【課題】 本発明は、光透過性、耐熱性、力学強度に優れ、かつ成型加工性に優れたプリント配線用基板を提供することを目的とする。
【解決手段】 芳香族ポリエーテル樹脂からなるプリント配線用基板であって、フィルム厚みが５０±１０μｍの場合において、ＪＩＳ Ｋ７１０５透明度試験法における全光線透過率が９０％以上、もしくは、４００ｎｍの光透過率が８５％以上であることを特徴とするプリント配線用基板である。好ましくは、前記芳香族ポリエーテル樹脂が、沸点７０〜１５０℃以下の非アミド系かつ非ハロゲン系有機溶媒に可溶である。また、好ましくは、前記芳香族ポリエーテル樹脂のＤＳＣ（昇温速度２０℃／分）によるガラス転移温度が１６０℃以上である。 （もっと読む）

【課題】環状オレフィン系樹脂組成物を用いて形成される成形体であって、４０５ｎｍ付近の短波長光に対する耐久性および熱安定性に優れる光学部材用成形体を提供すること。
【解決手段】下記式（１）で表される単量体から導かれる構造単位を有する環状オレフィン系樹脂１００重量部と、下記式（２）〜（５）で表される硫黄系安定剤なる群から選択される少なくとも１種の硫黄系安定剤０．０５〜３重量部とを含有する環状オレフィン系樹脂組成物を用いて形成され、波長３９５〜４２０ｎｍの光を使用する光学部材に用いる成形体。


Ｒ−Ｓ−Ｈ・・・（２）Ｒ−Ｓ−Ｒ・・・（３）Ｒ−Ｓ−Ｓ−Ｒ・・・（４）−（−Ｒ−Ｓ−Ｒ）・・・（５） （もっと読む）

【課題】破断強度および電気絶縁性に優れた絶縁膜等を形成することができる、解像性に優れた感放射線性樹脂組成物、及びこの組成物が硬化されてなる絶縁膜等の硬化物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂と、（Ｂ）オキセタニル基を有し、かつガラス転移温度が０℃以下の重合体からなる架橋微粒子と、（Ｃ）オキシラニル基含有化合物と、（Ｄ）感放射線性酸発生剤と、（Ｅ）溶剤とを含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】絶縁膜を形成する際の基板の反りが抑えられ、且つ優れた解像性、電気絶縁性等を有するポジ型感光性絶縁樹脂組成物、及びこれが硬化されてなる硬化物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記式（１）により表される構造単位（ａ１）と、下記式（２）により表される構造単位（ａ２）とを有するブロック共重合体、（Ｂ）架橋剤、（Ｃ）キノンジアジド基含有化合物、（Ｄ）溶剤、を含有するポジ型感光性絶縁樹脂組成物。


［式（１）のＲ^１は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。式（２）のＲ^２は炭素数１〜４のアルキル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】透明性、耐擦傷性に優れ、かつ干渉ムラが抑制されたハードコートフィルムを提供する。
【解決手段】透明プラスチックフィルム基材の少なくとも片面に、（Ａ）屈折率が１．６０以上の金属酸化物粒子、（Ｂ）３官能以上の（メタ）アクリレート化合物を含む組成物の硬化膜であるハードコート層を有するハードコートフィルムであって、前記ハードコート層の膜厚が０．８〜１．５μｍの範囲内であり、ハードコートフィルムのヘイズが１％以下であり、かつ、５４０〜５６０ｎｍの反射率を測定した場合のリップル振幅が０．９％以下であることを特徴とするハードコートフィルム。 （もっと読む）

【課題】基板との密着性が高く、未硬化の液晶シール剤成分による液晶汚染可能性が低減されており、長期安定性に優れた液晶表示素子を提供する。
【解決手段】（Ａ）（メタ）アクリロイル基を有する化合物（Ｂ）有機酸ジヒドラジド化合物（Ｃ）感放射線性重合開始剤、およびに（Ｄ）下記式（１）


