【課題】ポンプ内部に流入したプロセスガスが軸受側に漏れることをより確実に防止して、軸受をプロセスガスから保護できるようにする。
【解決手段】吸気口５４ａと排気口５４ｂとを有し、内部にポンプ室５０ａ〜５０ｆを備えたポンプケーシング５６と、両端を軸受８４ａ，８４ｂで回転自在に支承されてポンプケーシング５６の長さ方向に沿って配置される回転軸６０と、ポンプ室５０ａ〜５０ｆ内にそれぞれ収容され、回転軸６０に連結されて該回転軸６０の回転に伴って回転するロータ６２ａ〜６２ｆとを有し、ポンプケーシング５６の排気口５４ｂ側には、該排気口５４ｂに連通し大気に開放させた大気開放室５２が設けられている。 （もっと読む）

【課題】研磨パッドのコンディショニングのレシピチューニングに費やされるコストおよび時間を大幅に低減し、研磨パッドを研磨テーブルから剥がすことなく研磨パッドの研磨面を監視することができる方法を提供する。
【解決手段】本方法は、回転するドレッサー５０を研磨パッド２２の研磨面２２ａ上を揺動させて該研磨面２２ａをコンディショニングし、研磨面２２ａのコンディショニング中に研磨面２２ａの高さを測定し、研磨面２２ａ上に定義された二次元平面上における、研磨面２２ａの高さの測定点の位置を算出し、研磨面２２ａの高さの測定と測定点の位置の算出を繰り返して、研磨面２２ａ内における高さ分布を生成する。 （もっと読む）

【課題】検査精度を向上させ、５〜３０ｎｍのデザインルールにも適用できる検査方法及び検査装置を提供すること。
【解決手段】本発明の検査装置は、荷電粒子又は電磁波の何れか一つをビームとして発生させるビーム発生手段と、ワーキングチャンバ内に保持した検査対象に前記ビームを導き照射する１次光学系と、可動式のニューメリカルアパーチャ、および前記検査対象から発生して当該ニューメリカルアパーチャを通過した二次荷電粒子を検出する第１検出器を有する２次光学系と、前記第１検出器によって検出された二次荷電粒子に基づいて画像を形成する画像処理系と、前記可動式のニューメリカルアパーチャと前記第１検出器の間に設けられ、前記検査対象から発生する二次荷電粒子のクロスオーバ位置における位置及び形状を検出する第２検出器とを備える。 （もっと読む）

【課題】ポンプ内部の温度をポンプ全体に亘ってより高温の一定温度（均一化）に維持して、ポンプ内部に生成物が発生して堆積することを簡易に防止する。
【解決手段】複数のポンプ室５０ａ〜５０ｆと、吸気側に位置するポンプ室に連通する吸気口５２ａと、吐出側に位置するポンプ室に連通する排気口５２ｂとを有するポンプケーシング５４と、両端を軸受で回転自在に支承されてポンプケーシングの長さ方向に沿って延びる回転軸５８と、各ポンプ室内にそれぞれ収容され、回転軸に連結されて該回転軸の回転に伴って回転する複数のロータ６０ａ〜６０ｆとを有し、ポンプケーシング５４は、回転軸と平行に該ポンプケーシングの長さ方向のほぼ全長に亘って延びる第１伝熱部材７２と、第１伝熱部材７２の排気口５２ｂ側の端部に近接した位置に位置して該ポンプケーシングの幅方向に延びる第２伝熱部材７４とを有する。 （もっと読む）

【課題】現状の運転状態からポンプ設備の管理・保全を行うことで、維持管理性が高いポンプ設備を提供する。
【解決手段】液体を揚水する主ポンプ３０１と、主ポンプを駆動する駆動機３０２を含む補機設備３０３と、主ポンプ３０１、駆動機３０２及び補機設備３０３を連動して制御する制御機能部と、制御機能部で制御される主ポンプ３０１、駆動機３０２及び補機設備３０３の運転状態を管理及び監視する運転支援画面部１０１と、運転支援画面部に主ポンプ３０１、駆動機３０２及び補機設備３０３の運転フローを表示する運転フロー表示部と、主ポンプ３０１、駆動機３０２及び補機設備３０３の運転状況に合わせて、運転フロー表示部に主ポンプ３０１、駆動機３０２及び運転状態を表示する運転状態把握部と、を備えることを特徴とするポンプ設備１０。 （もっと読む）

