東ソー株式会社により出願された特許

1 - 10 / 1,901


【課題】優れた難燃性と良好なフォーム流動性とを両立することが可能な硬質ポリウレタンフォーム製造用触媒、及びそれを用いた硬質ポリウレタンフォームの製造方法を提供する。
【解決手段】下記式(1)


[上記式(1)中、Rは各々独立して、炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基又は炭素数6〜14の芳香族炭化水素基を表し、Xはリン酸基を表し、aは1〜3の範囲の整数、bは1〜3の範囲の整数である。]で示される4級アンモニウム塩化合物を含有する硬質ポリウレタンフォーム製造用触媒及び発泡剤の存在下に、ポリオールとポリイソシアネートを反応させて、硬質ポリウレタンフォームを製造する。 (もっと読む)


【課題】 往復式プランジャポンプにおいて、ポンプ内に混入した気体を抜けやすくするポンプを提供すること。
【解決手段】 往復式プランジャポンプを、ポンプ室およびプランジャの組み合わせを直列に二組連結した直列二連プランジャポンプとし、前記ポンプに備える制御手段を、上流側に設けたポンプ室の体積変化と下流側に設けたポンプ室の体積変化とが逆方向となるよう、二つのプランジャを往復運動させる信号を前記駆動手段に送る手段とし、かつ前記信号が少なくとも、上流側に設けたポンプ室の体積変化速度に対する下流側に設けたポンプ室の体積変化速度の比率をほぼ0.5倍とするよう制御する信号と、前記体積変化速度の比率を前記比率より大とする信号と、を含むことで前記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】 ポリアルキレングリコール製造用活性種及び/又は該活性種の原材料を環境への負荷が低い水性媒体中で効率よく分離・回収し、循環することによる生産性に優れる、ポリアルキレングリコールを製造する方法を提供する。
【解決手段】 少なくとも下記の(A)〜(E)工程を経てなるポリアルキレングリコールの製造方法。
(A)工程;イミノ基含有ホスファゼニウム塩と活性水素含有化合物によりポリアルキレングリコール製造用活性種を調製した後、アルキレンオキシドの重合反応を行う工程。
(B)工程;(A)工程により得られたポリアルキレングリコール100重量部に対して、0.5〜12重量部の水性媒体と、(A)工程で用いたイミノ含有ホスファゼニウム塩1モルに対して0.5モル以上3.5モル未満の硫酸とを混合する工程。
(C)工程;(B)工程で得られた混合物から水性媒体を除去し、イミノ基含有ホスファゼニウム化合物を析出し、イミノ基含有ホスファゼニウム化合物を分離・回収する工程。
(D)工程;(C)工程で分離・回収したイミノ基含有ホスファゼニウム化合物100重量部に対して10〜100000重量部の水性媒体及び(B)工程で用いた硫酸1モルに対して0.5モル以上3.5モル未満に相当するバリウム化合物を混合し、生成する析出物を除去し、イミノ基含有ホスファゼニウム塩を水溶液として精製する工程。
(E)工程;(D)工程で精製されたイミノ基含有ホスファゼニウム塩を(A)工程におけるイミノ基含有ホスファゼニウム塩として循環する工程。 (もっと読む)


【課題】スパッタリング中の放電異常やパーティクルの発生がなく、ターゲット割れの起こらない、高品質なニッケル含有酸化亜鉛系スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】亜鉛、ニッケル及び酸素から構成される複合酸化物焼結体であって、長軸径が15μm以上のニッケル凝集物の存在個数が、焼結体の任意の0.25mmの領域5ヶ所の平均で5個以下であり、かつ、焼結体の平均結晶粒子径が20μm以下であることを特徴とする複合酸物焼結体。 (もっと読む)


【課題】 シール剤による液晶への汚染が低減された液晶表示パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】 セル基板上に、光硬化性を有するホットメルト型シール剤を加熱してシールパターン枠を形成し、このシールパターン枠内に液晶を挿入した後、対となるセル基板を重ね合せ、光照射した後に加熱することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。 (もっと読む)


