【課題】カルボニル基を有する化合物を高い収率で得ることができ、それにより、カルボニル基を有する化合物を得る工程の収率を高め、含フッ素脂肪族環構造とフルオロスルホニル基とを有し、かつ、重合反応性を有する含フッ素化合物の効率的な製造法の提供。
【解決手段】下記反応式で表される含フッ素化合物の製造。
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【課題】本発明は、ガラス板の破損発生率を低減できるガラス板研磨装置の監視方法及び監視システムを提供する。
【解決手段】実施の形態の監視システムは、吸着シート２２に対するガラス板Ｇの異常吸着形態を常時監視し、異常と判定した場合には、そのガラス板Ｇの研磨を実施せず、研磨部１８を停止したり、アラーム５８から警告音を発生させたりして、オペレータに異常を知らしめる。実施の形態の監視システムは、グリセリン塗布部１２、板吸着部１４、研磨部１８を有する通常設備のガラス板研磨装置１０において、板吸着部１４と研磨部１８との間に、撮像部１６を有する判定部２０を備える。撮像部１６は、板吸着部１４から研磨部１８に移動する吸着シート２２をライト３８によって照明し、その反射光をカメラ４０によって撮像する。そして、判定部２０は、カメラ４０で撮像された画像に基づき、吸着シート２２にガラス板Ｇが正常に吸着されたか否かを判定する。 （もっと読む）

【課題】端面研磨工程における加工精度、生産性を高め、取り扱いが容易であり、さらに、ガラス基板積層体を解体することなく、外周端面研磨、内周端面研磨を行うことが可能なガラス基板積層治具を提供することを目的とする。
【解決手段】中心部に円孔を有する円盤形状の磁気記録媒体用ガラス基板を積層したガラス基板積層体の外周端面研磨及び／又は内周端面研磨に用いるガラス基板積層治具であって、前記磁気記録媒体用ガラス基板の円孔に挿入され、前記ガラス基板積層体の内周端面を支持し、前記磁気記録媒体用ガラス基板の位置合わせをするシャフトを有しており、前記シャフトは、シャフトの両端にクランプボルトを嵌合可能なクランプボルト嵌合部と、シャフトの周囲にガラス基板積層体を支持する軸止部と、を備えることを特徴とするガラス基板積層治具及びそれを用いた磁気記録媒体用ガラス基板の端面研磨方法、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】長期に渡って安定した良好な画像が提供可能なトナーを得るためのトナー用添加剤組成物を提供する。また、該トナー用添加剤組成物を用いた、長期に渡って安定した良好な画像が提供可能なトナーおよび現像剤を提供する。
【解決手段】エチレンに基づく繰り返し単位とテトラフルオロエチレンに基づく繰り返し単位とを有する含フッ素共重合体の微粒子を分散質とし、前記含フッ素共重合体の融点以下の温度で該含フッ素共重合体を溶解しうる溶媒を分散媒とするフッ素樹脂オルガノゾルを主として含有するトナー用添加剤組成物およびトナー母粒子と、前記トナー母粒子に外添された上記トナー用添加剤組成物由来の含フッ素共重合体の微粒子とを含むことを特徴とするトナーならびに該トナーとキャリアとを含有することを特徴とする現像剤。 （もっと読む）

