【課題】 複数のチャンネル構造が存在し、電気浸透流が安定的に制御されるべきマイクロチップ、特にDGGE用マイクロチップのチャンネル内壁のコーティング方法等を提供する。
【手段】 本発明は、少なくとも２つのマイクロチャンネルを用いて生体分子を分離する電気泳動用マイクロチップにおいて、前記少なくとも２つのマイクロチャンネルの内壁にコーティングを施す方法であって、電気泳動が行われる前に、前記少なくとも２つのマイクロチャンネルの内壁を少なくとも１種のポリマーで均一にコーティングする工程を含むことを特徴とするコーティング方法に関する。 （もっと読む）

【課題】 部品の摩耗が極めて少なく、また軸封装置への水の供給が不要である安価なポンプを提供する。
【解決手段】 ポンプ１０は、モータに連結された回転軸１６と、回転軸１６に取り付けられた羽根車１３と、羽根車１３を収容したケーシング１１，１２，１４と、羽根車１３の回転により昇圧された液体がケーシング１４の外部に流れ出すことを防止する減圧羽根車１８と、軸封装置２０とを備えている。軸封装置２０は、回転軸１６とケーシング１４との間をシールするシール機構３０と、回転軸１６の回転による遠心力の作用によりシール機構３０によるシールを解除するシール解除機構４０とを有している。 （もっと読む）

【課題】研磨中の被研磨基板の被研磨面の膜状態を精度良く、且つ安定して観測できる基板膜厚モニター装置を有する基板研磨装置を提供すること。
【解決手段】研磨材１２に設けた貫通孔４１を通し、照射光用光ファイバ４３により被研磨基板２１の研磨面に光を照射し、反射された反射光を反射光用光ファイバ４４により受光する光学系と、受光した反射光を分析処理する分析処理手段を備え、被研磨基板２１の薄膜の研磨進行状況を監視する基板膜厚モニター装置を有する基板研磨装置であって、貫通孔４１に透明液Ｑを供給する給液孔４２を定盤１０に設け、該給液孔４２は透明液Ｑが被研磨基板２１の被研磨面２１ａに対し略垂直に進み、且つ貫通孔４１を満たすよう配置形成され、各光ファイバ４３、４４は略垂直に進む流れ部分の透明液Ｑを通るよう配置され、貫通孔４１に連通した流体流路に透明液Ｑを制御する電磁弁を設けた。 （もっと読む）

【課題】 メタン発酵槽内のスカムを簡易に効果的に排出することができる横型多段メタン発酵槽を用いるメタン発酵方法と装置を提供する。
【解決手段】
溢流板１８と、下部が槽の底板との間に空隙を有し上部が水面上にある迂流板１７とを交互に配置して、被処理水を流入口から流下方向に上下に迂流を形成しながら発酵処理して、処理水を流出口１２から排出する横型多段メタン発酵槽１４を用いるメタン発酵方法において、間欠的に該流出口１２を閉めることにより、前記メタン発酵槽内液の水位を前記迂流板１７の頂部よりも上昇せしめたのち、該流出口１２を開けて発酵槽内上部のスカム１５を排出することとしたものであり、前記流入口と流出口を、前記メタン発酵槽の両端部にそれぞれ配備し、該両端部の流入口から交互に被処理水を注入し、対向端の流出口から交互に処理水を排出することができる。 （もっと読む）

【課題】試料の検査を行う電子線装置用のフォーカスマップを作成する際にチャージアップを回避する。
【解決手段】オートフォーカス（ＡＦ）制御装置２は、ＰＣ装置１の制御の下で、試料Ｗの表面のフォーカス計測点毎に、光学顕微鏡３からコントラスト信号を取得しつつ光学顕微鏡３のフォーカスレンズ３２を移動させるアクチュエータ３８を移動制御することにより、試料Ｗの表面に自動的に合焦させ、試料表面の光学軸方向の位置（高さ）に対応している光学顕微鏡のフォーカス値を検出する。ＰＣ装置１は、検出されたフォーカス値を受け取り、該フォーカス値を、実際の試料検査時に電子線装置１００の静電レンズへ印加すべき電圧に変換し記憶する。 （もっと読む）