（式（１）中、＊は結合手を示す）で表される構造を有する化合物を含有することを特徴とする、硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】単一のＮＤフィルターにおいて再現性よく、かつ簡便に段階的、または連続的に光学濃度を変更するＮＤフィルターおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のＮＤフィルターは、厚さ１ｍｍにおける波長３８０〜７８０ｎｍにおける光線透過率が８５％以上の熱可塑性樹脂（Ａ）と、一次粒子径１０〜８０ｎｍの可視光領域に吸収をもつ金属酸化物および／または金属窒化物（Ｂ）と、赤外線吸収剤（Ｃ）とを含有する組成物（Ｘ）から形成されるＮＤフィルターであって、波長４００〜７００ｎｍにおける光線透過率の平均値Ｔ（ａｖｅ）_(400-700)に対して、光線透過率の最小
値Ｔ（ｍｉｎ）_(400-700)と最大値Ｔ（ｍａｘ）_(400-700)が下記式（１）および式（２）を満たすことを特徴とする。 ０．９２×Ｔ（ａｖｅ）_(400-700)≦Ｔ（ｍｉｎ）_(400-700)・・・（１）１．０８×Ｔ（ａｖｅ）_(400-700)≧Ｔ（ｍａｘ）_(400-700)・・・（２） （もっと読む）

【課題】カラーフィルタによる凹凸が形成されている基板であっても、平坦性の高い硬化膜を形成することができ、しかも、透明性および表面硬度が高く、耐熱耐圧性、耐酸性、耐アルカリ性などの各種の耐性に優れ、さらに樹脂組成物溶液の保存安定性に優れ、液晶表示素子用保護膜を形成できる硬化性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、（Ａ）共重合体、（Ｂ）多官能性化合物並びに（Ｃ）硬化剤を含有する硬化性樹脂組成物であって、（Ａ）共重合体が、エポキシ基含有不飽和化合物を含む重合性不飽和化合物を、下記式（１）で表される化合物の存在下で重合する工程を経て製造された共重合体を含有することを特徴とする保護膜形成用硬化性樹脂組成物によって達成される。
【化１】





〔式（１）において、Ｚ^１およびＺ² は相互に独立に炭素数４〜１８のアルキル基または置換されていてもよいベンジル基を示す。〕 （もっと読む）

【課題】酸の拡散の選択性及び除去性に優れた酸転写樹脂膜が得られる酸転写樹脂膜形成用組成物、これを用いてなる酸転写樹脂膜、及びこの酸転写樹脂膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】オキシムスルホネート系感放射線性酸発生剤、及び式（１）に示す構成単位を有する重合体、を含有する組成物。この組成物を用いてなる酸転写樹脂膜。酸解離性基を有する樹脂を含有し且つ感放射線性酸発生剤を含有しない第１樹脂膜上に、上記酸転写樹脂膜としての第２樹脂膜を形成する第２樹脂膜形成工程を備えるパターン形成方法。
【化１】
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【課題】低比誘電率の硬化パターンを形成できるネガ型感放射線性組成物、これを用いたパターン形成方法並びに硬化パターンを提供する。
【解決手段】本ネガ型感放射線性組成物は、（Ａ１）アルキレングリコール鎖を有するラジカル重合性化合物に由来する構造単位（Ｉ）及びアルコキシシリル基を有するラジカル重合性化合物に由来する構造単位（ＩＩ）を有する重合体、（Ｂ）感放射線性酸発生剤、及び、（Ｃ）溶剤を含有する。本方法は、（１）基板表面に前記組成物用いた被膜を形成する工程と、（２）得られた被膜を熱処理する工程と、（３）熱処理された被膜を露光する工程と、（４）露光された被膜を現像して前駆パターンを得る工程と、（５）得られた前駆パターンを硬化処理して硬化パターンを得る工程と、を備える。本硬化パターンは、前記パターン形成方法によって得られる。 （もっと読む）