【課題】インライン方式で溶液の状態の蒸着材料を用いて真空蒸着する場合、形成される膜の膜質の劣化の防止が困難である。
【解決手段】蒸着チャンバ１０、隔壁４０で隔てられた副チャンバ２０、隔壁を貫通して蒸着チャンバから副チャンバへ移動可能に設けられた蒸着材料供給ベルト３０、蒸着材料溶液を副チャンバ中において蒸着材料供給ベルト上に供給する蒸着材料溶液供給部（３４）、蒸着チャンバ内の蒸着材料供給ベルト上の蒸着材料が気化するように加熱する加熱部３３、成膜対象物１の保持搬送部を有し、副チャンバにおいて蒸着材料溶液供給部から供給された蒸着材料溶液のうちの蒸着材料を蒸着材料供給ベルト上に残して溶媒を蒸発させて分離し、蒸着チャンバにおいて加熱部で加熱された蒸着材料を気化して得られた蒸着材料の蒸気を成膜対象物に噴出して堆積させ、蒸着材料の膜を形成する構成とする。 （もっと読む）

【課題】真空計への成膜材料の付着を抑制し、真空計の機能の低下を回避することが可能な成膜装置を提供すること。
【解決手段】基板に成膜材料を成膜する成膜装置において、基板が通過する真空環境を形成する真空容器１２３と、真空容器１２３内の真空度を測定する真空計１と、真空計１への付着を抑制する付着抑制手段１０とを備える構成とする。このように、真空計１への成膜材料の付着を抑制する付着抑制手段１０を備える構成とすることで、真空計１への成膜材料の付着を抑制し、真空計１の機能の低下を緩和することができる。 （もっと読む）

【課題】特に成膜基板の大きさに対して成膜領域が十分に小さい場合に成膜領域以外に対する成膜材料の消費量が大きく、生産コストが高くなり、生産性を高める必要があった。
【解決手段】成膜領域を有する複数枚の成膜基板を保持する成膜基板ホルダであって、ホルダ基体（１１ａ，１２ａ，１３ａ）と保持部材（１１ｃ、１１ｄ、１２ｃ、１２ｄ、１３ｃ、１３ｄ）を有し、ホルダ基体は、複数枚の成膜基板の成膜領域を露出するための複数個の開口部（１１ｂ、１２ｂ、１３ｂ）が形成され、成膜領域を除く領域をマスクする部材となり、保持部材は、ホルダ基体の一方の面上に設けられ、開口部からホルダ基体の他方の面側に成膜領域が露出し、成膜領域を除く部分において他の成膜基板と重なり領域を有し、かつ他の成膜基板と接しないようにホルダ基体に対して所定の傾きを有するように、複数枚の成膜基板をホルダ基体の一方の面上に保持する構成とする。 （もっと読む）

【課題】有機膜の真空蒸着に用いられる酸化アルミニウムなどの多孔性セラミックス焼結体は有機膜特性を劣化させる要因となる不純物が多く、成膜する有機膜の安定性及び均一性の制御が難しいので、成膜する有機膜の安定性及び均一性を高めることである。
【解決手段】開口部を有する容器１０内に熱伝導体粉末１２が充填されており、容器１０の底部側から熱伝導体粉末１２に有機膜形成用有機物質１１ｂが含浸されており、開口部を密閉するように蓋部１３が設けられている構成である。 （もっと読む）

【課題】２以上の物質の組成比率を高精度に調整して、ＣＩＧＳ膜などの薄膜を形成する。
【解決手段】多源蒸着薄膜の組成制御方法では、チャンバ１１内に第１物質（Ｓｅ）を供給して加熱した状態において、同じ成膜工程においてチャンバ１１内へ供給される２以上の物質（Ｇａ，Ｉｎ）の組成比率を、チャンバ１１内に配設された振動子２５の付着物による発振周波数の変化に基づいて検出することにより制御し、異なる成膜工程において多段的にチャンバ１１内へ供給される２以上の物質（Ｇａ，ＩｎとＣｕと）の組成比率を、チャンバ１１内に配設された計測板３３の付着物の膜厚を光の薄膜干渉により検出することにより制御する。 （もっと読む）

