【目的】 基板裏面にチャック跡を生じさせないものでありながら、塗布均一性を損なうことなく、基板の端面や裏面の清浄度を高くできるようにする。
【構成】 基板保持手段３にピン状支持部材１１と規制部材１２とを備え、ピン状支持部材１１の上端を基板Ｗの裏面に点接触させて基板Ｗを支持するとともに、その支持状態の基板Ｗの外周端縁に規制部材１２を点接触して基板Ｗの水平方向の位置を規制し、基板Ｗを鉛直方向の軸芯周りで回転可能に保持する。また、規制部材１２の水平方向外側で基板の外周縁を全周にわたって覆うように環状部材１３を設け、その環状部材１３の上面を平坦に構成し、かつ、環状部材１３と規制部材１２との間に鉛直方向下方に向かうドレン流路１４を備え、遠心力により生じる気流に抵抗を与えながら、基板Ｗから遠心力によって流されるドレンを排出できるように構成する。 （もっと読む）

【目的】 接着剤を使用することなく球体状スペーサ６が凹入部１７から抜け出るのを防止すること、熱処理に際してパーティクルの発生を防止すること、球体状スペーサ６の着脱・交換が容易で、安価に実施できる熱処理装置を提供する。
【構成】 この熱処理装置は、プレート２と、プレート２上に所要の間隔を介して基板１を支持する球体状スペーサ６とを備える。プレート２の上面に球体状スペーサ６の直径より小さい深さを有するスペーサ収納用凹部１７を設け、当該凹入部１７の上面開口寸法Ｓは、球体状スペーサ６の直径より小さく形成する。球体状スペーサ６をスペーサ収納用凹部１７に挿入し、スペーサの頂部を当該開口を通してプレートの上面から上方に突出させて基板１を支持することにより、プレート２と基板１との間に微小間隔ｄを形成する。 （もっと読む）

【目的】 比較的近い色相の２つの色のうちで、一方の色部分をマスク領域とし、他方の色部分をマスク領域から除外する。
【構成】 カラー画像内においてマスクの対象色と対象外色とを指定し、対象色を示す第１の色ベクトルと対象外色を示す第２の色ベクトルとを求める。さらに、第１と第２の色ベクトルとは独立な第３の色ベクトルを設定する。そして、カラー画像内の各画素の色を、第１ないし第３の色ベクトルの線形結合で表わしたときの、第１ないし第３の色ベクトルに対する第１ないし第３の係数をそれぞれ求める。この第１の係数のビットマップデータを２値化することによって、マスクを表わす２値マスクデータが得られる。 （もっと読む）

【目的】 回転体の回転周期や露光ヘッドの副走査方向への移動速度の変動に起因して発生する画像ムラの低減を図る。
【構成】 画像記録装置１００は、螺旋状にマルチビームを走査する装置であって、これに所謂インターレース方式という走査方法を適用したものである。ＬＥＤホルダ３０より出射したｎ本の光ビームＬＢは、ズームレンズ２４によって、その結像の中心間ピッチが記録線密度の逆数の２倍となる様に、フィルム３５上に結像される。ＬＥＤホルダ３０は記録線密度に応じた傾斜角度だけ回動する。シリンダ３６は主走査方向Ｙへ回転し、露光ヘッド２０は副走査方向Ｘへ記録線密度に応じて定まる速度Ｖ_x で移動している。従って、あるブロックラインの走査によって露光された走査線間を、次のブロックラインの走査によって露光することとなり、この様な走査が繰返されることにより、すじ状の画像ムラが低減される。 （もっと読む）

【目的】 外来要因の影響を受けることなく簡素な構造で薬液を安定供給する。
【構成】 薬液混合装置は、基板処理装置の基板洗浄槽１２に薬液と純水とを混合して供給する装置である。この装置は、純水供給管１８と、薬液貯溜容器２２_A 〜２２_D と、薬液供給配管４０と、耐食レギュレータ３４が配置された窒素ガス配管３９とを備えている。純水供給管１８は、基板洗浄槽１２に接続され、純水が通過する。薬液貯溜容器２２_A 〜２２_D は、薬液を貯溜する密閉式の容器である。薬液供給配管４０の先端には、薬液貯溜容器２２_A 〜２２_D から純水供給管１８へと薬液を導く薬液導入弁２０_A 〜２０_D が配置されている。窒素ガス配管３９は、薬液貯溜容器２２_A 〜２２_D から薬液供給配管４０へ薬液を圧送するため、薬液貯溜容器２２_A 〜２２_D 内を耐食レギュレータ３４によって調整された圧力の窒素ガスで加圧する。 （もっと読む）

【目的】 プリアライメント動作を短時間で行なえ、しかもプリアライメント動作の際における基板表面へのスリ傷の発生を抑制する。
【構成】 露光装置１００の基板供給部２００は、Ｘ軸に沿って移動するＸ軸センタリングユニット２３０，２５４とＹ軸に沿って移動するＹ軸センタリングユニット２６０，２８０を有する。各センタリングユニットには、Ｘ軸ガイドピン２１２，Ｙ軸ガイドピン２２０等が突出して設けられている。基板供給部２００に基板Ｋが搬送されると、各軸のセンタリングユニットを中央に移動し、基板Ｋを基板供給部２００の中央にプリアライメントする。２枚目以降の基板Ｋのプリアライメントに際しては、一旦各軸のセンタリングユニットをプリアライメント位置から僅かに後退させておき、この位置から各軸のセンタリングユニットを移動して２枚目以降の基板Ｋのプリアライメントを行なう。 （もっと読む）

【目的】 高温処理された基板を目標温度に高速で冷却するとともに、その冷却後における面内温度分布の均一性を向上する。
【構成】 基板Ｗを載置して冷却する冷却プレート６を設けた処理室５内の天井側に副冷却プレート１８を設け、この副冷却プレート１８により、冷却プレート６上に載置された基板Ｗの上方となる処理室５内の雰囲気温度を、冷却プレート６で基板Ｗを冷却しようとする目標温度に冷却する。 （もっと読む）

【目的】 基板の温度を接触式で測定しながら基板に対し熱処理を施す場合に、熱処理前に基板と測温体との接触状態の適否を自動的に検知できるようにし、生産性を損なうことなく、測温の信頼性を確保し不良な熱処理を未然に防止して歩留まりの低下を防ぐ。
【構成】 測温体12と基板との接触状態が適正であるときの特性値をキーボード14によって入力しメモリ装置16に記憶しておき、加熱状態の測温体に室温状態の被処理基板が接触したときの測温体の温度降下の状態を表わす数値を演算回路20により算出し、その数値と特性値とを比較回路22で比較し、その比較結果に基づいて判定回路24で接触状態の適否を判定し、接触状態が適正でないと判定されたときに異常信号を警報器28へ出力し、基板の熱処理を中止する。 （もっと読む）