旭硝子株式会社により出願された特許

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【課題】レーザを用いて、より迅速にガラス基板を孔明け、溝形成等の加工することが可能な方法を提供する。
【解決手段】レーザを用いてガラス基板を加工する方法であって、(a)ガラス基板を加熱した状態で、前記ガラス基板に対してレーザ加工を行う工程を有する、方法。該ガラス基板の軟化点をTs(℃)とし、該ガラス基板のガラス転移温度をTg(℃)としたとき、Tg以上でTsよりも低い温度でガラス基板を加熱した状態で、前記ガラス基板に対してレーザ加工を行う。 (もっと読む)


【課題】レーザ光で封着材料層を良好に形成しつつ、ガラス基板のクラックの発生等を再現性よく抑制することを可能にした封着材料層付きガラス部材の製造方法を提供する。
【解決手段】コンパクション値が60ppm以下のガラス基板1の表面1aに封着材料ペーストを枠状に塗布した後、レーザ光7を封着材料ペーストの枠状塗布層6に沿って走査しながら照射する。レーザ光7で枠状塗布層6を加熱することによって、封着材料を焼成して封着材料層5を形成する。 (もっと読む)


【課題】品質を劣化させることなく、レーザ光を用いて強化ガラス板を切断する強化ガラス板の切断方法を提供することである。
【解決手段】本発明の一態様における強化ガラス板の切断方法は、圧縮応力が残留する表面層および裏面層と、引張応力が残留する中間層とを有する強化ガラス板を、レーザ光の照射領域を移動させることで切断する強化ガラス板の切断方法において、強化ガラス板を曲率を有するように切断する場合、この曲率を有する箇所を冷却しながら切断する。 (もっと読む)


【課題】レジスト膜への電子線描画時と、EUVL実施時と、の温度差によるマスクパターンの位置変化を抑制できる、EUVL用反射型マスク、および、マスクブランクの製造方法の提供。
【解決手段】ガラス基板1の成膜面にEUV光線を反射する反射層2、および、EUV光線を吸収する吸収層3を少なくともこの順に形成されたEUVリソグラフィ(EUVL)用反射型マスクブランクの製造方法であって、前記ガラス基板として、下記式(1),(2)を満たすTiO2を含有するシリカガラス基板を選択するEUVL用反射型マスクブランクの製造方法。Texp−k1/(dα/dT)≦T0(1)(αpat×Tpat−αexp×Texp+k2)/(αpat−αexp)≦T0≦(αpat×Tpat−αexp×Texp−k2)/(αpat−αexp)(2) (もっと読む)


【課題】コアにクラック等の不具合のない高品質な光導波路が安定して得られる光導波路の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】フレキシブルな基材30上にアンダークラッド層22を形成する工程と、架橋性官能基を有する含フッ素ポリアリーレンプレポリマーおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを含む樹脂組成物を、アンダークラッド層22上に塗布し、プリベークを行って、アンダークラッド層22上にコア前駆体層12を形成した積層体33を得る工程と、コア前駆体層12を露光、現像してパターニングし、コア10を形成する工程と、アンダークラッド層22およびコア10上にオーバークラッド層24を形成する工程とを有し、コア前駆体層12の乾燥固形分の質量に対する、プリベーク後のコア前駆体層12に含まれる溶媒の質量の割合Xを0.14〜0.48とする光導波路の製造方法。 (もっと読む)


【課題】内部に各種機能部材が収容された複層ガラスであって、曲面状の設置箇所に適用することが可能な複層ガラスを提供する。
【解決手段】第1および第2の板状体110,130を、両者の間に空間層160が形成されるようにして配置することにより構成される複層ガラス100であって、当該複層ガラス100の内部には、機能部材150が収容され、少なくとも前記第1の板状体110は、曲面形状を有し、前記第1の板状体110は、前記第2の板状体110に比べて曲率が小さく、前記機能部材150は、前記第1の板状体110に比べて前記第2の板状体130により近い側、または前記第2の板状体130の内部に設置されることを特徴とする複層ガラス100。 (もっと読む)


【課題】切り出された強化ガラスパネルの寸法不良の抑制。
【解決手段】圧縮応力が残留する表面層及び裏面層と、その間に形成され引張応力が残留する中間層とを有する強化ガラス板を、照射されるレーザ光の照射領域を移動させることで切断する強化ガラス板の切断方法。レーザ光に対する強化ガラス板の吸収係数をα(cm−1)、強化ガラス板の厚さをt(cm)として、0<α×t≦3.0の式を満たす。強化ガラス板のレーザ光の照射領域に、レーザ光の入射側から気体を吹き付けて冷却し、強化ガラス板が載置されるガラス保持部の外縁から当該外縁の外側に位置する強化ガラス板の切断線までのギャップを所定の正の値以下とする。 (もっと読む)


【課題】先端から離れた位置に燃焼炎を生成できるバーナーとそれを備えたガラス溶融炉、燃焼炎の生成方法を提供する。
【解決手段】燃料ガス用噴射管11と、不燃性ガス用噴射管12と、燃焼ガス用噴射管13とが、各管の管軸を略同一方向に揃えて複合され、複合された噴射管の中央側に配置した燃料ガス用噴射管11あるいは燃焼ガス用噴射管13の外側に、燃料ガス用噴射管11あるいは燃焼ガス用噴射管13を囲むように不燃性ガス用噴射管12が配置され、不燃性ガス用噴射管12の外側に該不燃性ガス用噴射管12を囲むように燃焼ガス用噴射管13あるいは燃料ガス用噴射管11が配置され、不燃性ガス用噴射管12の先端部に該先端部からの不燃性ガスの噴射方向を噴射方向に沿って内側よりまたは外側よりに、燃料ガスあるいは燃焼ガスの噴射方向と交わるように変更するガス流発生部材12Cが設けられたバーナー10である。 (もっと読む)


【課題】光学異方性を有するとともに、耐熱性、耐光性等を有することで信頼性に優れた光学異方性膜を提供する。
【解決手段】架橋性官能基を有する液晶性高分子化合物を含む液晶性組成物を用いて形成された液晶性組成物層を、前記液晶性高分子化合物が配向した状態で前記架橋性官能基が完全に架橋するように処理して得られる光学異方性膜であって、前記光学異方性膜中の架橋点の密度が4×10−4〜1×10−2個/gである光学異方性膜。 (もっと読む)


【課題】シール材の剥離や基板の損傷が抑制された電子デバイス用部材を製造する。
【解決手段】電子デバイス用部材の製造方法は、積層工程、硬化工程、および剥離工程を有する。積層工程は、一対の積層体を、第1のシール材、および第2のシール材を介して減圧下にて積層する。一対の積層体は、電子デバイスが形成される1以上の素子形成領域を有する基板と該基板に剥離可能に貼り合わされた補強板とを有する。第1のシール材は、素子形成領域の周囲に配置される。第2のシール材は、第1のシール材の集合領域の外側に配置され枠状形状を有する。硬化工程は、第1のシール材および第2のシール材を硬化させる。剥離工程は、基板から補強板を剥離する。 (もっと読む)


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