株式会社荏原製作所により出願された特許

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【課題】試料のチャージアップを考慮して試料表面電圧を制御することにより、精度の良い試料表面検査方法と装置を提供する。
【解決手段】電子銃1から出た一次電子をウエハWに照射して得られる二次電子B2を、二次光学系3によって検出器41上に写像投影する際に、一次電子の照射量に応じてウエハWの電圧やリターディング電圧を変化させる。又、パターン検査時には、検出器41の動作周波数に同期してステージを動かし、試料上の別のパターンに移動する際にはステージの速度を加速する。 (もっと読む)


【課題】研磨中における研磨テープのテンション(張力)をほぼ一定として安定した研磨性能を実現することができ、かつ研磨速度を上げることができる研磨装置を提供する。
【解決手段】本発明の研磨装置は、研磨テープ41を研磨対象物に接触させる研磨ヘッド42と、研磨ヘッド42を所定の点を中心として揺動運動させる揺動機構とを備える。揺動機構は、研磨ヘッド42が固定される揺動アーム60と、支持アーム62と、揺動アーム60を回転自在に支持アーム62に連結する連結軸67と、揺動アーム60を連結軸67を中心として揺動運動させる駆動機構M1とを有する。研磨ヘッド42の揺動運動の中心点は、連結軸67の中心線上にある。 (もっと読む)


【課題】稼働停止時における電力等のユーティリティを低減する。
【解決手段】CMP装置1の回転定盤17に取り付けた研磨パッド16とトップリング18との間に半導体ウエハWを保持して相対回転させてウエハWを研磨する。リンス水供給管11にリンス水流量調整弁13を設けて、研磨部2内の研磨パッド16に間欠的に純水を供給して湿潤状態に保つ。洗浄部3には研磨した半導体ウエハWを洗浄用スポンジローラ26,27で挟持して洗浄して搬送する。リンス水供給管12a、12bにリンス水流量調整弁14、14を設けて、洗浄用スポンジローラ26,27に間欠的に純水を供給して湿潤状態に保つ。純水の供給間隔をt分とし、1回毎の純水の供給継続時間をdt秒として、下記の(1)式と(2)式を満足する。
dt=20{1.6−exp(−0.01783t)} ……(1)
10≦t≦30 ……(2) (もっと読む)


【課題】半導体ウェハ等の被めっき体(基板)にめっきを行う場合に、高電流密度の条件であっても平坦な先端形状のバンプを形成したり、良好な面内均一性を有する金属膜を形成したりすることができるようにする。
【解決手段】めっき装置は、めっき槽10内のめっき液Qに浸漬させて配置されるアノード26と、被めっき体Wを保持しアノードと対向する位置に配置するホルダ24と、被めっき体と平行に往復移動してめっき液を攪拌するパドル32と、所定のピッチで垂直方向に延びる複数のスリット部を有する調整板固定用スリット板96と、電場の拡がりを制限するための開口を有する調整板34とを備え、調整板は、その側端部を調整板固定用スリット板の任意のスリット部に挿入することによって該調整板の位置が調整可能にめっき槽に取付けられる。 (もっと読む)


【課題】一つのケーシングと一つの羽根車の組合せによって、最高効率の水量を任意に変更して、好ましい運転水量範囲を任意に選択しつつ構成でき、しかも羽根車をバランスよく回転させて安定した運転ができるようにする。
【解決手段】回転軸46に連結されて回転する羽根車12と、吐出口30bを有し内部に羽根車12を収容するケーシング30と、ケーシング30の開口部を密閉するケーシングカバー34と、所定角度回転させた時に略一致する位置に位置して羽根車側とケーシング側を貫通する一組の通路62a,62b、64a,64bを複数組有し、ケーシング30との間に吐出口30bに連通する案内通路60が形成されるように、ケーシング30内に羽根車12と同心円状に配置されるガイドプレート54と、複数組の通路の内の一組の通路を残して他の通路を羽根車側で閉止する閉止部材70とを有する。 (もっと読む)


