説明

日産化学工業株式会社により出願された特許

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【課題】新規な有害生物防除剤、特に殺虫剤又は殺ダニ剤の提供。
【解決手段】式(1):


[式中、Aは、−N(O)m2又は−CRを表し、R、Rは、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子、C〜Cアルキル等を表し、Rは、ハロゲン原子を表し、Rは、−C(O)NR、−C(S)NR等を表し、Rは、水素原子、C〜Cアルキル等を表し、Rは、C〜Cアルキル、−C(O)R等を表し、Rは、C〜Cアルキル等を表し、m1及びm2は、0又は1の整数を表す。]で表されるチアゾール誘導体及び有害生物防除剤。 (もっと読む)


【課題】光インプリント材料を提供すること。
【解決手段】下記式(1)及び/又は式(2)で表されるシリコーン骨格を有する化合物および光重合開始剤を含む光インプリント材料。


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【課題】熱や酸化に対する耐性が高く、各種溶媒に対する溶解性や分散性を改善し得るスルフォニル基を有するモノスルフォニルチオフェン化合物を提供すること。
【解決手段】式[24]で表されることを特徴とするモノスルフォニルチオフェン化合物。


(式中、R1及びR2は、それぞれ独立して、シアノ基、Wで置換されていてもよいフェニル基、Wで置換されていてもよいナフチル基等を表し、R48は、炭素数1〜20アルキル基、炭素数1〜20ハロアルキル基等を表し、R49は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基等を表す。) (もっと読む)


【課題】ポリ乳酸樹脂の結晶化を促進するのに好適であり、かつ金属フリーな結晶核剤、及び当該結晶核剤とポリ乳酸樹脂とを含む樹脂組成物を提供する。
【解決手段】ポリ乳酸樹脂100質量部と、式[1]で表されるフェニルホスホン酸化合物と式[2]及び式[3]で表されるアミン化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種のアミン化合物との塩0.01〜10質量部とを含有することを特徴とする、ポリ乳酸樹脂組成物。


(式[1]中、R1及びR2は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、又は炭素原子数2〜11のアルコキシカルボニル基を表す。) (もっと読む)


【課題】
塗布法により形成可能な絶縁膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】
エポキシ基を有する樹脂とヒドロキシ基、カルボキシル基、アミノ基及びイソシアネート基からなる群から選択される前記エポキシ基と反応する官能基を有する少なくとも一種の化合物との反応生成物であるポリマー又はオリゴマー、及び溶剤を含む絶縁膜形成用組成物。前記絶縁膜形成用組成物を基材上に塗布し、ベークすることによって、絶縁膜が形成される。 (もっと読む)


【課題】新規なオイルゲル化剤の提供。
【解決手段】一般式[I]又は[II]で表されるスクアリン酸誘導体を含む、オイルゲル化剤。


[式中、R1、R3、R3は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよい複素環アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、又は置換基を有していてもよい複素環基を表し、Xは水素原子又はアルカリ金属原子を表す。] (もっと読む)


【課題】毒性の高い有機スズ化合物の使用を回避し、ベンジル位に加えアリル位でもCO2によるカルボキシル化が進行する、α−アミノ酸塩の製造方法を提供する。
【解決手段】α−アミノスルホン化合物とCsFとを反応させてイミンを調製し、更にシリルボロン酸エステル化合物を加えて該イミンと反応させることで生成する中間体とCO2とをCsFの存在下で反応させることを特徴とするα−アミノ酸塩の製造方法。 (もっと読む)


【課題】有機溶媒類に対して溶解性に優れ、液晶配向処理剤として液晶のプレチルト角付与が可能な側鎖置換エチレンジエステル型酸二無水物酸二無水物、その製造法およびポリイミドを提供すること。
【解決手段】下記式[1]で表される酸二無水物化合物、その製造方法及びポリイミド【化1】


(式中、R1、R及びRは、それぞれ独立に水素原子又は炭素数1〜20のアルキル基を表し、R、R、R及びRは、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜20のアルキル基または炭素数1〜20のハロアルキル基を表し、但し、R、R、R及びRのうち少なくとも1つは炭素数1〜20のアルキル基及び炭素数1〜20のハロアルキル基から選ばれる置換基を表す。) (もっと読む)


【課題】光学活性エポキシ化合物の新規な製造方法の提供。
【解決手段】一般式(1−1)等:


で表される光学活性アクアクロロ(サレン)ルテニウム(III)錯体を触媒として使用して、酸化剤と分子内に二重結合を有する不飽和化合物を反応させる。 (もっと読む)


【課題】酸化第二セリウムコロイド粒子をシリカ−酸化第二スズ又はシリカ−五酸化アンチモンのシリカ系複合コロイド粒子で被覆することにより、耐光性が良好な酸化第二セリウムコロイド粒子を提供する。
【解決手段】4〜60nmの一次粒子径を有する酸化第二セリウムコロイド粒子(A)を核として、その表面が1〜3nmの一次粒子径を有し且つシリカ/酸化第二スズ又はシリカ/五酸化アンチモンの質量比が0.1〜10であって、0.001〜0.08のM/(シリカ+酸化第二スズ)又はM/(シリカ+五酸化アンチモン)のモル比(但しMはアミン化合物)でアミン化合物が結合したシリカ−酸化第二スズ又はシリカ−五酸化アンチモンのシリカ系複合コロイド粒子(B)で被覆され、前記酸化第二セリウムコロイド粒子(A)と前記シリカ系複合コロイド粒子(B)との質量比が(A)/(B)として1〜50である変性酸化第二セリウムコロイド粒子(C)による。 (もっと読む)


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