【課題】 ポリアルキレングリコール製造用活性種及び/又は該活性種の原材料を効率よく除去・回収する方法、さらに回収したイミノ基含有ホスファゼニウム化合物を再利用してポリアルキレングリコールを製造する方法を提供する。
【解決手段】 少なくとも下記の(A)〜(D)工程を経てなるポリアルキレングリコールの製造法。
(A)工程;イミノ基含有ホスファゼニウム塩と活性水素化合物によりポリアルキレングリコール製造用活性種を調製した後、アルキレンオキシドの重合反応を行う工程。
(B)工程;(A)工程により得られたポリアルキレングリコール100重量部に対して、0.5〜12重量部の水性媒体と、(A)工程で用いたイミノ含有ホスファゼニウム塩1モルに対して0.5モル以上3.5モル未満の2価以上の無機酸とを混合する工程。
(C)工程;(B)工程で得られた混合物から水性媒体を除去し、イミノ基含有ホスファゼニウム化合物を析出し、イミノ基含有ホスファゼニウム化合物を分離、回収する工程。
(D)工程;(C)工程で回収されたイミノ基含有ホスファゼニウム化合物100重量部に対して10〜100000重量部のアルコール溶媒及び、(B)工程で用いた2価以上の無機酸1モルに対して0.5モル以上3.5モル未満に相当する塩基性化合物を混合し、生成する析出物を除去し、イミノ基含有ホスファゼニウム塩を回収する工程。
(E)工程;(D)工程で精製されたイミノ基含有ホスファゼニウム塩を(A)工程におけるイミノ基含有ホスファゼニウム塩として循環する工程。 (もっと読む)


【課題】 ガラス基板等のマスキング、エッチング、洗浄等の処理においても優れた耐久性を有し、特に成形時の歪みや変形が少なく寸法精度に優れ、カセット外側へ張り出したリブ状棚片を小型化あるいは取り除くことが可能になり、さらに発泡成形体の効果により基板用カセットを軽量化させることができるガラス基板用カセットを提供する。
【解決手段】 ガラス基板を互いに接触しないように分離して支持するためのガラス基板用カセットであって、ガラス基板用カセットを構成する部品の一部が、ポリアリーレンスルフィド樹脂の発泡成形体からなることを特徴とするガラス基板用カセット (もっと読む)


【課題】 簡便な手法を用いて、低コストで、高導電性膜形成用のポリチオフェン誘導体複合物及びその複合物を含む水分散体を提供する。
【解決手段】 疎水性溶媒と界面活性剤を含むポリスチレンスルホン酸またはその塩の水溶性懸濁液中で、チオフェン誘導体を過硫酸塩と第二鉄塩で重合して、ポリチオフェン誘導体複合物を得る。 (もっと読む)


【課題】成形品とした際に低温での衝撃強度に優れ、水中または高湿環境下においても使用可能な高外観な耐湿性射出成形品の外観を改良した耐湿性射出成形用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】ポリプロピレン系樹脂(I)70〜90重量部に対して、160℃で測定した溶融張力が50〜300mNであるエチレン−α−オレフィン共重合体(II)5〜25重量部、JIS K6760に準拠した密度が850kg/m以上930kg/m以下で、160℃で測定した溶融張力が30mN以下であるポリオレフィン系樹脂(III)5〜25重量部(ただし、(I)+(II)+(III)=100重量部)と有機系発泡剤としてアゾジカルボンアミド0.1〜2重量部を含む射出成形用樹脂組成物を用いる。 (もっと読む)


【課題】 簡便な操作で効率よくハロゲン化イミノホスファゼニウムを製造する方法を提供する。
【解決手段】 不活性ガス雰囲気下、非水溶性溶媒中で、五ハロゲン化リンとグアニジン誘導体を反応し、ハロゲン化イミノホスファゼニウムを製造するに際し、反応後の反応液に水性媒体を添加し油水分離を行い、得られた水相にさらにハロゲン化溶媒を添加し油水分離を行い、得られたハロゲン化溶媒相からハロゲン化溶媒を除去することを特徴とするハロゲン化イミノホスファゼニウムの製造方法。 (もっと読む)


1 - 10 / 1,901