【課題】 本発明は、収納部に収納した所定量の薬剤を正確に放出して供給することができる薬剤収納容器を形成することができる蓋材用フィルムを提供する。
【解決手段】 本発明の蓋材用フィルムは、薬剤を収納可能で且つ底部に応力を加えることによって放出口42が形成可能な収納部５を有する薬剤収納部材Ｂの収納部４の開口部が、閉止層１上に表面層２が剥離可能に積層されてなる蓋材用フィルムＡによって閉止され且つ蓋材用フィルムＡから表面層２を剥離、除去した後に閉止層１を押圧して収納部４内に圧力を加えることによって収納部４の底部に形成された放出口42を通じて収納部４内の薬剤を放出可能に構成されている薬剤収納容器Ｃに用いられる蓋材用フィルムＡであって、上記蓋材用フィルムＡは、ポリオレフィン系樹脂を含む閉止層１と、閉止層１上に剥離可能に積層一体化されてなる表面層２とを有する。 （もっと読む）

【課題】従来の硬質（乾式）研磨パッドを用いた場合に生ずるスクラッチの問題を改善し、かつ研磨レートや研磨均一性に優れ、一次研磨だけでなく仕上げ研磨にも対応できる研磨パッド及びその製造方法を提供する。
【解決手段】略球状の気泡を含むポリウレタンポリウレア樹脂成形体を有する研磨層を備える半導体デバイス研磨用の研磨パッドであって、前記ポリウレタンポリウレア樹脂成形体の独泡率が、６０〜９８％であり、前記ポリウレタンポリウレア樹脂成形体の貯蔵弾性率Ｅ’に対する損失弾性率Ｅ”の割合（損失弾性率／貯蔵弾性率）ｔａｎδが、０．１５〜０．３０であり、前記貯蔵弾性率Ｅ’が、１〜１００ＭＰａであり、且つ
前記ポリウレタンポリウレア樹脂成形体の密度Ｄが、０．４〜０．８ｇ／ｃｍ^３であることを特徴とする、前記半導体デバイス研磨用の研磨パッド。 （もっと読む）

【課題】 積層フィルムの最上層フィルムのみを確実かつ容易に剥離可能とする接着構造とその剥離方法の提供。
【解決手段】基材に接着された少なくとも２層からなる積層フィルムの接着構造であって、積層されたフィルムのうち少なくとも前記基材に接着される最下層フィルムは延伸性を有する素材で形成され、積層されたフィルムのうち少なくとも前記最下層フィルム上に積層される上層フィルムは延伸性をほとんどまたは全く有さない素材で形成され、前記最下層フィルムと前記上層フィルムとは互いに剥離可能に積層され、前記基材の接着面の一部には凹部を形成し、該凹部において前記最下層フィルムと前記基材の間に空間を設け非接着面を形成したことを特徴とする積層フィルムの接着構造 （もっと読む）

【課題】従来の硬質（乾式）研磨パッドを用いた場合に生ずるスクラッチの問題を改善し、かつ研磨レートや研磨均一性に優れ、一次研磨だけでなく仕上げ研磨にも対応できる研磨パッド及びその製造方法を提供する。
【解決手段】略球状の気泡を含むポリウレタンポリウレア樹脂発泡体を有する研磨層を含有する研磨パッドであって、前記ポリウレタンポリウレア樹脂発泡体は、Ｍ成分のスピン−スピン緩和時間Ｔ２が１６０〜２６０μｓであり、
前記ポリウレタンポリウレア樹脂発泡体の４０℃、初期荷重１０ｇ、歪範囲０．０１〜４％、測定周波数０．２Ｈｚ、引っ張りモードにおける貯蔵弾性率Ｅ’が１〜３０ＭＰａであり、且つ、
前記ポリウレタンポリウレア樹脂発泡体の密度Ｄが０．３０〜０．６０ｇ／ｃｍ^３の範囲内であることを特徴とする、半導体デバイス研磨用の研磨パッド。 （もっと読む）

【課題】従来の硬質（乾式）研磨パッドを用いた場合に生ずるスクラッチの問題を改善し、かつ研磨レートや研磨均一性に優れ、一次研磨だけでなく仕上げ研磨にも対応できる研磨パッド及びその製造方法を提供する。
【解決手段】略球状の気泡を含むポリウレタンポリウレア樹脂発泡体を有する研磨層を含有する研磨パッドであって、前記ポリウレタンポリウレア樹脂発泡体の縦弾性係数Ｅが４５０〜３００００ｋＰａの範囲内であり、且つ、前記ポリウレタンポリウレア樹脂発泡体の密度Ｄが０．３０〜０．６０ｇ／ｃｍ^３の範囲内であることを特徴とする、半導体デバイス研磨用の研磨パッド。 （もっと読む）

