説明

日本合成化学工業株式会社により出願された特許

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【目的】 蛍光体の分散不良を起こさず常時蛍光体の分散安定性に優れたフォトレジスト層を供給すると共に20μ以上の硬化レジスト層を形成し、パターン形成精度にも優れたフォトレジストフィルムを提供すること。
【構成】 蛍光体を含有せしめた感光性樹脂組成物をベースフィルムに積層したフォトレジストフィルム。 (もっと読む)


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