【課題】ロール洗浄部材の形状の最適化を図り、基板表面を高い洗浄度で効率的に洗浄して、基板表面に残存するディフェクト数を低減できるようにする。
【解決手段】表面に多数のノジュールを有し基板の直径のほぼ全長に亘って直線状に延びて基板表面との間に洗浄エリアを形成するロール洗浄部材と基板とを共に一方向に回転させつつ、ノジュールと基板表面とを互いに接触させて該表面をスクラブ洗浄する基板洗浄方法において、洗浄エリア（長さＬ）上のロール洗浄部材１６と基板Ｗの相対回転速度が相対的に低い順方向洗浄エリア（長さＬ_ｆ）では、洗浄エリア上のロール洗浄部材と基板の相対回転速度が相対的に高い逆方向洗浄エリア（長さＬ_ｉ）よりも少ない面積でノジュール１６ａと基板Ｗの表面とを互いに接触させる。 （もっと読む）

【課題】部品点数が少なく、組み立て工数が少なく、圧力損失を著しく低減でき、且つ樹脂を多用することにより、腐食性の高い流体に対応できる逆止弁を提供する。
【解決手段】弁箱１１、弁棒１２、弁体１３、弁シート１４、スプリング押え１５、スプリング１６を備えた逆止弁１０において、弁箱１１の内側には本体リブ１１ｃが設けられ、スプリング押えの外周には本体リブが貫通する貫通溝が設けられ、貫通溝と所定角度をおいて等配に設けられ支え溝が設けられ、弁棒１２と弁体１３と弁シート１４とスプリング１６の組立体の弁棒をスプリング押え１５の弁棒貫通穴に挿入してスプリング押え１５を弁箱１１に組み込むことにより、弁棒１２を弁箱１１内に移動自在に配置した。 （もっと読む）

【課題】チャンバーの下方から濃縮海水を給排水し、上方から海水を給排水し、濃縮海水と海水との混合を抑制しながら、濃縮海水から海水へ圧力伝達を行うエネルギー交換チャンバーおよび該エネルギー交換チャンバーを備えた海水淡水化システムを提供する。
【解決手段】昇圧した海水を逆浸透膜分離装置４に通水して淡水と濃縮海水に分離する海水淡水化システムにおいて、濃縮海水および海水を収容するチャンバーＣＨと、チャンバーＣＨの下部に設けられ濃縮海水の給排水を行う濃縮海水ポートＰ１と、チャンバーＣＨの上部に設けられ海水の給排水を行う海水ポートＰ２と、濃縮海水ポートＰ１と連通し、濃縮海水を水平面全体に分散させる濃縮海水分散構造体２６と、海水ポートＰ２と連通し、海水を水平面全体に分散させる海水分散構造体２５とを備え、チャンバーＣＨ内に導入された濃縮海水と海水とが直接接触して、濃縮海水と海水との圧力エネルギーが交換される。 （もっと読む）

【課題】研磨レートを下げることなく、研磨液の使用量を削減できるようにする。
【解決手段】研磨パッドの表面に研磨液を供給しながら、研磨パッドの表面に基板を摺接させて該基板を研磨する研磨方法において、研磨パッドの表面温度を制御することなく基板を研磨した時の研磨液供給流量と研磨レートとの関係、及び研磨パッドの表面温度を所定温度に制御しながら基板を研磨した時の研磨液供給流量と研磨レートとの関係を予め求めておき、研磨パッドの表面温度を所定温度に制御しながら基板を研磨した時の研磨レートの方が研磨パッドの表面温度を制御することなく基板を研磨した時の研磨レートよりも高くなるように、研磨パッドの表面温度を所定温度に制御しながら、高い研磨レートが得られるように、研磨パッドの表面に研磨液を継続的に供給する。 （もっと読む）

【課題】学校などの施設におけるトイレ洗浄用のフラッシュバルブを同時使用したときなどに生じる給水圧力不足を解消することができる給水装置の始動方法を提供する。
【解決手段】給水装置は、ポンプ１４と、ポンプ１４を駆動するモータ１６と、モータ１６の回転周波数を制御するインバータ１８と、ポンプ１４の吐出側の圧力を検知する圧力センサ３４と、内部メモリ４８とを備える。圧力センサ３４の検出圧力が予め設定された圧力以下になった日の曜日および時刻を内部メモリ４８に記憶させ、ポンプ１４を次週の同曜日同時刻の数分前から所定の時間だけ強制的に運転させる。 （もっと読む）