【課題】作業効率がよく、エッチングされる基板の材料の選択範囲も大きい、ウェットエッチング方法を提供する。
【解決手段】パターニングされたクロム層２及びレジスト層３を表面に有するガラス基板１をエッチング液４に浸しウェットエッチングする。その際、アルミニウム又は鉄からなる金属棒６がタンク５内のエッチング液４に浸され、所望のタイミングで、クロム層２の露出面２ａと金属棒６の端部とが接触される。金属棒６と接触されたクロム層２は電気化学反応等により徐々にエッチングされ小さくなり、ガラス基板１のエッチング液４にさらされる部分が徐々に増え、その部分がウェットエッチングされる。これによりガラス基板１のアンダーカット形状が調節され、ガラス基板１にテーパ面７が形成される。ガラス基板１としては、例えば、石英、白板ガラス、青板ガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス、又は鉛ガラス等が適用可能である。 （もっと読む）

【課題】 プラズマディスプレイのような大型基板についてパターニングするに際し、必要とされる高品質な大型フォトマスクを、歩留を大きく向上させ、且つ、製造コストを低減させることが可能なフォトマスク、フォトマスク用のマスクブランク及びこれらを使用した転写方法を提供する。
【解決手段】 ガソーダ石灰ガラスにより構成されたガラス基板上にＣｒ系化合物により遮光部が形成されたフォトマスク又はマスクブランクスであって、ソーダ石灰ガラス中に酸化鉄を含有し、ガラス組成を重量％で表示した場合におけるＦｅ濃度がＦｅ_２Ｏ_３濃度換算にて０．１％を超えて、０．７％以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】エッチングによる加工形状の制御性を向上したハーフトーンマスク、ハーフトーンマスクブランクス、ハーフトーンマスクの製造方法、及びハーフトーンマスクブランクスの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板Ｓに形成された半透過層１１を有する半透過部ＨＡと、半透過層１１とイオン化傾向が異なる遮光層１４が半透過層１１に積層されてなる遮光部ＰＡとを備えたハーフトーンマスク１０であって、半透過層１１と遮光層１４との間に挟まれて半透過層１１と遮光層１４との間を電気的に絶縁する酸化物層１３を備えた。 （もっと読む）

【課題】ゲート電極を有する従来のアノード基板では、エミッタから放出される電子が拡散し、電荷注入効率が悪い。また、各カソード基板相互の間での電荷注入効率がばらつき易い。
【解決手段】処理基板１１上に順次積層したカソード電極層１２、絶縁層１４及びゲート電極層１５を備え、この絶縁層に形成したホール１４ａの底部にエミッタＥを設けると共に、前記ゲート電極層にゲート孔開口部１６を形成する。この場合、ゲート孔開口部を、絶縁層のホールの開口面積より小さい面積を有する複数個の開口１６ａから構成し、各開口を、エミッタに対向して絶縁層のホール直上に密集させる。 （もっと読む）

【課題】異物の侵入などによって弁体部に開閉不良が生じた場合、確実にこれを検出することが可能なマイクロバルブを提供する。
【解決手段】ダイアフラム１２は、開閉検出手段２６を構成する第１の電極（可動電極）を兼ねている。また、第２の基板２０の溝部２２において、ダイアフラム１２と対面する位置に、開閉検出手段２６を構成する第２の電極（固定電極）２８が形成される。 （もっと読む）

【課題】加工性の向上と低コストを可能にしたグレートーンマスクの製造方法を提供する。
【解決手段】基板Ｓ上にＣｒ膜を形成したＣｒ膜ブランクス１０にＣｒエッチング液を用いるエッチングを施すことにより基板Ｓ上に第一開口１１ａを形成する工程する。次いで、第一開口１１ａに、Ｎｉ−Ａｌ、Ｎｉ−Ｃｒ、及びこれらの酸化物、酸窒化物、窒化物からなる群から選択される少なくともいずれか一種からなる半透光膜１４を成膜することにより第一開口１１ａに半透光部１５を形成する。 （もっと読む）

【課題】環境温度の変化に対しても歪みが生じる虞がなく、したがって、圧力−流量特性等の諸特性が変化する虞のないノーマリクローズド型のマイクロバルブを実現することができるマイクロバルブ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のマイクロバルブは、ＳＯＩ基板１１のダイアフラム１２の下面側に弁１３及び固定部１４が設けられ上面側かつ弁１３に相対する位置に絶縁膜１５が設けられた第１の基板１と、ガラス基板２１に溝部２２及び開孔部２３が形成された第２の基板２と、ガラス基板３１に流体の流入口及び流出口３２が形成された第３の基板３とを重ね合わせて接合一体化した構成である。 （もっと読む）

【課題】密着層を有する銀合金膜において、サイドエッチング幅を低減せしめ、所望の微細なパターニング加工を可能とする銀合金膜のエッチング方法を提供する。
【解決手段】リン酸イオン、硝酸イオン、酢酸イオン、及び純水を少なくとも含み、それらのイオンはリン酸、酢酸、リン酸塩、硝酸塩、酢酸塩のいずれかに由来するエッチング溶液を用い、基板上に密着層を介して配されてなる銀合金膜をエッチング処理する。 （もっと読む）

【課題】構造が単純であり、また、歩留まりを向上することができる積層構造体およびガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】湿式エッチング処理により表面１０Ａに微細凹凸構造が形成されるガラス基板１０と、ガラス基板１０の表面１０Ａに積層配置され、湿式エッチング処理のエッチングマスク１１が形成されるマスク材膜１１Ａと、を備えた積層構造体３０において、マスク材膜１１Ａが、低応力で構成されている。 （もっと読む）

【課題】流路などの表面に凹凸形状を安価にかつ高精度に形成することができ、微細凹凸構造のエッヂ部においても適切な加工形状が得られるガラス基板の加工方法を提供する。
【解決手段】本発明のガラス基板の加工方法は、ガラス基板の被加工面を研磨する第１工程Ｓ１と、前記被加工面にエッチングマスクを形成する第３工程Ｓ３及び第４工程Ｓ４と、湿式エッチング処理により前記ガラス基板の被加工面に前記微細凹凸構造をパターン形成する第５工程Ｓ５と、を有する。 （もっと読む）