本発明は、基板の周縁部に生じた表面荒れや、基板の周縁部に形成された膜を除去する研磨装置に関する。研磨装置は、研磨室（２）を形成するハウジング（３）と、基板Ｗを保持して回転させる回転テーブル（１）と、研磨室（２）内に研磨テープ（５）を繰り出し、研磨室（２）に繰り出された研磨テープ（５）を巻き取る研磨テープ繰り出し巻き取り機構（６）と、基板（Ｗ）のベベル部に対して研磨テープ（５）を押圧する研磨ヘッド（３５）と、基板（Ｗ）の表裏面に液体を供給する液体供給部（５０）と、研磨室（２）の内部の気圧を研磨室（２）の外部の気圧よりも低くするための調整機構（１６）とを備える。

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基板処理装置は、基板保持機構（１４）の回転速度に応じて変化する保持力で基板（Ｗ）を保持する基板保持機構（１４）と、基板保持機構（１４）を回転させて基板保持機構（１４）により保持された基板（Ｗ）を回転させる基板回転機構（２２）と、基板保持機構（１４）により保持された基板（Ｗ）の任意の位置に処理液を供給する処理液供給機構（１２，１５，１９）とを備えている。
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炭化水素系原料処理システムは、炭化水素系原料の処理のための化石燃料の消費量、環境負荷、およびコストを低減することができる。炭化水素系原料処理システムは、廃棄物（５１）、廃プラスチック（５２）、パイロシリスタール（５３）、炭化水素系重質残渣油（５４）、およびバイオマス（５５）等の有機物を熱分解ガス化し熱源用ガスを生成するガス化炉（１０）を備える。また、炭化水素系原料処理システムは、ガス化炉（１０）で得られた熱源用ガスを用いて炭化水素系原料を熱分解する分解炉（１０１）を備える。
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複合型ナノ粒子は、金属核から有機物を脱離させて、金属核を均一に焼結させる温度を大幅に低減させて、はんだによる接合の代替として応用できるようにする。複合型ナノ粒子（１０）は、中心部が金属成分（１２）からなり、該金属成分の周りを物理吸着的に結合した有機物（１４）で取囲んだ構造を有しており、無機金属塩と有機物質とを共存させ、無機金属塩が分解して金属ナノ粒子が生成され、金属ナノ粒子と有機物が反応を起して有機金属化合物が生成されることなく、金属ナノ粒子の周りに有機物が物理吸着的に結合されるように金属塩と有機物質を所定の温度に加熱し一定時間保持することによって生成される。 （もっと読む）

拡散バリヤ用合金皮膜は、Ｒｅ−Ｃｒ合金皮膜よりも優れた拡散バリヤ特性を持ち、より高温（１１５０℃以上）での使用にも耐え得る拡散バリヤ層を有する。拡散バリヤ層１８は、原子組成でＷを１２．５〜５６．５％含み、不可避的な不純物を除いて、残りをＲｅとしたＲｅ−Ｗ系σ相からなる。金属基材１０の表面に拡散バリヤ層１８をコーティングし、更に、必要に応じて、拡散バリヤ層１８の表面に、原子組成で１０％以上５０％未満のＡｌ，ＣｒまたはＳｉを含む拡散浸透用合金層２０をコーティングすることで高温装置部材が構成される。 （もっと読む）

カソード（１）から射出した照射ビーム（４）は、偏向器（３）に入射する。偏向器（３）に電圧が印加された状態では、照射ビーム（４）は、偏向器（３）によって、その光路が変更された後、共通電子光学系（７）を通過して、試料（６）を面照明する。偏向器（３）に電圧が印加されない場合は、照射ビーム（４）は、偏向器（３）を直進して通り抜け、電子吸収板（１７）に吸収される。共通電子光学系（７）を通る際に、照射ビーム（４）は減速され、試料（６）の表面に達した時点ではそのエネルギーは０［ｅＶ］近くになっている。試料（６）に照射ビーム（４）が入射すると試料（６）からは、反射電子（８）が発生する。この反射電子（８）は、共通電子光学系（７）を通って、偏向器（３）に電圧が印加されていなりとき、結像電子光学系（９）を通して、ＭＣＰ検出器（１０）上に投影される。 （もっと読む）

有機性廃水の生物学的処理システムの中で、有機物、リン及び窒素を含有する廃水から、リン等をＭＡＰ結晶として効率良く回収するとともに、生物学的脱窒・脱リン法の処理性能を大幅に改善する方法及び装置を提供する。
本発明は、微生物代謝を利用した有機性廃水の生物学的処理工程で発生する汚泥を処理する方法であって、該汚泥に、通性嫌気性菌による酸発酵を主体とする生物学的処理を行って汚泥からリン酸イオンとアンモニアイオンを溶出させると共に、該汚泥にマグネシウム源を添加することにより、溶出したリン酸イオン及びアンモニウムイオンよりリン酸マグネシウムアンモニウム粒子を生成させ、生成したリン酸マグネシウムアンモニウム粒子を含む汚泥からリン酸マグネシウムアンモニウム粒子を分離することを特徴とする汚泥の処理方法及び該方法を実施するための装置に関する。 （もっと読む）

本発明は、液体を用いたマイクロチップ装置に関する。より詳しくは本発明は、液体を導入するための少なくとも２つの液体導入用マイクロチャンネル、および該少なくとも２つの液体導入用マイクロチャンネルが接続している混合用マイクロチャンネルを含んでなり、各液体導入用マイクロチャンネルから導入された各液体が前記混合用マイクロチャンネル内で合流する液体混合装置であって、前記混合用マイクロチャンネル内で合流する液体間の混合を促進するための混合促進手段を有する液体混合装置を提供する。また本発明は、変性剤濃度勾配ゲル電気泳動法のための電気泳動装置およびマイクロチップ電気泳動装置を提供する。 （もっと読む）

汚水を高度に処理した処理水が流入する処理水槽で、ユスリカ等の微小後生動物の発生を、殺虫剤を使用せずに抑止することができる水処理方法と装置を提供する。
汚水を高度処理した殺菌後の処理水が流入する処理水槽で、処理水中に発生する微小後生動物類を除去する水処理装置において、前記処理水槽には、処理水中の微小後生動物類を捕食する魚類が継続的に生存可能な密度で放養されており、該魚類に光を供給する採光用の窓及び／又は照明設備が配備されていることとしたものであり、前記水処理装置には、前記処理水槽から流出する処理水をろ過するろ過装置が配備されているのがよい。 （もっと読む）

本発明は、半導体ウェハなどの基板の表面に微細な回路パターンを形成するリソグラフィ工程に好適に使用される処理液塗布装置及び処理液塗布方法に利用可能である。本発明の処理液塗布装置は、ウェハ（Ｗ）を保持して回転させる基板保持部（１）と、基板保持部（１）に保持されたウェハ（Ｗ）に離間して配置される処理液供給部２とを備える。処理液供給部（２）は、ウェハ（Ｗ）の表面の中心部（Ｃ）を含む複数の部位に処理液を供給する複数の供給口（５，６）を有する。レジスト液又は現像液が処理液として用いられる。
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