巻き様の両端面からは、電極体１０３Ａ、１０３Ｂの端部帯状部１０８Ａ、１０８Ｂが別々に露出されており、この端部帯状部１０８Ａ、１０８Ｂには、集電板１４１Ａ、１４１Ｂが接合されている。そして、集電板１４１Ａと端子３３Ａ間、集電板１４１Ｂと端子３３Ｂ間は、それぞれ短タブ部１５１Ａ、長タブ部１５１Ｂにより接続されている。 （もっと読む）

【課題】 立体画像表示，見る角度によって異なる画面が見られる多画面表示および２次元画像表示を適宜選択できるようにする。
【解決手段】 画像表示部と、スイッチング液晶パネルとを含み、上記画像表示部に表示される立体画像，多画面画像の別に応じてスイッチング液晶パネルに異なるスリットマスクを形成する多機能表示装置であって、スイッチング液晶パネルの一方の透明電極基板２１０に行方向に沿って延び、かつ、列方向に所定の間隔をもって平行に配線された第１枝電極２１１を有する櫛歯状の第１透明電極２１２と、第１枝電極２１１と交互に配置される第２枝電極２１３を有する櫛歯状の第２透明電極２１４とを形成し、他方の透明電極基板に列方向に沿って延び、かつ、行方向に所定の間隔をもってほぼ平行に配線された第３枝電極２２１を有する櫛歯状の第３透明電極２２２と、第３枝電極２２１と交互に配置される第４枝電極２２３を有する櫛歯状の第４透明電極２２４とを形成し、第１〜第４の透明電極に対する通電を制御して行スリットマスクもしくは列スリットマスクを形成する。 （もっと読む）

低コストおよび低環境負荷で、かつ連続した薄膜回路パターンを精度よく実現できるパターン形成方法、およびこれにより製造される電子回路、並びにこれを用いた電子機器を提供する。 基板１上にマスク層２を形成する工程と、上記マスク層２に開口パターンを形成する工程と、上記基板１上およびマスク層２上に薄膜３を形成する工程と、上記マスク層２および該マスク層２上に形成された薄膜３を基板１から剥離する工程とを含み、開口パターンを乾式条件下で形成する。 （もっと読む）

機械的強度、および透明性に優れ、高温使用に適する高いガラス転移点を有し、かつ高い屈折率を有する含フッ素重合体を提供する。
新規な下式（１）で表される化合物、および該化合物が重合モノマー単位（２）を含む含フッ素重合体。Ｒ^ＡＦ、Ｒ^ＢＦ、Ｒ^ＣＦ、Ｒ^ＤＦ：それぞれ独立に、フッ素原子、塩素原子、ペルフルオロ１価飽和炭化水素基、またはペルフルオロ（部分クロロ１価飽和炭化水素）基であって、Ｒ^ＡＦ、Ｒ^ＢＦ、Ｒ^ＣＦ、およびＲ^ＤＦの１個以上はペルフルオロ（部分クロロ１価飽和炭化水素）基である。
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