【課題】回転翼と固定翼の隙間を小さくして排気性能を向上させることができ、回転軸の温度及び熱膨張量を正確に推定することを可能にし、また回転翼と固定翼とが接触する前に警報を発する、あるいは運転を停止させることができるターボ型真空ポンプを提供する。
【解決手段】回転軸５４を磁気浮上させる少なくとも一対のアキシャル磁気軸受５９，と、回転軸に取付けられた回転翼５２と、回転翼と対向するように配置された固定翼５３と、回転軸を回転駆動するモータ５５とを備えたターボ型真空ポンプにおいて、回転軸の一方の端部近傍に回転翼と固定翼とを配置することにより排気部９０を構成するとともに、回転軸の軸方向の位置を検出する第１のアキシャル変位センサ５９とアキシャル磁気軸受５８とを回転軸の他方の端部近傍に配置することにより運動制御部９１を構成し、排気部の近傍に回転軸の軸方向位置を検出する第２のアキシャル変位センサ６０を配置した。 （もっと読む）

【課題】積層された複数の層を有する被研磨物の研磨終点を正確に検出することができる研磨終点検出方法、研磨終点検出装置、および該研磨終点検出装置を備えた研磨装置を提供する。
【解決手段】研磨中に、第１の光および第２の光をそれぞれ第１の入射角および第２の入射角で被研磨物の被研磨面に照射し、被研磨面で反射した第１の光および第２の光を偏光フィルター４７を通じて受光し、受光した第１の光から被研磨面の明度および彩度を分析し、同時に、受光した第２の光から被研磨面の明度および彩度を分析し、被研磨面の明度および彩度の変化に基づいて、上層が除去されたことを検出する。 （もっと読む）

【課題】横軸ポンプの始動に要する時間を短縮することで、横軸ポンプによる排水運転を迅速に開始でき、信頼性、安全性、経済性を高めることができるポンプ設備の提供。
【解決手段】少なくとも１台の横軸ポンプ１０を有するポンプ設備１であって、横軸ポンプ１０を始動する際に該横軸ポンプ１０のケーシング１１内を水で満たす満水操作を行う水封式真空ポンプ２０を複数台備えるとともに、該複数台の水封式真空ポンプ２０のそれぞれに補給水を給水する給水ポンプ２４を設け、１台あるいは複数台の横軸ポンプ１０の満水操作を行う際、水封式真空ポンプ２０を複数台同時に運転するようにした。 （もっと読む）

【解決課題】フッ素成分等の腐食性成分を含む電極液中でも腐食を伴うことなく、長期間安定した運転を可能とする不溶性電極及び電気化学的液体処理装置を提供する。
【解決手段】不溶性電極は、チタン、ニオブ、タンタル又はこれらの任意の合金を含む基体ａと；基体ａの少なくとも一側面上に形成されている金又は金合金からなる第一中間層ｂと；第一中間層ｂに積層して形成されている白金又は白金合金からなる第二中間層ｃと；第二中間層ｃに積層して形成されている酸化イリジウム、酸化ルテニウム、酸化白金又はこれらの任意の組み合わせを含む金属酸化物皮膜層ｄと；を具備する。 （もっと読む）