【課題】ＣＩＧＳ膜などの多元素膜を真空蒸着する際に、蒸着源のノズル近傍での原料の固化を抑制し、多元素膜の組成を一定に制御する。
【解決手段】内部に真空蒸着材料が収容されるタンク部３０上に、第１の方向に延伸して所定の幅で開口するスリット状の第１開口部Ａを有するノズル部（３１，３２）が配置されており、少なくとも第１開口部を露出させる第２開口部Ｂを有してタンク部及びノズル部の外壁を覆うように断熱部３４が設けられている。ここで、タンク部が第１の温度へ、ノズル部が第１の温度より高い第２の温度へ加熱されたときに真空蒸着材料が気化して第１開口部から噴き出す構成である。 （もっと読む）

【課題】ＣＩＧＳなどの多元素膜を真空蒸着する際に多元素膜の組成を一定に制御する。
【解決手段】光透過性の第１の窓１０ａと第２の窓１０ｂを有する成膜チャンバー１０内における多元素膜の成膜対象の基板１４と多元素膜形成用の複数個の蒸着源（１３ａ〜１３ｄ）の間の空間に、第１の窓から所定の波長域の連続光を入射する光源１６と、第２の窓から開口部と基板の間の空間を通過した連続光を受光して２次元的に分光して、２次元画像信号を得る分光部１７と、２次元画像信号を画像処理して原子吸光スペクトルを得て多元素膜を構成する各元素の原子のレートをモニターする信号処理部１８を有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】表面にパターンのある基板上に形成した薄膜層の膜厚が許容範囲内か否かの判別を、高額な膜厚測定器を使わずに短時間で容易に行える方法を提供する。
【解決手段】表面にパターンのある基板上に設けられた薄膜層の膜厚が許容範囲内か否かを判別する方法であって、所定口径を有する光ビームで薄膜層形成前の基板の平均分光反射率（Ｖ_０（λ））を測定し、膜厚が許容範囲内の薄膜層形成後該層の平均分光反射率（Ｖ_１（λ））を測定し、縦軸がＶ_１（λ）／Ｖ_０（λ）で横軸が波長の反射比曲線を形成し、該曲線の山や谷の波長Ｗ_１ｉをｉ個算出して基準値として保存し、別の基板上に薄膜層を形成した後反射比曲線を形成し、かつ波長Ｗ_２ｉをｉ個算出し、ｉ個のＷ_１ｉとＷ_２ｉから演算した値を判別基準値と比較して膜厚の良否判別を行う。 （もっと読む）

【課題】スパッタリングロールコータに組み込まれ多層膜の透過率を継続的に監視可能な簡易構造の透過率モニターを提供する。
【解決手段】このモニターは、光源11と、光源からの光を３光路に分配しその２光路を構成する第一、第二光ファイバ121、122が成膜室１内に導入される分岐光ファイバ12と、第一光ファイバから照射され薄膜が形成された樹脂フィルム100を透過した光を受光する第一受光ファイバ201の端部20、第二光ファイバから照射された光を受光する第二受光ファイバ202の端部19および第三光ファイバ123の端部18がそれぞれ接続される測定光切替器17を備え、第一受光ファイバを経由し測定された透過率と第二受光ファイバを経由し測定された透過率が第三光ファイバを経由し測定された光源光量に基づき補正されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】精度よく薄膜の膜厚を制御することができる、回転円筒ターゲットを備えたスパッタ源、該スパッタ源を備えたスパッタ成膜装置、および該スパッタ成膜装置を用いたスパッタ成膜方法を提供する。
【解決手段】スパッタ室１内に回転円筒ターゲット２を備えたスパッタ源において、前記スパッタ室１内に回転円筒ターゲット２との間に間隙５を有するようにシールド４を設け、該シールド４により前記スパッタ室１を、前記回転円筒ターゲット２のスパッタリングガスイオンの衝撃側の領域１ａと、スパッタリングガスイオンの非衝撃側の領域１ｂとに仕切り、スパッタリングガスを領域１ｂから間隙５を通して領域１ａに導入してスパッタリングする。 （もっと読む）