セントラル硝子株式会社により出願された特許

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【課題】 本発明の目的は、フルオロアルキルスルホン酸と五酸化二燐とを反応させて、フルオロアルキルスルホン酸無水物を製造する際に、高収率な製造方法を提供する。
【解決手段】 実容量100Lあたりの最大の動力が1.0kW以上である、少なくとも二軸以上のブレードを具備するニーダー型反応器を用いて、フルオロアルカンスルホン酸と五酸化二燐とを40℃以上100℃未満で混練しながら、反応、且つ、生成するフルオロアルキルスルホン酸無水物を排出させ、排出後の該反応器内残渣を100℃以上140℃未満の温度で混練しながら、未反応のフルオロアルキルスルホン酸を排出して回収し、原料として再利用することを特徴とするフルオロアルカンスルホン酸無水物の製造方法。 (もっと読む)


【課題】モノフルオロメタンを製造する際に副生するエチレンを、蒸留によらずに、モノフルオロメタン中から除去する方法を提供する。
【解決手段】少なくともエチレンを含むモノフルオロメタン組成物をRCOCl(Rは、炭素数1〜3のアルキル基を表す。)で表されるカルボン酸塩化物と接触させる工程を含むモノフルオロメタンの製造方法。 (もっと読む)


【課題】気相において製造または処理されたモノフルオロメタンは、平衡、フッ素化反応または不均化反応によりトリフルオロメタンを伴うことがあるが、これらの沸点は近接するので蒸留では効率的に分離することはできない。そこで、蒸留に代えて、実質上トリフルオロメタンおよび不飽和化合物を含まないモノフルオロメタンを製造できる工業的に適用可能な方法を提供する。
【解決手段】トリフルオロメタンを含有するモノフルオロメタン組成物を式(1)のアミド及び塩基を含むトリフルオロメタン処理液と接触させる工程、及び、硫酸と接触させる工程を含むモノフルオロメタンの製造方法。


(R、RおよびRは、水素原子またはアルキル基を表し、互いに結合して環を形成してもよく、環炭素は酸素原子、窒素原子もしくは硫黄原子で置換してもよい。) (もっと読む)


【課題】原料や反応機構にかかわらず気相反応においてモノフルオロメタンを製造する際には、未反応原料、過フッ素化物とともに、熱力学に安定なオレフィン類を伴い、特に、メチル基を含有する化合物を熱分解しながらフッ素化する方法による方法では比較的エチレン等の不飽和化合物の生成量が多く、代表的なエチレン(沸点:−104℃)はモノフルオロメタン(沸点、−78.2℃)と沸点は比較的離れているとはいえ、低温または加圧下での蒸留となり設備上の制限を受けるが、蒸留に拠らないモノフルオロメタンに含まれるエチレンの除去方法を提供する。
【解決手段】少なくともエチレンを含むモノフルオロメタン組成物を硫酸と接触させる工程を含むモノフルオロメタンの製造方法。 (もっと読む)


【課題】表面に凹凸パターンを有し該凹凸パターンの少なくとも一部がケイ素元素を含むウェハの製造方法において、パターン倒れを誘発しやすい洗浄工程を改善し、特に該改善効果の持続性(ポットライフ)に優れる、ウェハの凹凸パターン表面に撥水性保護膜を形成する保護膜形成用薬液の調製方法及び該薬液を提供することを課題とする。
【解決手段】上記ウェハの洗浄時に、該凹凸パターンの少なくとも凹部表面に撥水性保護膜を形成するための、非水有機溶媒と、シリル化剤と、酸又は塩基とを有する、撥水性保護膜形成用薬液の調製方法であり、
非水有機溶媒中の水分濃度を200質量ppm以下にする、脱水工程、
脱水工程後の非水有機溶媒と、シリル化剤と、酸又は塩基とを混合する、混合工程
を有することを特徴とする、撥水性保護膜形成用薬液の調製方法。 (もっと読む)


【課題】130℃以上の高温下に長時間、曝されても劣化しない、さらなる耐熱性を有する、耐熱性封止材用のシロキサン系組成物を提供する。
【解決手段】一般式(1)


(式中、Xは、一般式で表される特定の基。)で表されるシロキサン化合物(A)および金属化合物を含む組成物。 (もっと読む)


【課題】本発明は、硬質ポリウレタンフォームの発泡剤、溶剤、洗浄剤、冷媒、作動流体、噴射剤、フッ素樹脂等の原料として利用できる、トランス−1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンを製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明の方法によれば、トランス−1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンを、従来技術と比べて高選択率かつ高収率で製造することができる。用いる触媒は非常に安価で製造又は入手可能であり、本願発明はトランス−1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンの工業的な製造として優位性が極めて高い。 (もっと読む)


【課題】ケイ素元素を含むウェハとレジストとの密着性を高めることが可能な表面処理液及び表面処理方法を提供すること。
【解決手段】ウェハ表面にケイ素元素含有ウェハ用表面処理液を接触させて、該ウェハ表面を疎水化する、表面処理工程、前記ウェハ表面から前記処理液を除去する、処理液除去工程、前記ウェハ表面にレジストを成膜する、レジスト成膜工程を含み、表面処理工程において下記一般式[1]で表されるケイ素化合物と、酸と、希釈溶媒とを含むケイ素元素含有ウェハ用表面処理液を用いる。
SiX4−a [1]
[式[1]中、Rは、それぞれ互いに独立して、水素基、又は炭素数が1〜18の炭化水素基であり、該炭化水素基の水素原子はハロゲン原子で置換されていてもよい。Xは、それぞれ互いに独立して、ケイ素元素と結合する元素が窒素である1価の官能基であり、aは1〜3の整数である。] (もっと読む)


【課題】
本発明では、フッ化水素を含む(E)−1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン(OF−1233E)について、蒸留困難な新たな成分を生じることのないフッ化水素の除去方法を提供し、効率的なOF−1233Eの製造方法を併せて提供する。
【解決手段】
少なくともフッ化水素と2−クロロ−1,1,1,3,3−ペンタフルオロプロパンを含む(E)−1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン組成物を弱塩基と接触させる工程を含む(E)−1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン組成物の精製方法、および、その方法で得られた(E)−1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン組成物を蒸留に付す工程を含む(E)−1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンの製造方法。 (もっと読む)


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