株式会社アドテックエンジニアリングにより出願された特許

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【課題】 最適な照明条件を得られる位置合わせ用照明装置を提供する。
【解決手段】
CCDカメラ3の周囲からマークを照明するリング形状の照明装置1は照明輝度変更装置10と照明高さ変更装置11と照明色変更装置12及びこれらを制御する制御装置5を備え、照明高さと照明色の組み合わせK=1〜Mについて、照明輝度を1パーセントから100パーセントまで、1パーセント刻みで変化させて、CCDカメラ3によりマーク検出を行い、コントラスト検出/判定装置23によりマークコントラストを検出し、更にバラツキ検出/判定装置24によりバラツキを検出し、これらに基づいて最適な照明条件を決定する。 (もっと読む)


【課題】 プリント配線用基板の片面及び両面露光を効率的に行える露光装置を提供する。
【解決手段】上流露光機1は、プリント配線用基板を載置するプラテン15を備え、露光光16により、プリント配線用基板にフォトマスクのパターンを露光する。下流露光機3も同様に露光光36により露光を行う。反転/搬送機2は反転機の機能と、単なる搬送機の機能を備えており、制御装置5から制御により、反転機モードと搬送機モードに切り換るように構成され、反転機モードの場合には、反転/搬送機2においてプリント配線用基板を表裏反転させ、プリント配線用基板の裏面側を表にして下流露光機3に送る。プリント配線用基板の片面露光の時は、反転/搬送機2を搬送機モードとし、反転/搬送機2はプリント配線用基板を反転せず、そのまま下流露光機3に送る。 (もっと読む)


【課題】 センサの高さ位置を簡単に調整できる高さ計測装置を提供する。
【解決手段】
センサ本体1は、光源10を備え、光源ウインド11を通ってプローブ光15を出力し、対象面55にて反射したプローブ光15を計測ウインド12と計測レンズ13を通してラインセンサ14で受光し、対象面55の高さを計測する。 光源ウインド11の下側に、ビームスプリッタ21が設けられており、プローブ光15を直交方向に分岐してガイド光25とし、該ガイド光25を反射ミラー22で反射させて、スクリーン20上に当てる。スクリーン20は、スリガラスなどの光透過性の拡散板であり、下側から当たったガイド光25のガイド光位置26を上面から視認し、センサ本体1の高さ位置を調整する。 (もっと読む)


【課題】 欠陥の高さ方向位置を検出できる欠陥検出装置を提供する。
【解決手段】ガラス板99は一定の速度vで移動され、ステージ2の位置dはステージ位置検出装置4により検出される。照明装置1からマスク10を介してガラス板99に対して光を所定角度斜めに入射させ、画像検出装置3によりガラス板99下面で反射した反射光を検出する。入射光と反射光の両方で欠陥を検出し、その時間間隔を測定し、コントローラ5は前記所定角度と所定速度vと時間間隔に基づいて欠陥の高さ方向位置を演算する。 (もっと読む)


【課題】 ガラスマスクとマスクホルダの位置合わせ高精度に行うことができるガラスマスクとマスクホルダの位置合わせ装置を提供する。
【解決手段】ガラスマスク50を載せたマスクホルダ51を基台1上に装入し、固定シリンダ12、13によりX基準位置片10とY基準位置片11にマスクホルダ51を押し当てて固定し、マスクホルダ51の位置決めを行った上、リフター21を上昇させて吸着パッド23によりガラスマスク50を吸着固定し、CCDカメラ18から送られる画像に基づいて、アライメントステージ2を動かしてマスクマーク60と基準マーク61を整合させる。整合後、ガラスマスク50をマスクホルダ51により固定し、マスクホルダ51の固定を解除し、次工程に送る。 (もっと読む)


【課題】 光ビームの投射位置の回転調整を精度良くかつ簡単に行えるレーザ直接描画装置を提供する。
【解決手段】DMD7と基板Wとの間に設けられたガラス板1は、長方形の板状をなし、固定枠20に支持されたピエゾ素子21上に保持されている。ピエゾ素子21はガラス板1の相対する2つの端部10、10の両端部、即ち長方形のガラス板1の4つの角部11に設けられ、ねじり制御装置2の制御によりピエゾ素子21abcdのそれぞれを適宜伸長、短縮することにより端部10、10を反対方向にねじる。これにより、ガラス板1の表面角度が変動し、ガラス板1を透過して基板W上に照射するレーザビームの基板W上の照射位置の調整を行う。 (もっと読む)


【課題】 基板の矯正が可能な露光装置を提供する。
【解決手段】
パッキン3に正圧をかけ伸張させ、露光テーブル1と接触させて密閉空間90を生成し、真空吸引孔40と真空ポンプ4により密閉空間90を吸引し、大気圧によりプレート20を押圧し、プレート20と露光テーブル1により基板99に荷重をかけ、基板99を矯正する。吸引ポンプ11による基板吸着圧力が所定の設定値に達したら、真空ポンプ4を停止し、パッキン3を収縮させて搬送装置2を搬入コンベア53上に退避させ、露光を実行する。 (もっと読む)


【課題】 直描露光装置を提供する。
【解決手段】 露光ヘッド部1は複数の露光ヘッド10、11、12、13を有し、これらは副走査方向yに等しいヘッド間隔Wで互いにほぼ平行並べられ、露光テーブル5は、露光ヘッド部1の下側を副走査方向yに移動可能になっており、載置した基板90を各露光ヘッド10、11、12、13の下側に移送し、各露光ヘッド10、11、12、13により基板90を順次露光させる。各露光ヘッド10、11、12、13は、主走査方向xに均等なピッチPで直線上に並べられたLED20のアレイを有し、LED20は各露光ヘッド10、11、12、13間で主走査方向xにピッチずれ量dずらして配設され、副走査方向yの同一部分に各露光ヘッド10、11、12、13により重ねて露光することにより、高位置精度の露光を行う。 (もっと読む)


【課題】 有機材料からなるプリント配線基板に特有な不均一でかつ比較的大きな変形を持つ基板に対しても、最適な位置合せが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】
全体変倍ユニット2はxy方向同一の倍率でフォトマスク7のパターンを倍率Swで拡大縮小し、片変倍ユニット1は全体変倍ユニット2とは独立に任意の一方向ωで所定の倍率Soでフォトマスクパターンを伸縮させ、アライメントスコープ4は、マスクマーク70と基板マーク80の位置ズレαi、βiを検出する。位置ズレ信号αi、βiは、演算制御装置3に送られ、アライメントに必要なパラメータである片変倍倍率So、片変倍方向ωが計算され、更に全体変倍倍率Sw、基板の回転量θ、基板トランスレーションOx、Oy計算され、これに基づいて片変倍ユニット1、全体変倍ユニット2、露光ステージ6が制御され、アライメントが行われる。 (もっと読む)


【課題】 面倒な調整や制御を行わずに同一の露光条件で基板の表裏を露光できる両面露光装置を提供する。
【解決手段】 光源ランプ10から出た光は楕円ミラー11によって集光され、反射ミラー12で折り返された後、フライアイレンズ13部分で焦点を結び、分光ミラー20により反射光と透過光に分光され、光源シャッター21により光量を制御され、コリメーションミラー3で反射され、平行光となり、フォトマスク51、フォトマスク52を透過して基板50の表側と裏側へ照射される。 (もっと読む)


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