【課題】 複共振化した各共振周波数のフレキシブルな調整が可能で、小型化や薄型化が可能なアンテナ装置用基板及びアンテナ装置を提供すること。
【解決手段】 基板本体と、基板本体にそれぞれ金属箔でパターン形成された第１〜第４エレメントＥＬ１〜ＥＬ４及びグランド面ＧＮＤとを備え、第１エレメントＥＬ１が、基端に給電点ＦＰが設けられていると共にアンテナ素子ＡＴを有して延在し、第２エレメントＥＬ２が、第１エレメントに基端が接続されて延在し、第３エレメントが、基端に給電点が接続されて延在し、第４エレメントが、第３エレメントに基端が接続されて延在し、第１エレメントから第４エレメントまでの各エレメントが、隣接するエレメント同士間の浮遊容量と、グランド面との間の浮遊容量とをそれぞれ発生可能に、隣接するエレメント及びグランド面に対して間隔を空けて延在している。 （もっと読む）

【課題】被処理基板に面内均一なプラズマ処理を行わせることができるとともに、プラズマの逆流を確実に防止して冷却板の損傷及び被処理基板の汚染を防ぐことができるプラズマ処理装置用電極板を提供する。
【解決手段】厚さ方向に貫通する複数の通気孔１１が設けられるとともに、各通気孔１１は、放電面２１に開口する噴出側孔部２２と、その反対面に開口する導入側孔部２３とを厚さ方向の中間部で連結してなり、噴出側孔部２２は、導入側孔部２３との連結部２４から放電面２１に向かうにしたがって相互に離間する方向に傾斜する複数の細孔２５により構成され、導入側孔部２３は、連結部２４における横断面積と同じか又はそれより小さい横断面積を有し、各細孔２５の長さ方向に対して交差する方向に形成されている。 （もっと読む）

【課題】長期間の使用にわたって、すぐれた耐摩耗性を発揮する合金鋼製エンドミル、表面被覆合金鋼製エンドミルを提供する。
【解決手段】 質量％で、Ｃ：２．０〜３．０％、Ｓｉ：３．０〜６．０％、Ｃｒ：９．０〜１５．０％、ＷおよびＭｏのうちの１種または２種の合計：１０．０〜１２．０％、Ｖ：２．０〜３．０％、Ｃｏ：３．０〜４．０％、残部はＦｅおよび不可避不純物からなる高温焼戻し軟化抵抗性を有する合金鋼で工具基体を構成した合金鋼製エンドミル、表面被覆合金鋼製エンドミル。 （もっと読む）

【課題】 短時間での合成が可能で、合成後に含フッ素Ｎ−アルキルスルホニルイミド化合物の回収が容易な含フッ素Ｎ−アルキルスルホニルイミド化合物の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 一般式（１）：（ＲｆＳＯ_２）_２ＮＨ（式中、Ｒｆは、Ｆ又は炭素数１〜４のペルフルオロアルキル基である）で表される含フッ素スルホニルイミド酸、又は一般式（２）：（ＲｆＳＯ_２）_２Ｎ・Ｍ（式中、Ｍは、Ｌｉ、Ｎａ又はＫである）で表される含フッ素スルホニルイミド酸塩を、一般式（３）：Ｒｆ’ＳＯ_３Ｒ（式中、Ｒｆ’は、炭素数１〜４のペルフルオロアルキル基であり、Ｒは、炭素数１〜４のアルキル基である）で表されるペルフルオロアルキルスルホン酸エステルと反応させることを特徴とする、一般式（４）：（ＲｆＳＯ_２）_２ＮＲで表される含フッ素Ｎ−アルキルスルホニルイミド化合物の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 複数のアンテナエレメントに効果的に高周波電流を流すことができると共に、周辺部品の影響を抑制することができるアンテナ装置を提供すること。
【解決手段】 基板本体と、基板本体にパターン形成されたグランド面ＧＮＤと複数のアンテナエレメントＥＬ１〜ＥＬ４とを備え、複数のアンテナエレメントが、給電点ＦＰから互いに別の２方向に向けて延在する第１延在部Ｅ１及び第６延在部Ｅ６のいずれかに分かれてこれらに接続され、基端がグランド面に接続されていると共に先端が第１延在部の途中に接続された第１グランド接続部と、基端がグランド面に接続されていると共に先端が第６延在部の途中に接続された第２グランド接続部と、第１基端部と第２基端部とを連結して延在する連結パターンＬ１とを備え、給電点の近傍に、連結パターンと第１延在部と第６延在部との間で環状の開口パターン部Ｓ１が形成されている。 （もっと読む）