【課題】従来の硬質（乾式）研磨パッドを用いた場合に生ずるスクラッチの問題を改善し、かつ研磨レートや研磨均一性に優れ、一次研磨だけでなく仕上げ研磨にも対応できる研磨パッド及びその製造方法を提供する。
【解決手段】略球状の気泡を含むポリウレタンポリウレア樹脂発泡体を有する研磨層を含有する研磨パッドであって、前記ポリウレタンポリウレア樹脂発泡体の下記式（１）で求められるハードセグメントの含有率（ＨＳＣ）が２６〜３４％の範囲内であり、且つ、前記ポリウレタンポリウレア樹脂発泡体の密度Ｄが０．３０〜０．６０ｇ／ｃｍ^３の範囲内であることを特徴とする、半導体デバイス研磨用の研磨パッド。
ＨＳＣ＝１００×（ｒ−１）×（Ｍｄｉ＋Ｍｄａ）÷（Ｍｇ＋ｒ×Ｍｄｉ＋（ｒ−１）×Ｍｄａ） ・・・（１） （もっと読む）

【課題】加齢臭の消臭性能、洗濯耐久性に優れ、かつ、他の消臭製剤の性能を阻害しない衣類を得る。
【解決手段】アルキルポリアミン誘導体の乳化物と、アミノ変性ジメチルポリシロキサンを混合した溶液を、織物、編地に付着させノネナール消臭性能を有する衣料素材を得、更に、メタクリル酸グラフト重合綿と通常綿、あるいはメタクリル酸グラフト重合綿と通常綿と合成繊維を混紡した糸に、アルキルポリアミン誘導体の乳化物と、アミノ変性ジメチルポリシロキサンを混合した溶液を付着させて、アンモニア及びノネナール消臭性能を有する衣料素材を得る。 （もっと読む）

【課題】研磨レートを確保し被研磨物に対するスクラッチを抑制することができる研磨パッドを提供する。
【解決手段】研磨パッド１０は、湿式凝固法により、流動開始温度が１５０〜２２０℃の範囲のポリウレタン樹脂で形成されたウレタンシート２を備えている。ウレタンシート２は、一面側に、凸部５と、凸部５の間に形成された凹部６とを有している。凸部５の表面が研磨面Ｐを構成している。凸部５には、平均孔径が３０μｍ以下の多数の細孔４が形成されている。凸部５の表面では、細孔４が開孔しており、開孔４ａが形成されている。凹部６では、細孔４より小さい微細孔４ｓが形成されており、表面の開孔が凸部５の細孔４より縮径ないし閉塞されている。ウレタンシート２では、厚み方向に長さを有する気泡の開孔が無形成となり、凹部６により研磨液が循環供給され研磨屑が排出される。 （もっと読む）

【課題】研磨加工時の立ち上げ時間を短縮することができる研磨パッドを提供する。
【解決手段】研磨パッド１０は、湿式凝固法により作製されたウレタンシート２を有している。ウレタンシート２は、一面側にスキン層２ａを有しており、スキン層２ａより内側にナップ層２ｂを有している。ナップ層２ｂには、ウレタンシート２の厚さ方向に沿って縦長のセル３が形成されている。セル３の間には、セル３より小さい孔径の多数の微細孔が形成されている。スキン層２ａ、セル３および微細孔は網目状に連通している。ウレタンシート２は、成膜時の樹脂溶液として、界面活性剤を添加することなく、ポリウレタン樹脂、良溶媒のＤＭＦおよび貧溶媒の水が混合され形成されたものである。界面活性剤の溶出がなく泡立ちが抑制される。 （もっと読む）

【課題】研磨レートを向上させ被研磨物の平坦性向上を図ることができる研磨パッドを提供する。
【解決手段】研磨パッド１０は、軟質樹脂のポリウレタン樹脂と、ポリウレタン樹脂が可溶な溶媒に対して可溶性を有しポリウレタン樹脂より硬質のポリサルホン樹脂とで湿式凝固法により形成された樹脂シート２を備えている。樹脂シート２は、スキン層２ａと、微細孔４が形成された発泡樹脂部２ｂと、発泡樹脂部２ｂに分散形成された球状樹脂３と、を有している。スキン層２ａの表面が研磨面Ｐを形成している。球状樹脂３は、発泡樹脂部２ｂに形成された微細孔４の平均径より大きい平均径を有しており、ポリサルホン樹脂を主体として形成されている。球状樹脂３が発泡樹脂部２ｂと比べて高密度となる。 （もっと読む）