説明

株式会社荏原製作所により出願された特許

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【課題】 装置に投入した機械的エネルギーを回収することによりエネルギー損失を抑制して、気体の溶解濃度の大きい、例えば水などの有用な液体を製造するための省エネルギー化された気体溶解装置を提供する。
【解決手段】 通路内を流動する液体に気体を注入する気体注入部10と、この気体注入部10の下流側に配置され、液体に気体を注入した気液混合液に圧力を印加して気体の液体中への溶解を促進する加圧部14と、加圧部14に対して加えられた力学的エネルギーの一部を回収しながら気体を溶解させた気体溶解液の圧力を減少させる減圧部16を有する。 (もっと読む)


【課題】気体状物質を基質として、微生物を用いて効率的に有価物を生産する技術を提供する。
【解決手段】有価物生産装置100には、供給気体101の基質濃度および流量を測定して基質供給量を得るガス濃度・流量センサ109aが設けられている。また、培養槽103内の多孔質膜モジュールから排出される排出気体106の基質濃度および流量を測定して基質排出量を得るガス濃度・流量センサ109bが設けられている。さらに、基質供給量と基質排出量とから求められる基質の除去速度が所定の範囲内になるように、培養槽103内の培養液中への供給気体101の流量を調整するコントローラ110および流量調整バルブ111が設けられている。 (もっと読む)


【課題】 Zマップの作製を不要とし、高スループットを実現すると共に、高価なステージを必要とせず、また、軸上色収差を補正して大きい開口角を用いた電子光学系を用いてもフォーカスずれを少くして試料の評価ができる電子線装置を提供する。
【解決手段】 試料台を連続移動させパターン評価を行う電子線装置に於て、試料台の連続移動方向と直交する方向にはストライプ幅より大きく、試料台の連続移動方向には上記ストライプ幅の少くとも1/4の視野を有する電子光学系を有し、パターン評価に先立ち、試料台の移動方向にビームを移動させ、合焦条件を測定するための信号波形取得を行い、その結果得られた最適合焦条件でパターン評価を行う。 (もっと読む)


【課題】 下水とともに流入するスカムやゴミなどの初期塵芥を分別して処理することを可能とし、これらの初期塵芥が下流の放流領域に放流されることを防止することができるポンプ場システムを提供する。
【解決手段】 ポンプ場システム1は、汚水と雨水とが合流した下水を集水する吸水槽10と、揚水ポンプ16により汲み上げられた吸水槽10内の下水を貯水し、下流側の放流設備に流す吐水槽22とを備えている。このポンプ場システム1は、揚水ポンプ16の運転の初期段階で汲み上げられるし渣および塵芥を含む下水を吐水槽22内の下水とは分離して貯水する分離槽28を備えている。吐水槽22と分離槽28とは、連通部32により放流設備の床面Fよりも低い位置で互いに連通される。 (もっと読む)


【課題】気体状物質を基質として、微生物を用いて効率的に有価物を生産する技術を提供する。
【解決手段】有価物生産装置100には、供給気体101の基質濃度および流量を測定して基質供給量を得るガス濃度・流量センサ109aが設けられている。また、培養槽103内の培養液中から排出される排出気体106の基質濃度および流量を測定して基質排出量を得るガス濃度・流量センサ109bが設けられている。さらに、基質供給量および基質排出量から求められる基質の除去速度が所定の範囲内になるように、培養槽103内の培養液中への供給気体101の流量を調整するコントローラ110および流量調整バルブ111が設けられている。 (もっと読む)


【解決課題】海水中から有用金属を捕集した金属捕集材から、できるだけ少ない廃棄物発生量で、捕集された有用金属や有害金属を効率的に分離回収する方法及び装置を提供する。
【解決手段】目的金属及び他の金属を吸着させた金属捕集材に溶離液を接触させる金属捕集材溶離槽1;金属捕集材溶離槽1に第1溶離液を供給する第1溶離液供給機構3;金属捕集材溶離槽1から第1工程溶離済み液を受け取る第1工程溶離済み液貯留槽5;金属捕集材溶離槽1に第2溶離液を供給する第2溶離液供給機構4:金属捕集材溶離槽1から第2工程溶離済み液を受け取る第2工程溶離済み液貯留槽6:第2工程溶離済み液を金属再吸着材料と接触させる金属再吸着材料槽2;金属再吸着材料槽2から溶離済み液を受け取る第3工程再吸着済み廃液貯留槽7を含む金属の溶離回収装置。 (もっと読む)


【課題】 ダミーウエハ等を使用することなく、研磨面の状態を研磨に最適な状態に調整して研磨処理を再開できるようにして、ダミーウエハ等にかかるコストを削減できるようにする。
【解決手段】 研磨休止時に待機運転を行い、待機運転終了後に、研磨面に研磨液を供給しながら該研磨面をドレッシングする研磨準備処理を行い、研磨準備処理終了後に被研磨物に対する研磨処理を開始する。待機運転終了後に研磨準備処理を行うか否かを、待機運転の延べ運転時間または延べ実効回数を基に決定してもよい。 (もっと読む)


【課題】 強塩基性アニオン交換樹脂から溶出するTMA等の臭気物質を、より簡単にかつ短時間で低減化処理することができる処理方法とそれにより得られたアニオン交換樹脂を提供する。
【解決手段】 再生形とした強塩基性アニオン交換樹脂の処理方法において、該強塩基性アニオン交換樹脂をH形のカチオン交換樹脂と混合状態で加熱処理し、溶出物を低減化することとしたものであり、前記強塩基性アニオン交換樹脂が、I型樹脂であり、混合するカチオン交換樹脂には、高架橋度の均一粒径カチオン交換樹脂を使用するのがよく、また、前記加熱処理後の強塩基性アニオン交換樹脂は、H形のカチオン交換樹脂と混合状態で循環洗浄処理することができ、さらに、このように処理して得られた強塩基性アニオン交換樹脂としたものである。 (もっと読む)


【課題】大型立軸ポンプにおいて、ポンプ本体を引き上げることなく、ポンプのインペラハブ底部及びインペラハブ内部の点検・整備を実施できる立軸ポンプを提供すること。
【解決手段】ポンプインペラ1aを取付けたインペラハブ1を備え、該インペラハブ1の下方に吸込ライナー2を配置し、該インペラハブ1及び該吸込ライナー2を囲んでカサ形吸込水路8が形成された立軸ポンプにおいて、吸込ライナー2の上部の少なくとも一部を中空部2aとし、中空部側壁及び天端部に点検用の開口9を設けた。 (もっと読む)


【課題】押圧リングを剛性高く、即ち、十分にしっかりと支持することができるとともに、押圧リングとトップリングの同芯度を精度良く確保することができるポリッシング装置を提供する。
【解決手段】半導体ウエハ4を収容するトップリングの周囲に押圧リング3を上下動自在に配置し、押圧リング3を研磨布6に対して可変の押圧力で押圧する押圧手段を設け、押圧リング3をベアリングを介してトップリングに支持させるように構成し、前記ベアリングは、押圧リング3とトップリング1との相対回転を支持する回転支持用ベアリング38と、押圧リング3のトップリング1に対する上下動を支持する上下移動用ベアリング39とからなる。 (もっと読む)


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