【課題】横軸ポンプのポンプ吸込口および吸込管を連結するとともに吸込管を支持するための吸込管ベースを設けることにより、吸込管貫通部にコンクリートを充填することなく横軸ポンプをポンプ設置床に固定することができる横軸ポンプ装置を提供する。
【解決手段】液体を揚水する横軸ポンプ1と、横軸ポンプ1に液体を流す流路を形成する吸込管6とを備えた横軸ポンプ装置において、横軸ポンプ1のポンプ吸込口1sおよび吸込管6を連結するとともに横軸ポンプ1をポンプ設置床111に固定するための吸込管ベース7をポンプ設置床111に形成された吸込管貫通部111hに設け、吸込管ベース7は、横軸ポンプ1のポンプ吸込口1sを連結する上部連結部8aと、吸込管6を連結する下部連結部8bと、横軸ポンプ1をポンプ設置床111に固定するためのベース部9と、ポンプ吸込口1sと吸込管6とを連通させる流路を内部に有する管胴部10とを備えた。 (もっと読む)


【課題】気泡の抜けが比較的よく、広い設置面積を必要としないディップ方式を採用し、しかもアノードとして強磁性体を使用したとしても、磁気異方性の均一性に影響を与えることを極力防止しつつ、基板表面に磁性体膜を形成することができるようにする。
【解決手段】めっき槽302と、めっき時にめっき電源の陽極に接続されるアノード318と、基板を保持してアノードと対向する位置に位置させる基板ホルダ26と、めっき槽の周囲に配置され、基板ホルダで保持してアノードと対峙した位置に位置させた基板の周囲に基板に平行な鉛直方向の磁界を発生させる、筒状の電磁石からなる磁界発生装置306を有し、磁界発生装置は、鉛直方向に配置され、独立した電流を流すことで、鉛直方向に強さの異なる磁界を発生させる複数のコイル332a,332b,332cを有する。 (もっと読む)


【課題】電装機器の冷却効率を高めることができるポンプ施設を提供する。
【解決手段】本発明に係るポンプ施設は、水槽1内の液体を汲み上げるポンプPと、ポンプPを駆動する電動機Mおよび内燃機関Eと、電動機Mの回転速度を制御する回転速度制御装置3を含む電装機器7と、ポンプP、電動機M、内燃機関E、および電装機器7の一部を収容するポンプ室9と、電装機器7の他の部分を収容する電気室8と、ポンプ室9を換気する換気設備40と、電気室8を換気する換気設備10とを備える。 (もっと読む)


【課題】小水量管理運転を用いた際の管理運転水量を通常排水量に近づけることで、より信頼性の高い管理運転が可能となるポンプ設備を提供すること。
【解決手段】吸込水槽(10)内の液体を揚水する複数台のポンプ(30−5,30−5)と、各ポンプの吐出側に設けた吐出弁(47−5,47−5)とを有するポンプ設備(1−5)において、複数台のポンプ(30−5,30−5)の吐出弁(47−5,47−5)の上流側同士をバイパス管(51−5)で連通するとともにバイパス管にバイパス弁(59−5)を設け、管理運転時にはバイパス管で連通した各ポンプの吐出弁を閉とし、バイパス弁を開とすることで何れかのポンプで揚水した液体をバイパス管を通して別のポンプから吸込水槽内に戻す。これにより通常運転に近い水量での管理運転が可能になり、信頼性の高い管理運転が可能となる。 (もっと読む)


【課題】EFMにより測定された表面電位の二次元的な分布から研磨圧力の分布を取得する方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る方法は、化学機械研磨の研磨圧力分布を取得する方法である。この方法は、研磨装置により研磨された被研磨物の表面電位を電気力顕微鏡により測定して表面電位像を取得し、表面電位と研磨圧力との関係を示すデータに基づき、前記表面電位を研磨圧力に変換する工程を含む。 (もっと読む)


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