株式会社荏原製作所により出願された特許

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【課題】ポンプ内部の温度をポンプ全体に亘ってより高温の一定温度(均一化)に維持して、ポンプ内部に生成物が発生して堆積することを簡易に防止する。
【解決手段】複数のポンプ室50a〜50fと、吸気側に位置するポンプ室に連通する吸気口52aと、吐出側に位置するポンプ室に連通する排気口52bとを有するポンプケーシング54と、両端を軸受で回転自在に支承されてポンプケーシングの長さ方向に沿って延びる回転軸58と、各ポンプ室内にそれぞれ収容され、回転軸に連結されて該回転軸の回転に伴って回転する複数のロータ60a〜60fとを有し、ポンプケーシング54は、回転軸と平行に該ポンプケーシングの長さ方向のほぼ全長に亘って延びる第1伝熱部材72と、第1伝熱部材72の排気口52b側の端部に近接した位置に位置して該ポンプケーシングの幅方向に延びる第2伝熱部材74とを有する。 (もっと読む)


【課題】基板搬送機自体の位置決め調整の許容範囲を広げ、基板へのダメージ、パーティクルの発生、基板の搬送不良を防止することができる基板搬送方法および基板搬送機を提供する。
【解決手段】本基板搬送方法は、基板Wの周縁部を一対の支持アーム171で支持し、支持アーム171と基板Wの周端部との間に所定のクリアランスが形成された状態で、支持アーム171および基板Wを移動機構162,165により移動させる。支持アーム171で支持している基板Wを反転させることも可能である。 (もっと読む)


【課題】ポンプ内部に流入したプロセスガスが軸受側に漏れることをより確実に防止して、軸受をプロセスガスから保護できるようにする。
【解決手段】吸気口54aと排気口54bとを有し、内部にポンプ室50a〜50fを備えたポンプケーシング56と、両端を軸受84a,84bで回転自在に支承されてポンプケーシング56の長さ方向に沿って配置される回転軸60と、ポンプ室50a〜50f内にそれぞれ収容され、回転軸60に連結されて該回転軸60の回転に伴って回転するロータ62a〜62fとを有し、ポンプケーシング56の排気口54b側には、該排気口54bに連通し大気に開放させた大気開放室52が設けられている。 (もっと読む)


【課題】研磨パッドのコンディショニングのレシピチューニングに費やされるコストおよび時間を大幅に低減し、研磨パッドを研磨テーブルから剥がすことなく研磨パッドの研磨面を監視することができる方法を提供する。
【解決手段】本方法は、回転するドレッサー50を研磨パッド22の研磨面22a上を揺動させて該研磨面22aをコンディショニングし、研磨面22aのコンディショニング中に研磨面22aの高さを測定し、研磨面22a上に定義された二次元平面上における、研磨面22aの高さの測定点の位置を算出し、研磨面22aの高さの測定と測定点の位置の算出を繰り返して、研磨面22a内における高さ分布を生成する。 (もっと読む)


【課題】現状の運転状態からポンプ設備の管理・保全を行うことで、維持管理性が高いポンプ設備を提供する。
【解決手段】液体を揚水する主ポンプ301と、主ポンプを駆動する駆動機302を含む補機設備303と、主ポンプ301、駆動機302及び補機設備303を連動して制御する制御機能部と、制御機能部で制御される主ポンプ301、駆動機302及び補機設備303の運転状態を管理及び監視する運転支援画面部101と、運転支援画面部に主ポンプ301、駆動機302及び補機設備303の運転フローを表示する運転フロー表示部と、主ポンプ301、駆動機302及び補機設備303の運転状況に合わせて、運転フロー表示部に主ポンプ301、駆動機302及び運転状態を表示する運転状態把握部と、を備えることを特徴とするポンプ設備10。 (もっと読む)