【課題】試料全体にわたりチャージアップのない状態で試料表面の観察及び評価を可能にした荷電粒子線装置及び該装置を使用した半導体デバイス製造方法を提供すること。
【解決手段】 荷電粒子線装置は、一次荷電粒子線を試料１９に向けて照射する手段１、２、３と、一次荷電粒子線の試料１９へ向けた照射によって試料１９の表面の情報を得た二次荷電粒子線を検出器Ｄへ導く手段と、検出器Ｄに導かれた二次荷電粒子線を画像として合成する手段と１４を備える。この荷電粒子線装置は、試料１９の表面の帯電電荷量を計測する計測手段２４と、計測手段２４によって計測された帯電電荷量に基づいて、試料１９の表面における帯電電荷量を低減又は消滅させる帯電解消手段６、１７とを具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板を保持するトップリングの外周部に設けられ基板の外周縁を保持するリテーナリングの研磨面に対する追従性を高め、所望のリテーナリング面圧を研磨面に与えることができる研磨装置を提供する。
【解決手段】本発明の研磨装置は、研磨面を有した研磨テーブルと、基板を保持して前記研磨面に押圧するトップリング本体２と、トップリング本体２の外周部に設けられ、研磨面１０１ａを押圧するリテーナリング３と、トップリング本体２に固定され、リテーナリング３のリング部材４０８に摺接してリング部材４０８の上下動を案内するリテーナリングガイド４１０とを備え、リング部材４０８とリテーナリングガイド４１０とが互いに摺接する摺接面のいずれか一方を低摩擦材料で構成した。 （もっと読む）

【課題】研磨パッドなどにより構成される研磨面が研磨により摩耗しても、基板と研磨面との距離を一定にして基板の研磨を行うことができる研磨装置を提供する。
【解決手段】基板を保持しながら研磨テーブルの研磨面に押圧させて該基板を研磨する研磨装置に用いられるトップリング２０であって、基板の研磨時に基板の外周縁を保持するリテーナリング３０２を備え、リテーナリング３０２は、内部に形成された室４１０に供給される液体によって上下方向に変形する弾性膜４０４の動きに伴って上下動して研磨面に接触するリング部材４０８を備えている。 （もっと読む）

【課題】研磨面に溝加工が施されていない場合又は研磨面の溝加工の深さや数が充分でない場合においても、研磨面に半導体ウエハ等の基板を接地させた時に研磨面と基板との間にエアやスラリーが封入されることがなく、研磨圧力を掛けても基板の変形を抑制することができる研磨装置及び方法を提供する。
【解決手段】本発明の研磨装置は、研磨面を有した研磨テーブル１００と、圧力流体が供給される複数の圧力室５Ａを形成する弾性膜４を有し、複数の圧力室５Ａに圧力流体を供給することで流体圧により基板Ｗを研磨面１０１ａに押圧する研磨ヘッドと、複数の圧力室５Ａへの圧力流体の供給を制御する制御装置３３とを備え、制御装置３３は、基板を研磨面１０１ａに接地する際に、基板Ｗの中心部に位置する圧力室５Ａに圧力流体を供給し、その後、基板Ｗの中心部より外周側に位置する圧力室５Ａに圧力流体を供給するように制御する。 （もっと読む）

【課題】製造時や出荷時に納入先が不明なポンプユニットに対して効率的なメンテナンスを行うことができるメンテナンスシステム、このメンテナンスシステムの運用方法、このメンテナンスシステムの運用に特に適したポンプユニットの製造方法を提供すること。
【解決手段】生産された個別のポンプユニット６０を特定可能な識別記号を含む基本情報のデータＤ１が格納されたメンテナンス側サーバ２１と、現場に設置されたポンプユニット６０に予めエンコードされて付された基本情報を、通信回線を介してメンテナンス側サーバ２１が受信する受信手段２２とを備え、受信手段２２が、前記基本情報のほか、現場を特定可能な情報を受信可能に構成されている。 （もっと読む）

【課題】スループットを低下させることなく、エロージョンの発生を防ぎながら、余剰な導電膜を研磨除去できるようにする。
【解決手段】研磨面を有する研磨テーブル１００と、導電膜６を表面に有する被研磨物を保持し、該導電膜６を研磨面に摺接させて研磨するトップリング１０と、トップリング１０で保持した被研磨物の導電膜６に向けて光を照射して該導電膜６で反射した反射光を受光し、反射光の反射率の変化を計測して導電膜６の研磨状態を監視する光学式センサ１３０と、被研磨物を研磨面に向けて押圧する押圧力を制御する制御部１３２を有する。 （もっと読む）