説明

三菱化学株式会社により出願された特許

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【課題】六角棒状GaN系半導体結晶の新規な製造方法を提供する。
【解決手段】GaN系半導体からなり、m面である表面を有する下地結晶10の前記表面上に、前記下地結晶10のc軸に沿って延びる複数のストライプ22を含むマスク20を形成する工程と、前記マスク22が形成された前記表面の上にGaN系半導体結晶30をエピタキシャル成長させる工程と、を含む六角棒状GaN系半導体結晶の製造方法において、GaN系半導体結晶30は下地結晶10の露出面15から成長し始め、マスク20と略同じ厚さのGaN系半導体結晶膜40がまず形成される。更にGaN系半導体結晶30を成長させ続けると、GaN系半導体結晶膜40の上に六角棒状GaN系半導体結晶30が形成される。 (もっと読む)


【課題】輝度が高く、且つ表示不良を起こし難い着色樹脂組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置及び有機EL表示装置を提供する。
【解決手段】(A)臭素化亜鉛フタロシアニン顔料、(B)黄色顔料、(C)バインダー樹脂、及び(D)溶剤を含有する着色樹脂組成物であって、該(B)黄色顔料として、特定のアゾバルビツール酸のニッケル錯体類からなる顔料Y及びC.I.ピグメントイエロー138を含有し、該顔料Y及びC.I.ピグメントイエロー138の合計の含有量が、全(B)黄色顔料に対して、90重量%以上であり、該顔料YとC.I.ピグメントイエロー138の含有比率が、1:4〜3:2であることを特徴とする、着色樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】層状リチウムニッケルマンガン複合酸化物、それを用いたリチウム二次電池用正極材料およびリチウム二次電池を提供する。
【解決手段】層状リチウムニッケルマンガン複合酸化物において、ニッケル及びマンガンサイトの一部が他の置換元素Qで置換されており、球状であることを特徴とする下記一般式(I)で表される菱面体晶の層状リチウムニッケルマンガン複合酸化物。
LiNiMn(1−Y−Z) (I)
(式(I)中、Xは0<X≦1.2の範囲の数を表す。Y及びZは、0.9≦Y/Z≦1.2、及び、0<(1−Y−Z)≦0.25の関係を満たす。QはAl、Co、Fe、Mg、及びCaからなる群から選ばれる少なくとも一種の金属元素である。) (もっと読む)


【課題】高い感度を有し、且つ、使用環境の湿度変化に対する感度の変動が少なく、太陽電池、電子ペーパー、電子写真感光体等の材料として好適に用いることのできる、優れたフタロシアニン結晶を提供する。
【解決手段】フタロシアニン結晶前駆体を芳香族アルデヒド化合物に接触させることにより結晶型を変換する工程を経て得られるフタロシアニン結晶である。 (もっと読む)


【課題】酸触媒を用いて1,4−ブタンジオールからTHFを製造する方法において、反
応速度の低下、固形副生物の生成量を低減し、安定的に高い生産性が得られる工業的に有利なTHFの製造方法を提供する。
【解決手段】ガンマブチロラクトンを含む原料1,4−ブタンジオールを反応槽に供給し、1,4−ブタンジオールに溶解可能なpKaが4以下の均一系酸触媒の存在下で脱水環化反応を行うことによりテトラヒドロフランを生成するテトラヒドロフランの製造方法であって、該反応槽内のテトラヒドロフラン、ガンマブチロラクトン及び水を含むガスを熱交換器に導入し、該熱交換器の出口から凝縮液を得るにあたり、該原料1,4−ブタンジオール中のガンマブチロラクトンの濃度に対する該濃縮液中のガンマブチロラクトンの濃度の比率が20〜100%であるテトラヒドロフランの製造方法。 (もっと読む)


【課題】メタル電極に設けられた延伸部の表面を覆う絶縁膜の剥離が抑制された半導体素子を提供する。
【解決手段】半導体からなる活性層に積層されたn型またはp型の半導体層と、該半導体層の上に配置され接続部および延伸部を有するメタル電極と、該メタル電極の該延伸部の上面および側面を少なくとも覆う絶縁膜と、を備え、該延伸部はメタル多層膜で形成され、該メタル多層膜は少なくとも2層の第1メタル層と、該第1メタル層と交互に積層された第2メタル層とを含み、かつ、その最上層は該第2メタル層のひとつであり、該メタル多層膜に含まれる該最上層の第2メタル層以外の第2メタル層の各々の端面が該延伸部の側面に露出して該絶縁膜と接しており、該第2メタル層を構成する第2メタル材料は該第1メタル層を構成する第1メタル材料よりも導電率は低いが該第1メタル材料よりも該絶縁膜との密着強度に優れている。 (もっと読む)


【課題】サイクル特性の向上と高温保存特性の劣化を抑制する非水系電解液と、この非水系電解液を用いた非水系電解液電池を提供する。
【解決手段】以下の化合物含有する非水系電解液及び該電解液を有する非水電解液電池。(A)下記一般式(1)で表されるホスファゼン類、及び、(B)分子内に少なくとも1以上のイソシアネート基を有する化合物


(上記一般式(1)中、X〜Xは各々独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基またはアリールオキシ基の群から選ばれる少なくとも1種を表し、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。) (もっと読む)


【課題】粗1,4−ブタンジオール中のテトラヒドロフランの発生も抑制でき、且つ2−(4−ヒドロキシブトキシ)−テトラヒドロフランの濃度も低減できる工業的に有利な精製1,4−ブタンジオールを製造する方法を提供する。
【解決手段】2−(4−ヒドロキシブトキシ)−テトラヒドロフランを0.01〜0.5重量%含み、且つ1重量%〜25重量%の水分を含有する粗1,4−ブタンジオールを、アミンの存在下で80℃以上に加熱して、精製された1,4−ブタンジオールを得る、1,4ブタンジオールの製造方法。 (もっと読む)


【課題】THF製造用原料として優れた高品質の1,4BGを安定的に製造するための工業的に有利な1,4−ブタンジオールの製造方法を提供する。
【解決手段】1,4−ブタンジオールを70.0重量%以上、99.4重量%未満含有するpH7.01以上の粗1,4−ブタンジオールを酸と接触させ、得られる粗1,4−ブタンジオール含有液を蒸留することによりpH5.5以上6.99以下の精製1,4−ブタンジオールを得ることを特徴とする1,4−ブタンジオールの製造方法。 (もっと読む)


【課題】欠陥集合領域を含むc−GaN基板を用いて低コストで製造することのできる窒化物系LED素子を提供すること。
【解決手段】一部に欠陥集合領域を含むc−GaN基板上に窒化物半導体膜がエピタキシャル成長しており、該窒化物半導体膜には該c−GaN基板側からn型層、発光層、p型層をこの順に含むメサが形成されており、該欠陥集合領域の影響により該窒化物半導体膜の表面に形成された平坦性低下領域が該メサの上面に含まれており、該メサ上には該平坦性低下領域の少なくとも一部を覆う電極が形成されている、窒化物系発光ダイオード素子が提供される。 (もっと読む)


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