説明

宇部興産株式会社により出願された特許

1,081 - 1,090 / 2,022


【課題】常温で固体の有機金属化合物をキャリアガスに随伴させて供給する供給装置において、有機金属化合物を長時間にわたって安定して供給する。
【解決手段】 供給装置は、カラム型の2つの容器1a、1bと、容器1a、1bの内部をその下端で連絡する連通管5とを有する。容器1aの上部にはガス導入管2が設けられており、容器1bの上部にはガス導出管3が設けられている。容器1aの内部には、有機金属化合物10、およびガス導入管2から導入されたキャリアガスを分散させる分散材11が、容器1aの底部からこの順番に充填されている。もう一方の容器1bには、有機金属化合物10が充填されている。 (もっと読む)


【課題】 赤リンを難燃剤として使用し、ゴム物性の高硬度で高反発性を有し、優れた押出加工性を損なうことなく、かつ有毒ガスの発生の抑制、低発煙性さらに難燃性を付与した難燃性ベルト用ゴム組成物に関する。
【解決手段】 結晶繊維の繊維長の平均が200nm以下であり、アスペクト比の平均が10以下、及び繊維長200nm以下の結晶繊維数が25μm当たり90以上であり、かつ融点が170℃以上である特定のシンジオタクチック−1,2−ポリブタジエン結晶繊維(b)1〜30質量%、及びシス−ポリブタジエンゴム(a)99〜70質量%のビニル・シス−ポリブタジエンゴム(A)と、(A)以外のジエン系ゴム(B)からなるゴム成分(A)+(B)100質量部に対しゴム補強剤(C)20〜70質量部、ノンハロゲン系難燃剤(D)2〜50質量部を配合してなるゴム成分であることを特徴とする難燃性ベルト用ゴム組成物。 (もっと読む)


【課題】補強性の高いシンジオタクチック−1,2−ポリブタジエンをブタジエンゴムに微分散させることによって、補強力を向上させ、従来から用いられている補強剤の配合量を減量し、ヒステリシスの低減とゴムの破断伸びを向上したベーストレッド用ゴム組成物を提供する。
【解決手段】平均1次粒子径が20〜100nmであるシンジオタクチック−1,2−ポリブタジエンが分散されたブタジエンゴムをゴム成分中に30〜70重量%含むゴム成分100重量部に対して、チッ素吸着比表面積が35〜85m2/gのカーボンブラックを25〜45重量部含有するベーストレッド用ゴム組成物に関である。 (もっと読む)


【課題】特別な装置を必要とせず極めて簡便に製造することができ、且つ、各中空糸膜の間及び中空糸束とケースの間にポッティング剤を均一に注入できる中空糸膜モジュールの製造方法を提供する。
【解決手段】中空糸膜モジュールの製造において、中空糸束2が収納された筒状ケース3′の端部に、ポッティング剤4が入った袋5の開口部を取り付ける。次いで、袋5に外側から力を加えて内部の前記ポッティング剤4を筒状ケース内へと移動させ、ポッティング剤を硬化させる。これにより、中空糸膜1間、及び、中空糸束2と筒状ケース3′とが固着した状態で、中空糸束2がポッティング剤4により固着された部分を切断して、各中空糸膜1を開口状態にする。 (もっと読む)


【課題】 高い光電変換効率を有する光電変換素子、及び光化学電池を提供する。
【解決手段】 本発明の光電変換素子は、一般式:(L(BL)M(L(X)で示される非対称な二核金属錯体色素(但し、M及びMは、遷移金属であって、同一でも異なっていてもよく、L及びLは、多座配位可能なキレート型配位子であって、LとLは異なるものであり、二つのLは異なるものであってもよく、二つのLも異なるものであってもよく、Xは対イオンであり、nは錯体の電荷を中和するのに必要な対イオンの数を表し、BLはヘテロ原子を含む環状構造を少なくとも二つ有する架橋配位子であって、M及びMに配位する配位原子がこの環状構造に含まれるヘテロ原子である。)と、ステロイド骨格を有し、カルボキシル基を持つステロイド系化合物と、半導体微粒子を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】酸化ルテニウムの混入がない、化学気相蒸着法による金属ルテニウム含有薄膜の製造法を提供する。
【解決手段】一般式(1)


