【課題】アンモニア過水処理以降に、硫酸過酸化水素水のミストが基板に付着することを防止できる、基板処理装置を提供する。
【解決手段】処理部ＰＣは、４つの硫酸過水処理チャンバ１と、４つのアンモニア過水処理チャンバ２とを備えている。硫酸過水処理チャンバ１内において、ウエハＷに対して、ＳＰＭを用いた硫酸過水処理が行われる。硫酸過水処理後のウエハＷは、硫酸過水処理チャンバ１からアンモニア過水処理チャンバ２へ移送され、アンモニア過水処理チャンバ２内において、ＳＣ１を用いたアンモニア過水処理を受ける。アンモニア過水処理チャンバ２は、硫酸過水処理チャンバ１から隔離されているので、アンモニア過水処理チャンバ２内には、ＳＰＭのミストが存在しない。 （もっと読む）

【課題】収容部材内の薬液ミストを含む雰囲気が処理室内に拡散することを防止できる、基板処理装置を提供すること。
【解決手段】処理チャンバ２内において、ウエハＷを保持するウエハ回転機構３は、カップ８内に収容された状態で設けられている。カップ８の上端部には、カーテン形成ノズル３０が設けられている。また、処理チャンバ２内には、ウエハＷの表面にＳＰＭを供給するための移動ノズル１４が設けられている。少なくともウエハＷの表面へのＳＰＭの供給中は、カップ８の上方に水カーテンＷＣが形成され、水カーテンＷＣによって、カップ８の内側の空間を含む水カーテンＷＣの内側の空間と水カーテンＷＣの外側の空間とが遮断される。 （もっと読む）

【課題】非塗布領域に対する流動性材料の付着を防止するマスキングテープが貼付された基板において、非塗布領域と塗布領域との間の境界におけるメニスカスの発生を容易に防止する。
【解決手段】テープ貼付装置により基板９上に貼付されたマスキングテープ１では、第１マスキングテープ１１の第１下面エッジ１１２３が非塗布領域９２と塗布領域９１との間の境界９２０よりも非塗布領域９２の内側に位置しており、第２マスキングテープ１２の第１マスキングテープ１１から外側へと突出する庇部１２０が非塗布領域９２の露出領域９２１を覆う。これにより、基板９上に吐出された有機ＥＬ液が露出領域９２１に付着することが防止され、また、有機ＥＬ液が第１マスキングテープ１１の側面１１０３に付着してメニスカスを形成することも防止される。その結果、非塗布領域９２と塗布領域９１との間の境界９２０におけるメニスカスの発生を容易に防止することができる。 （もっと読む）

【課題】 スペーサ粒子を適正に配置することにより高品質な液晶表示装置を製造することが可能な液晶表示装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】 透明基板上にインクジェット方式によりスペーサ粒子を分散させたスペーサ粒子分散液を吐出することによりスペーサ粒子を含むスペーサ領域を形成するスペーサ領域形成工程と、スペーサ領域が形成された透明基板を加熱することにより、スペーサ粒子分散液から揮発成分を蒸発させるとともに、スペーサ領域のスペーサ粒子を透明基板に固着させる乾燥工程と、スペーサ粒子が固着した透明基板を液体で洗浄することにより、スペーサ領域以外に存在するスペーサ粒子を除去する洗浄除去工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板にリンス液を供給する工程の終了後に、基板に薬液ミストが付着することを防止できる、基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板に対するレジスト剥離処理においては、処理室内において、基板にＳＰＭが供給される。このとき、基板でのＳＰＭの跳ね返りやＳＰＭ中の水分の蒸発などによるＳＰＭのミストが生じ、ＳＰＭのミストが処理室内の空間に浮遊して拡散する。基板へのＳＰＭの供給の終了後、基板にＳＰＭを洗い流すための純水が供給される。この純水の供給と並行して、処理室内の空間に微細な水滴が噴射される。これにより、処理室内の空間に拡散したＳＰＭのミストに微細な水滴がかかり、ＳＰＭのミストが微細な水滴に吸収され、ＳＰＭのミストが処理室内の雰囲気中から排除される。 （もっと読む）