【課題】高硬度材を旋削加工する場合においても、すくい面のクレータ摩耗による被削材の仕上げ面粗度の劣化を十分に抑制することが可能な切削インサートを提供する。
【解決手段】インサート本体１の多角形状をなすすくい面２の辺稜部に、すくい面２の角部に円弧状のコーナ刃７Ａを有する切刃７が形成されており、このすくい面２には、コーナ刃７Ａの突端Ｐからすくい面２の内側に向かう途中ですくい面２が低くなる段差部２Ｂが、コーナ刃７Ａに交差するように形成されている。 （もっと読む）

【課題】プラズマの逆流を抑制して冷却板の損傷を防ぐことができるとともに、被処理基板に面内均一なプラズマ処理を行わせることができるプラズマ処理装置用電極板を提供する。
【解決手段】電極板３は、プラズマ処理装置１内においてウエハ８（被処理基板）と対向配置されるプラズマ処理装置用電極板であって、厚さ方向に貫通する通気孔１１が複数設けられてなり、その通気孔１１は、ウエハ８と対向する放電面３０ａ側に、厚さ方向に対して斜めに形成された傾斜孔部２１を有し、放電面３０ａには、傾斜孔部２１の開口端部を切り欠く凹部２３が形成されており、傾斜孔部２１の傾斜方向に沿う断面において、その傾斜孔部２１の１８０°対向する二つの周縁２１Ａ，２１Ｂと傾斜孔部２１に交差する凹部２３の切欠面２４とのなす角度が、両周縁部で同じ角度に設定されている。 （もっと読む）

【課題】緻密な薄膜の成膜を可能にして、薄膜の耐チッピング性を向上させることができるアークイオンプレーティング装置を提供する。
【解決手段】アークイオンプレーティング装置１は、蒸発源５が載置される陰極の背面中央に設けられる中央磁石１５と、ワーク３の背面に設けられる補助磁石１７とを備え、中央磁石１５と補助磁石１７とは、異なる極を対向させて配置され、ワーク３の成膜面の磁束密度が１ｍＴ以上１４ｍＴ以下となるように設定されている。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、シリコーン樹脂と相溶性がよく、帯電防止が可能な導電性を有するシリコーン化合物を提供することを目的とする。
【解決手段】 ―（ＣＨ_２）_ｍＷ（ＣＨ_２）_ｐＮＲＲ’Ｒ”^＋・Ａ⁻（式中、Ｒ、Ｒ’及びＲ”は、同一又は異なってもよく、水素、メチル基、エチル基又はプロピル基であり、Ａは、炭素数が１〜４のペルフルオロアルキル基を有するペルフルオロアルカンスルホン酸若しくはビス（ペルフルオロアルカンスルホン）イミド、又はビス（フルオロスルホン）イミドを表し、Ｗは、ＮＨ、Ｏ又は単結合であり、ｍ及びｐは１から１０の整数である）で表されるアンモニウム基を少なくとも一つ含む特定のシリコーン化合物塩である。 （もっと読む）

【課題】鋳鉄の高速断続切削加工において、すぐれた耐塑性変形性、耐チッピング性を発揮する表面被覆ＷＣ基ＷＣ基超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】ＷＣを硬質成分として含有し、また、Ｃｏを少なくとも結合相成分として含有するＷＣ基超硬合金を工具基体とし、該工具基体表面に、硬質被覆層（例えば、Ｔｉ化合物層からなる下部層と、酸化アルミニウム層からなる上部層）を被覆形成した表面被覆ＷＣ基超硬合金製切削工具において、上記工具基体の表面から１０〜１００μｍの深さ領域の結合相中の平均酸素含有量は５０００〜１００００ｐｐｍとすることによって高速断続切削における耐塑性変形性、耐チッピング性を改善し、一方、上記工具基体の表面から１０μｍまでの表層領域および１００μｍを超える内部領域における結合相中の平均酸素含有量は２０００ｐｐｍ以下とすることによって工具基体の靭性を確保する。 （もっと読む）