【課題】２台以上の排熱発生機器と１台以上の排熱利用機器とを排熱搬送経路で接続した排熱利用システムにおいて、排熱発生機器の主機能に支障を来たすことなく排熱発生機器からの排熱を効率よく取得し、排熱利用機器に供給できる排熱利用システム及びその運転方法を提供する。
【解決手段】複数の排熱発生機器からなる排熱発生機器群１と、複数の排熱利用機器からなる排熱利用機器群２と、排熱発生機器群１と排熱利用機器群２を接続する排熱搬送経路３と、制御装置を備えた排熱利用システムであって、制御装置により排熱発生機器の主機能に支障を来たすことなく排熱発生機器からの排熱を効率よく取得し、排熱利用機器に供給できるように、排熱発生機器の排熱取得台数、排熱取得開始順序等を制御する。 （もっと読む）

【課題】 海水のような腐食性溶液を揚水するポンプの呼び水に使用した場合にも、キャビテーションによる騒音の発生や耐久性の低下が生じず、高い吸気能力を維持することができるコンパクトな真空発生装置を提供する。
【解決手段】 真空発生装置１は、循環液を加圧する循環ポンプ２と、循環ポンプ２により加圧された循環液を駆動源として吸気口から気体を吸い込んで気泡混合液を吐出する水エジェクタ３と、サイクロン型エアセパレータ４とを備えている。サイクロン型エアセパレータ４は、気泡混合液を容器４３内に導入する導入口４４と、旋回流Ｆにより該気泡混合液から分離された気体を排出する排気管５０と、気体が分離された循環液を排出する排液口４５とを備えている。また、真空発生装置１は、水エジェクタ３とサイクロン型エアセパレータ４とを連通する配管５と、サイクロン型エアセパレータ４と循環ポンプ２とを連通する配管６とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 アオコのような藻類を低コストで確実に除去して品質の良い上水を提供することができる浄水システムを提供する。
【解決手段】 この浄水システムは、水源Ｓから取水した原水を浄水設備１において清浄化する浄水システムにおいて、浄水設備より上流側において藻類の発生またはこれを示す所定の指標値を検知する藻類検出装置１０２と、この藻類検出手段１０２の検出結果に基づいて藻類の不活化処理の要否を定める判断手段１００と、判断手段の判断結果に応じて浄水設備１において藻類の不活化処理を行う藻類処理装置４とを有する。 （もっと読む）

【課題】 半導体チップの基板への実装を、工程及び材料の大幅な削減を図りつつ、確実に行うことができ、しかも鉛入りはんだを用いることなく、チップ側電極と基板側電極を接合できるようにする。
【解決手段】 接続端子１０ａの表面に、レジスト４０をマスクとして無電解めっきでチップ側電極４２を選択的に形成した半導体チップ４８を、該半導体チップ４８と基板５０との間にレジスト４０を介在させつつ、チップ側電極４２と基板５０に設けられた基板側電極５２とを互いに接合させて、基板５０に実装した。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハのノッチとベベルの研磨を一つの装置内で効率よく行うことのできる半導体ウエハ周縁研磨装置及び方法を提供する。
【解決手段】本発明の装置１０は、半導体ウエハＷを保持するためのウエハステージ２３を有するウエハステージユニット２０、ウエハステージユニット２０を、ウエハステージ２３の表面と平行な方向に移動させるためのステージ移動手段３０、３２、ウエハステージ２３に保持した半導体ウエハＷのノッチを研磨するノッチ研磨部４０、及びウエハステージ２３に保持した半導体ウエハＷのベベルを研磨するベベル研磨部５０から構成される。ハウジング１１内に搬入された半導体ウエハＷをウエハステージ２３に載置し、またウエハステージ２３に保持した半導体ウエハＷをウエハステージ２３から取り上げるためのウエハチャック手段８０からさらに構成される。 （もっと読む）