【課題】基板の下面からエッチング液を回り込ませて基板の上面端部をベベルエッチングする技術において、エッチング幅を小さくかつ均一にする。
【解決手段】第１または第２の薬液供給源２１１，２１２から供給されるエッチング液を下面処理ノズル２から吐出するのに先立って、ＤＩＷを下面処理ノズル２から吐出させてウエハ裏面Ｗｂに供給しておく。エッチング液の非等方的な広がりはＤＩＷの層によって修正されるため、エッチング液の局所的な集中に起因するエッチングむらが防止される。このため、ウエハ回転速度を上げたりエッチング液の供給量を少なくすることができ、エッチング幅を小さくすることができる。 （もっと読む）

【課題】状態遷移テストの効率的な実行を支援する状態遷移テスト支援装置を提供する。
【解決手段】状態遷移表生成部２２０では、内部状態とイベントとの組み合わせに対応する情報を記述するためのマトリクス状の組み合わせ情報用セルを有する状態遷移表２１が生成される。状態遷移表設計支援部２３０では、動作特定情報入力受付部２３１が受け付けた情報に基づいて、状態遷移テストとして実行されるべき一連のテストケースからなるテストパスがテストパス生成部２３２によって生成される。テスト支援部２４０では、状態遷移テストの実行中、次にテストが実行されるべきテストケースに対応付けられている組み合わせ情報用セルがテストセル強調表示部２４２によって強調表示され、テスト結果の履歴、エラーの再現手順、進捗状況などの表示部への表示が行われる。 （もっと読む）

【課題】基板にダメージを与えることなく、注入されたイオンの活性化および導入された欠陥の回復の双方を行うことができる熱処理方法および熱処理装置を提供する。
【解決手段】光照射の総時間が１秒以下の光照射加熱において、ピークが発光出力ＬＰとなる出力波形にて半導体ウェハーに光照射を行う第１段階と、そのピークが過ぎた後に発光出力ＬＰよりも小さな発光出力にて半導体ウェハーＷに追加の光照射を行う第２段階と、によって構成される２段階照射を行う。第２段階の発光出力はピーク時の発光出力ＬＰの３分の２以下である。第１段階の光照射時間は０．１ミリセカンド以上１０ミリセカンド以下であり、第２段階の光照射時間は５ミリセカンド以上である。半導体ウェハーの表面温度を概ね一定の処理温度Ｔ２に維持しつつも、表面よりやや深い位置をもある程度昇温することができる。 （もっと読む）

【課題】膜厚を考慮して部分液交換を行うことにより、処理レートを一定の範囲に保持することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】制御部２５は、カウンタ３７で計数された基板Ｗの枚数のうち、厚膜のものに相当する基板Ｗの枚数が通常ライフカウントに達したことに基づき、部分液交換を実施しながら基板Ｗを処理させる。つまり、燐酸溶液の劣化度合いが大きな厚膜のものに相当する基板Ｗの処理枚数を基準にして部分液交換を実施するので、燐酸溶液のエッチングレートを一定の範囲に保持することができる。 （もっと読む）

【課題】オペレータによる簡便な操作入力によって高精度かつ高効率な彩色処理を行う技術を提供する。
【解決手段】まず、線画処理装置１は、オペレータの操作入力に基づき、指定領域を設定するとともに、当該指定領域内に識別点Ｆを設定し、しかる後に、各識別点Ｆが連なる連続領域を彩色した第１・第２識別データ１４Ｄを生成する。さらに線画処理装置１は、第２識別データ１４Ｄで彩色されていない１以上の閉領域を抽出し、各閉領域の面積と、第２識別データ１４Ｄで彩色されている連続領域との面積とを比較することで、１以上の各閉領域の彩色の要否を判定する。そして、線画処理装置１は、線画データ１１Ｄについて、第２識別データ１４Ｄの連続領域と、彩色が必要と判定された閉領域とを同じ色で彩色する。 （もっと読む）