【課題】 大量スケールであっても安定且つ収率良く、テトラフルオロエチレン及びクロロトリフルオロエチレンの製造方法を提供する。
【解決手段】 フロン２１（ＣＨＣｌ_２Ｆ）及びフロン２２（ＣＨＣｌＦ_２）を主成分として含む原料ガスを、スチームと接触させることにより加熱し、反応させて、テトラフルオロエチレン及びクロロトリフルオロエチレンを製造する方法であって、下記工程（ａ）〜（ｃ）の工程を有し、
（ａ）前記フロン２１と前記フロン２２とを、前記フロン２１と前記フロン２２とのモル比２／９８〜８０／２０の割合で含む原料ガスを原料ガスの曇点超かつ４００℃以下に加熱して供給する原料ガス供給工程、
（ｂ）８００℃〜１１００℃に加熱したスチームを供給するスチーム供給工程、
（ｃ）前記原料ガスを前記スチームと接触させることにより加熱し、反応させて、テトラフルオロエチレン及びクロロトリフルオロエチレンを得る反応工程、かつ前記工程（ｃ）における前記原料ガスと前記スチームとの接触量が、前記原料ガスと前記スチームとのモル比で３０／７０〜２／９８であることを特徴とするテトラフルオロエチレン及びクロロトリフルオロエチレンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】より低エネルギーで行われ、かつ、加工精度や加工品質にもより優れた、膜加工方法を提供する。
【解決手段】第１主面と当該第１主面に対向する第２主面とを有するガラス基板の前記第１主面上に形成された膜の除去予定部位にレーザ光を照射し、除去部を形成する膜加工方法であって、前記除去予定部位の側面部分を、ピコ秒レーザ光またはフェムト秒レーザ光の照射によって除去する第１工程と、前記第１工程によって側面部分が除去された前記除去予定部位を、ナノ秒レーザ光の照射によって除去し、前記除去部を形成する第２工程と、を備える膜加工方法。 （もっと読む）

【課題】外周端面の外周側面部の表面粗さＲａを複数箇所で測定した場合に、その最大値、標準偏差が所定の範囲内にあり、主平面研磨を行った場合に平行度に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を提供することを目的とする。
【解決手段】磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記磁気記録媒体用ガラス基板の外周端面において、中心角で１５度間隔に設けた計２４の外周端面測定箇所で表面粗さＲａを測定したとき、前記外周端面の外周側面部の表面粗さＲａの最大値が０．５μｍ以下であり、前記外周側面部の表面粗さＲａの標準偏差が０．２μｍ以下であることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。 （もっと読む）

【課題】プラスチック光ファイバを用いた光ファイバリボンの難燃化の達成。
【解決手段】複数本のプラスチック光ファイバ心線を平行に配置し、前記複数本の光ファイバ心線の外周に一括被覆を備えたプラスチック光ファイバリボンであって、前記一括被覆が、金属水酸化物および金属酸化物からなる群から選ばれる少なくとも１種の金属化合物と、赤リン、紫外線硬化型リン化合物および窒素含有リン酸塩からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物と、紫外線硬化型樹脂とを含み、前記金属化合物の添加量が前記紫外線硬化型樹脂に対して５重量部以上７０重量部以下である難燃プラスチック光ファイバリボン。 （もっと読む）

【課題】特殊な添加剤を配合することなく、白濁の無い塗膜を形成することができる水性塗料用組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】イソシアネート基と反応する官能基を有する、酸価１０〜３０ｍｇＫＯＨ／ｇの含フッ素共重合体（Ａ）と、下式（１）で表わされる化合物によってブロック化されたブロックポリイソシアネート（Ｂ）と、水と、を含有する水性塗料用組成物。
［式（１）において、Ｒは、炭素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜５のアルコキシ基であり、Ｒ^１は、炭素数１〜５のアルキル基である。］
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【課題】平行度に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を得ることが可能な磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法及び平行度に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。
【解決手段】一対の主平面１１と、外周端面１２と、内周端面１３と、を有する磁気記録媒体用ガラス基板１０の製造方法であって、外周端面は外周側面部１２０と外周面取り部１２１とを有し、両面研磨装置を用いてキャリアに保持された磁気記録媒体用ガラス基板の主平面を研磨する主平面研磨工程を有し、主平面研磨工程で研磨される前の磁気記録媒体用ガラス基板は、外周端面において、磁気記録媒体用ガラス基板の中心角で１５度間隔に設けた計２４の外周端面測定箇所で表面粗さＲａを測定したとき、外周側面部の表面粗さＲａの最大値は０．５μｍ以下、標準偏差は０．２μｍ以下である。 （もっと読む）