【課題】この発明は本圧着時に用いられる保護テープによって基板の撮像が行なえなくなるのを防止した実装装置を提供することにある。
【解決手段】基板の搬送方向に沿って所定間隔で配置された複数の加圧ツールと、加圧ツールを上下方向に駆動して基板に仮圧着された半導体チップを本圧着させる駆動手段と、基板の搬送方向と交差する方向の一端側の複数の加圧ツールと対応する位置からそれぞれ保護テープ３１を繰り出す複数の供給リール３６及び各供給リールから繰り出された保護テープを基板の搬送方向と交差する方向の他端側でそれぞれ巻取る複数の巻取りリール３７を有し、各加圧ツールが駆動されて半導体チップを基板に本圧着するときに各加圧ツールの下端面と半導体チップとの間にそれぞれ保護テープを介在させるテープ供給機構３０を具備する。 （もっと読む）

【課題】本発明が解決しようとする課題は、より強い電界強度を生じさせることができるプラズマ発生装置、プラズマ処理装置、プラズマ発生方法、およびプラズマ処理方法を提供することである。
【解決手段】実施形態によれば、プラズマを発生させる領域にマイクロ波を放射して前記プラズマを発生させるプラズマ発生装置であって、マイクロ波を発生させるマイクロ波発生部と、前記マイクロ波を共振させる共振部と、前記共振部から前記プラズマを発生させる領域への前記マイクロ波の放射を制御する放射制御部と、を備え、前記放射制御部は、前記マイクロ波の放射を抑制してマイクロ波エネルギーを前記共振部に蓄積し、前記蓄積されたマイクロ波エネルギーを放出することで電界強度を強めることを特徴とするプラズマ発生装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】本発明が解決しようとする課題は、液体の金属汚染を抑制することができる液中プラズマ発生装置、液中プラズマ処理装置、液中プラズマ発生方法、および液中プラズマ処理方法を提供することである。
【解決手段】実施形態によれば、液体を供給する液体供給部と、マイクロ波を発生させるマイクロ波発生部と、前記液体の流速を上昇させることで前記液体の圧力を減圧させて気泡を発生させるまたは気泡を発生させやすくする減圧部と、前記マイクロ波を共振させ、前記減圧部に前記共振させたマイクロ波を放射する共振部と、を備え、前記減圧部により、前記液体と、前記共振部と、が離隔されたことを特徴とする液中プラズマ発生装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】被処理体を安定して保持することが可能なロードロック装置と、このロードロック装置が付設された真空処理装置を提供する。
【解決手段】真空槽の内外に真空槽内の減圧状態を維持したまま基板を搬入出可能なロードロック装置であって、基板を載置する凹部を有するトレイを支持することが可能な支持台と、基板を保持する蓋部と、を備え、真空槽には、基板を搬入出する開口が設けられ、真空槽の開口は、真空槽外部から蓋部によって閉塞され、真空槽内部より支持台によって閉塞することで、真空槽の壁、蓋部、および支持台によって真空槽の外部および内部から遮蔽された閉塞空間が形成され、閉塞空間を大気圧とする通気手段と、閉塞空間を減圧する排気手段と、を、さらに備え、蓋部は、閉塞空間を形成しているときに基板を載置するトレイの凹部より外側に位置する複数の保護部材を有するロードロック装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】基板上の光触媒膜へのアルカリ成分の拡散を防止すること。
【解決手段】 アルカリ成分を含有する基板の表面に光触媒膜を成膜してなる光触媒体であって、光触媒膜は二酸化チタンからなり、前記基板の表面に、アモルファス状態の二酸化チタン膜が成膜され、このアモルファス状態の二酸化チタン膜の上にアナターゼ結晶となっている二酸化チタン膜とが積層されている光触媒体構造とする。このアモルファス状態の二酸化チタンが、アナターゼ結晶の二酸化チタン膜に、基板より溶出するアルカリ成分の拡散を防止するアルカリ拡散防止膜となっている。このような光触媒体を、基板を常温にして成膜した後に、所定の温度に加熱してさらに成膜することで製造する。 （もっと読む）

【課題】 この発明は基板に所定温度に加熱された処理液を確実に供給することができるようにした処理装置を提供することにある。
【解決手段】 処理液が貯えられる貯液タンク３２と、貯液タンクに貯えられた処理液を基板に噴射するための上部ノズル体３１に給液管路３３を通じて供給する供給ポンプ３４と、給液管路に設けられ上部ノズル体に供給する処理液を所定温度に加熱する第１の加熱ヒータ３７と、上記貯液タンク内の処理液を加熱する第２の加熱ヒータ４２が設けられ、この第２の加熱ヒータ４２によって加熱された処理液を上記第１の加熱ヒータ３７によって上記所定温度にさらに加熱することを特徴とする基板の処理装置。 （もっと読む）

【課題】微細バブルを含む切削液を加工具の板状物に対する加工により有効に利用することができる機械加工装置を提供することである。
【解決手段】回転する円盤状の加工具１８が切り込んで板状物Ｗを加工する機械加工装置であって、回転する前記加工具１８の前記板状物Ｗに切り込む側の端面に対して微細バブルを含む第１切削液を吹き付ける第１の機構１４、１５と、回転する前記加工具１８の両側面の少なくとも一方に対して微細バブルを含む第２切削液を吹き付ける第２の機構１６、１７とを有し、前記第２切削液に含まれる微細バブルのサイズは前記第１切削液に含まれる微細バブルのサイズより大きい構成となる。 （もっと読む）

【課題】塗布製品の品質を向上させる。
【解決手段】液滴塗布装置４は、塗布液を貯留する液室１１ａ、その液室１１ａ内の塗布液を吐出するための吐出口Ｐ２及び液室１１ａと吐出口Ｐ２とをつなぐノズル１１ｂを有する本体部１１と、液室１１ａ内に設けられノズル１１ｂの液室１１ａ側の開口部Ｐ１に対して当接及び離間して開口部Ｐ１を開閉するプランジャ１２と、そのプランジャ１２をノズル１１ｂの液室１１ａ側の開口部Ｐ１に対して当接及び離間させる吐出駆動部１４と、液室１１ａ内の塗布液を撹拌する撹拌部１５とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板上の膜形成領域外への配向膜の広がり量を抑制すること。
【解決手段】基板に設けられた膜形成領域に配向膜形成液を塗布するにあたり、膜形成領域が当該膜形成領域以外の表面に対して高い親液性とされた基板がステージに載置されたときには、設定された配置パターンで配向膜形成液の液滴が膜形成領域に対して塗布されるように塗布ヘッドのノズルから配向膜形成液の液滴を吐出させるべく、塗布ヘッドとステージとを相対移動させる移動装置と塗布ヘッドを制御する。 （もっと読む）

【課題】より微細な固体粒子を得る。
【解決手段】固体粒子の製造装置１は、固体材料と液体の混合物を収容する容器２と、その容器２内の混合物を加圧する加圧装置３と、容器２内の混合物を加熱する加熱装置４と、容器２内の混合物を液体の沸点が固体材料の融点以上となる圧力に加圧し、加圧状態の液体の沸点より低く固体材料の融点以上の温度に加熱して、固体材料が液体中で溶融した溶融混合物を生成するように加圧装置３及び加熱装置４を制御する制御装置８と、容器２内の溶融混合物を容器２外に噴霧する噴霧装置６と、その噴霧装置６により溶融混合物が噴霧され、固体材料が粒子化されて形成された固体粒子を回収する回収装置７とを備える。 （もっと読む）