(式中、X及びYは直鎖又は分枝状の炭素原子数1〜6のアルキル基、Zは、水素原子又は炭素原子数1〜4のアルキル基を示す。Lは、1,4-ヘキサジエン、1,3-ヘキサジエン、2,4-ヘキサジエン、3-メチル-1,3-ペンタジエン、2-メチル-1,4-ペンタジエンのいずれかを示す。)で示されるβ-ジケトナトとジエンとを配位子とする有機Ru錯体又はその溶媒溶液を供給源として用いる。 (もっと読む)


【課題】 赤リンを難燃剤として使用し、ゴム物性の高硬度で高反発性を有し、優れた押出加工性を損なうことなく、かつ有毒ガスの発生の抑制、低発煙性さらに難燃性を付与した難燃性ゴム組成物とその製造方法を提供する。
【解決手段】 結晶繊維の繊維長の平均が200nm以下であり、アスペクト比の平均が10以下、及び繊維長200nm以下の結晶繊維数が25μm当たり90以上であり、かつ融点が170℃以上である特定のシンジオタクチック−1,2−ポリブタジエン結晶繊維(b)1〜30質量%、シス−ポリブタジエンゴム(a)99〜70質量のビニル・シス−ポリブタジエンゴム(A)90〜5重量%と、(A)以外のジエン系ゴム(B)10〜95重量%とからなるゴム成分(A)+(B)100重量部に対しノンハロゲン系難燃剤(C)2〜50質量部を配合してなるゴム成分であることを特徴とする難燃性ゴム組成物。 (もっと読む)


【課題】 簡便な方法よる高純度トリアルキルガリウム及びその方法の提供。
【解決手段】 炭化水素の含有量が4質量ppm未満の高純度トリメチルガリウム。 一般式(1)


(式中、Rは、炭素原子数1〜6のアルキル基を示す。)で示されるトリアルキルアルミニウムと一般式(2)


(式中、Xは、ハロゲン原子を示す。)で示されるトリハロゲノガリウムとを混合して反応、還流比を10〜25として初留分を除去し、その後、還流比を6〜15として主留分として、一般式(3)


(式中、Rは、前記と同義である。)で示されるトリアルキルガリウムを得る。 (もっと読む)


【課題】外層絶縁層上に電解めっきによる導体層を、作業性よく、均一にかつ傷等の不良を生じることなく形成できるようにした多層配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】内層回路基板10の少なくとも片面に外層絶縁層30を積層する際に、内層回路基板の端部を外層絶縁層の端縁よりも外側に延出させ、この延出された端部に露出導体部20を形成しておき、外層基板55’に内層回路基板の導体配線回路パターンに至る1個以上のビア47を形成し、ビアの内面に前記内層回路基板の導体配線回路パターンに接続する導通層52を形成するとともに、露出導体部または露出導体部に電気的に接続された導体配線と外層基板表面とを接続する給電用導通層52Aを形成し、前記内層回路基板の露出導体部より給電し該給電用導通層を通して通電することにより、前記ビア内面及び前記外層基板の表面に電解めっきを施す。 (もっと読む)


【課題】耐熱性や物理的特性に優れることで知られている3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸成分とp−フェニレンジアミンとから製造される芳香族ポリイミドフィルムと同等の耐熱性と物理的特性を有する芳香族ポリイミドフィルムであって、その製造が工業的に有利な条件で実現する芳香族ポリイミドフィルムを提供する。
【解決手段】3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸単位と2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸単位を75:25乃至97:3の範囲のモル比にて含むビフェニルテトラカルボン酸単位とp−フェニレンジアミン単位とを100:102乃至100:98の範囲のモル比にて含む芳香族ポリイミドからなる厚さが5〜250μmの範囲の芳香族ポリイミドフィルム。 (もっと読む)


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