説明

ギガフォトン株式会社により出願された特許

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【課題】光学素子の光学特性を安定させる。
【解決手段】ホルダ装置は、圧力差のある2つの空間を隔離する圧力隔壁に取り付け可能であり、且つ、透過型の光学素子を保持可能なホルダ装置であって、前記2つの空間のうち前記光学素子に対して低圧側の空間に配される第1部と、前記2つの空間のうち前記光学素子に対して高圧側の空間に配される第2部とを含むホルダ部と、前記第2部と前記光学素子の間を封止する第1封止部材と、を備えてもよい。 (もっと読む)


【課題】安定してEUV光を生成する。
【解決手段】チャンバ装置は、EUV光の生成が内部の所定の領域で行われるチャンバと、前記チャンバ内に配置され、前記所定の領域で生成されたEUV光を集光する集光ミラーと、前記集光ミラーに付着したデブリのエッチングが可能なエッチングガスを供給する少なくとも1つのエッチングガス供給部と、を備えてもよい。前記集光ミラーは、該集光ミラーのミラー面の中央部から外れた領域で該集光ミラーを貫通するように開口する少なくとも1つの第1貫通孔を含んでもよい。前記集光ミラーは、前記少なくとも1つの第1貫通孔が前記オブスキュレーション領域に実質的に対応する領域内に位置するように前記チャンバ内に固定されてもよい。前記エッチングガス供給部は、前記第1貫通孔の少なくとも1つに配置されてもよい。 (もっと読む)


【課題】レーザチャンバ内の全ガス交換の回数を抑制する。
【解決手段】このエキシマレーザ装置は、ハロゲンガスを含む第1レーザガスを収容した第1容器と、第1レーザガスよりもハロゲンガス濃度の低い第2レーザガスを収容した第2容器と、に接続され、第1レーザガス及び第2レーザガスのレーザチャンバの内部への供給を行うガス供給部を含んでもよい。そして、ガス供給部による第2レーザガスのレーザチャンバの内部への供給、及び、ガス排気部によるレーザチャンバの内部のガスの部分的な排気のいずれかを行うガス圧制御と、ガス供給部による第1レーザガス及び第2レーザガスのレーザチャンバの内部への供給、及び、ガス排気部によるレーザチャンバの内部のガスの部分的な排気の両者を行う部分ガス交換制御と、を選択的に行ってもよい。 (もっと読む)


【課題】安定してEUV光を生成する。
【解決手段】極端紫外光生成装置は、ターゲット物質にレーザ光を照射して極端紫外光を生成する極端紫外光源装置であって、前記ターゲット物質に照射する前記レーザ光を出力するレーザ装置と、前記レーザ光の波面を調節する波面調節器と、前記ターゲット物質で反射された前記レーザ光を結像させる結像光学系と、結像された像を撮像する像検出器と、前記像に基づいて前記波面調節器を制御する制御部と、を備えてもよい。 (もっと読む)


【課題】スペクトル線幅を高精度に制御する。
【解決手段】レーザ装置は、出力するレーザ光のスペクトル線幅を調節可能なレーザ発振器と、前記レーザ発振器から出力された前記レーザ光のスペクトルを検出するスペクトル検出器と、前記スペクトル検出器に入射する前記レーザ光の光強度を調節可能な減衰部と、を備えてもよい。前記減衰部は、レーザ光の入射位置に依存して透過率が変化する可変アッテネータと、前記レーザ光の入射位置が変化するように前記可変アッテネータを移動させる移動機構と、を含んでもよい。 (もっと読む)


【課題】安定したパルスレーザ光を生成する。
【解決手段】極端紫外光生成装置は、ターゲット物質に第1レーザ光を照射する第1レーザ装置と、前記第1レーザ光の照射によって拡散した前記ターゲット物質に第2レーザ光を照射して極端紫外光を生成する第2レーザ装置と、前記第1レーザ光の照射後、前記第2レーザ光の照射前に、該第2レーザ光よりもエネルギーの低い第3レーザ光を照射する第3レーザ装置とを備えてもよい。 (もっと読む)


【課題】チャンバ内に配置された要素の特性や性能が劣化することを抑制する。
【解決手段】チャンバ装置は、レーザ装置および前記レーザ装置から出力されるレーザ光を集光するための集光光学系と共に用いられるチャンバ装置であって、レーザ装置から出力されたレーザ光を通過させる入射口が設けられたチャンバと、チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するように構成されたターゲット供給部と、チャンバ内でターゲット物質にレーザ光が照射することで発生したターゲット物質のデブリを付着させるデブリ入射面を含む回収部と、回収部から流出したデブリを回収する回収容器とを備え、デブリ入射面は、前記デブリが入射する方向に対して垂直でない方向に傾いていてもよい。 (もっと読む)


【課題】単列構成で、パルスレーザ光の1パルス当り又は単位時間当りのエネルギーを抑えながら大きな出力を達成できる極端紫外光源用ドライバレーザを提供する。
【解決手段】このドライバレーザは、レーザ光をターゲットに照射することによりターゲットをプラズマ化して極端紫外光を発生させる極端紫外光源装置において用いられるドライバレーザであって、レーザ媒質としてCOを用いて、時間と共に強度が増加するパルスレーザ光を生成する発振段レーザ装置と、発振段レーザ装置から出力されるパルスレーザ光を、時間と共に減少する増幅率で増幅することにより、レーザ光のパルス幅を伸長する少なくとも1つの増幅器を含む増幅段装置とを具備する。 (もっと読む)


【課題】レーザ光の集光位置を安定化する。
【解決手段】このアライメントシステムは、ガイドレーザ光を出力するガイドレーザ装置と、レーザ光及びガイドレーザ光の少なくとも一方の進行方向を調節する調節機構と、レーザ光及びガイドレーザ光の進行方向を実質的に一致させる光路結合部と、光路結合部の下流側に配置され、レーザ光及びガイドレーザ光を検出する第1の光検出部と、第1の光検出部による検出結果に基づいて、調節機構を制御する第1の制御部と、光路結合部の下流側に配置され、レーザ光及びガイドレーザ光の進行方向を調節するビームステアリング機構と、ビームステアリング機構の下流側に配置され、少なくともガイドレーザ光を検出する第2の光検出部と、第2の光検出部による検出結果に基づいて、ビームステアリング機構を制御する第2の制御部と、を備えてもよい。 (もっと読む)


【課題】チャンバ内を移動するデブリがEUV集光ミラー等の光学素子の反射率又は透過率を低下させることを防止して、長期間安定に極端紫外光を発生することができる極端紫外光源装置を提供する。
【解決手段】この極端紫外光源装置は、チャンバ内のプラズマ発光点に供給されたターゲットにレーザ光を照射して第1のプラズマを生成するドライバレーザと、チャンバ内にガスを供給するガス供給装置と、プラズマ発光点が中心となるように配置されたRFアンテナを含み、ガス及び電気的に中性のターゲット物質を励起して、電気的に中性のデブリを帯電させる第2のプラズマを生成する高周波励起装置と、帯電したデブリの移動方向を制限する磁場を発生する磁場発生装置と、チャンバ内を排気することにより、第1のプラズマから放出され第2のプラズマにおいてガス化されたデブリをチャンバ外に排出する排気装置とを具備する。 (もっと読む)


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