【課題】ロール洗浄部材の形状の最適化を図り、基板表面を高い洗浄度で効率的に洗浄して、基板表面に残存するディフェクト数を低減できるようにする。
【解決手段】表面に多数のノジュールを有し基板の直径のほぼ全長に亘って直線状に延びて基板表面との間に洗浄エリアを形成するロール洗浄部材と基板とを共に一方向に回転させつつ、ノジュールと基板表面とを互いに接触させて該表面をスクラブ洗浄する基板洗浄方法において、洗浄エリア(長さL)上のロール洗浄部材16と基板Wの相対回転速度が相対的に低い順方向洗浄エリア(長さL)では、洗浄エリア上のロール洗浄部材と基板の相対回転速度が相対的に高い逆方向洗浄エリア(長さL)よりも少ない面積でノジュール16aと基板Wの表面とを互いに接触させる。 (もっと読む)


【課題】部品点数が少なく、組み立て工数が少なく、圧力損失を著しく低減でき、且つ樹脂を多用することにより、腐食性の高い流体に対応できる逆止弁を提供する。
【解決手段】弁箱11、弁棒12、弁体13、弁シート14、スプリング押え15、スプリング16を備えた逆止弁10において、弁箱11の内側には本体リブ11cが設けられ、スプリング押えの外周には本体リブが貫通する貫通溝が設けられ、貫通溝と所定角度をおいて等配に設けられ支え溝が設けられ、弁棒12と弁体13と弁シート14とスプリング16の組立体の弁棒をスプリング押え15の弁棒貫通穴に挿入してスプリング押え15を弁箱11に組み込むことにより、弁棒12を弁箱11内に移動自在に配置した。 (もっと読む)


【課題】研磨レートを下げることなく、研磨液の使用量を削減できるようにする。
【解決手段】研磨パッドの表面に研磨液を供給しながら、研磨パッドの表面に基板を摺接させて該基板を研磨する研磨方法において、研磨パッドの表面温度を制御することなく基板を研磨した時の研磨液供給流量と研磨レートとの関係、及び研磨パッドの表面温度を所定温度に制御しながら基板を研磨した時の研磨液供給流量と研磨レートとの関係を予め求めておき、研磨パッドの表面温度を所定温度に制御しながら基板を研磨した時の研磨レートの方が研磨パッドの表面温度を制御することなく基板を研磨した時の研磨レートよりも高くなるように、研磨パッドの表面温度を所定温度に制御しながら、高い研磨レートが得られるように、研磨パッドの表面に研磨液を継続的に供給する。 (もっと読む)


【課題】チャンバーの下方から濃縮海水を給排水し、上方から海水を給排水し、濃縮海水と海水との混合を抑制しながら、濃縮海水から海水へ圧力伝達を行うエネルギー交換チャンバーおよび該エネルギー交換チャンバーを備えた海水淡水化システムを提供する。
【解決手段】昇圧した海水を逆浸透膜分離装置4に通水して淡水と濃縮海水に分離する海水淡水化システムにおいて、濃縮海水および海水を収容するチャンバーCHと、チャンバーCHの下部に設けられ濃縮海水の給排水を行う濃縮海水ポートP1と、チャンバーCHの上部に設けられ海水の給排水を行う海水ポートP2と、濃縮海水ポートP1と連通し、濃縮海水を水平面全体に分散させる濃縮海水分散構造体26と、海水ポートP2と連通し、海水を水平面全体に分散させる海水分散構造体25とを備え、チャンバーCH内に導入された濃縮海水と海水とが直接接触して、濃縮海水と海水との圧力エネルギーが交換される。 (もっと読む)


【課題】研磨時間全体を短縮することができ、研磨テープを容易に交換できる研磨装置を提供する。
【解決手段】本発明の研磨装置は、基板Wのノッチ部を研磨する研磨装置において、基板Wを水平に保持し、回転させる回転保持機構3と、研磨テープを用いて基板Wを研磨する複数の研磨ヘッドモジュール70A,70B,70C,70Dと、複数の研磨ヘッドモジュールを互いに独立して移動させる移動機構とを備える。複数の研磨ヘッドモジュールは、研磨テープを基板Wのノッチ部に摺接させる研磨ヘッド30と、研磨ヘッドに研磨テープを供給し、回収するテープ供給回収機構2A,2B,2C,2Dとをそれぞれ有する。 (もっと読む)


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