説明

日本オクラロ株式会社により出願された特許

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【課題】光変調を制御するための高周波クロック信号を生成する回路を備えた光モジュールの小型化を実現しつつ、光モジュールからの電磁波の放射を抑制する。
【解決手段】多層プリント基板16には、接地されている複数の配線層とアンチパッドにより絶縁されている貫通ビアが形成されている。この多層プリント基板16には、同軸コネクタ18と、高周波クロック信号を生成する強度変調制御IC20と、が設置されており、多層プリント基板16上に形成されたマイクロストリップライン26aを介して高周波クロック信号が同軸コネクタ18に入力される。ここにおいて、上記複数の配線層のうちの第1の配線層と第2の配線層との間の配線層には、上記貫通ビアに接続されたオープンスタブが設けられている。 (もっと読む)


【課題】 安定的に高速動作させることができる光モジュールを提供する。
【解決手段】 光モジュールに、送受信用光素子と、前記送受信用光素子を格納したパッケージと、信号用導体パターンとグランド用導体パターンを備え、前記パッケージ内外の電気的な接続を行う多層セラミック基板と、前記パッケージ外に配置され、前記多層セラミック基板の前記信号導体パターンと電気的な接続を行う第2の基板と、前記信号用導体パターンを含む他の導体パターンよりも前記多層セラミック基板のグランド用導体パターンの方が近い位置に、前記セラミック基板の伝搬経路に沿って配置され、前記パッケージを構成する部材の一部に固定される電波吸収体または電波遮蔽体とを備えさせる。 (もっと読む)


【課題】レーザから出力されるレーザ光の波長が目標波長になる前における、光信号の出力を抑止すること。
【解決手段】
駆動回路6は、レーザ4から出力されるレーザ光の波長が目標波長になるようペルチェ素子5の駆動を制御する。増幅制御回路16は、レーザ光の波長が目標波長になったとき以降は、増幅器14による増幅を、増幅量が基準増幅量になるよう制御し、レーザ光の波長が目標波長になるまでは、増幅器14による増幅を、増幅量が基準増幅量よりも少ない増幅量になるよう制御する。また、減衰制御回路20は、レーザ光の波長が目標波長になったとき以降は、光減衰器18による減衰を、光信号の強度が基準強度となるよう制御し、レーザ光の波長が目標波長になるまでは、光減衰器18による減衰を、光信号の強度が基準強度よりも低い強度になるよう制御する。 (もっと読む)


【課題】埋め込みヘテロ構造を有する半導体光素子において、寄生容量が軽減される構造にすることにより、特性がさらに向上される半導体光素子、光送信モジュール、光送受信モジュール、光伝送装置、及び、それらの製造方法の提供。
【解決手段】メサストライプ構造と、メサストライプ構造の両側にそれぞれ隣接し、メサストライプ構造の上面の両側に広がる上面斜面部と、さらにその外側に広がる上面平坦部とを有する埋め込み層と、スルーホール領域を除いて形成されるパッシベーション膜と、スルーホール領域を覆って形成される電極とを備える変調器部において、前記パッシベーション膜の内縁のうち、出射方向に沿って延伸する延伸部のうち、少なくとも一部は、前記埋め込み層の上面斜面部に及んでいる、ことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】光結合の精度を維持しつつ、光結合装置の軽量化・小型化を実現すること。
【解決手段】光結合装置1は、パッケージ6の底板6aが0.6ミリメートル以下の厚さを有する光結合装置であり、ペルチェ素子5の光軸方向の長さW1に対する、ペルチェ素子5と側壁6bとの光軸方向の距離W2の比率、が0.51より大きく、且つ、ペルチェ素子5の光軸方向の長さW1に対する、基板部材4の光軸方向の長さW3の比率、が0.85以下であり、且つ、基板部材4の光軸方向の中心O2が、ペルチェ素子5の光軸方向の中心O1よりも側壁6b寄りに位置している。 (もっと読む)


【課題】突入電流による過大な光信号の送信を防止する。
【解決手段】光モジュールは、回転軸32を中心に第1位置Pと第2位置Pの間で弧を描く動きをするようにケース10に取り付けられた揺動部材38と、スライダ24のスライドに連動して、ケース10から出入りする部分を有するように動く従動部材44と、を有する。揺動部材38が第1位置Pにあるときに、従動部材44の一部がケース10から突出してケース10のケージ48への挿入を妨げ、カバー部42は光ファイバ56の挿入口を避ける位置で光ファイバ56の差し込みを許容する。揺動部材38が第2位置Pにあるときに、従動部材44の一部はケース10の外側から退避してケース10のケージ48への挿入を許容し、カバー部42は光ファイバ56の挿入口を覆う位置で光ファイバ56の差し込みを妨げる。 (もっと読む)


【課題】1枚のウェハから作製される複数の半導体光素子の特性のばらつきを抑制し、歩留まりが向上する半導体光素子、及び、その製造方法の提供。
【解決手段】活性層と、活性層の上方もしくは下方に形成される回折格子層を備える多層構造を含む、半導体光素子において、回折格子層は、前方端面から、光の出射方向に沿って、後方端面より内側に位置する後端に亘って延伸するよう形成される、ことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 赤色半導体レーザにおいて出力向上,特性の安定化を図る。
【解決手段】 共振器の少なくとも一端にコーティング膜が設けられ、前記コーティング膜は、前記共振器端面に形成される第1層と、該第1層上に形成される第2層とを有する半導体レーザ素子の製造方法において、前記第1層の光学厚さd1と前記第2層の光学厚さd2の和がレーザ光の波長の0.45倍から0.55倍の厚さであり、前記第1層と前記第2層の光学膜厚比d1/d2は、0.54≦d1/d2≦0.95、または1.05≦d1/d2≦1.86の関係となる設計値で、前記第1層と前記第2層とを成膜する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、部品点数を増やさずに、自動的に光伝送モジュールの抜け止めを図ることを目的とする。
【解決手段】ベイル32は、モジュール本体10に支持される支点軸部34と、スライダ26に支持される作用点軸部38と、連結部44と、を有する。作用点軸部38は、第1方向D及び第2方向Dに交差するとともに作用点軸部38の回転軸に交差する方向の移動が規制される。スライダ26がロック位置にあるときに、支点軸部34を回転させるように取っ手部46に外力を加えると、少なくとも連結部44の弾性変形を生じさせながら、作用点軸部38を第2方向Dに移動させて、スライダ26をロック位置からロック解除位置の方向に移動させる。少なくとも連結部44に弾性変形によって生じる応力は、スライダ26がロック位置に戻るように、作用点軸部38を第1方向Dに戻す力として働く。 (もっと読む)


【課題】従来よりも容易に反射光を低減することができる半導体光素子及び半導体光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体光素子1は、結晶層により構成される光導波路部16を含む。光導波路部16には、先細の先端部16aが形成されている。光導波路部16の先端部16aに、結晶層の結晶面方位に沿った方向とは異なる方向に沿った、光が出射される端面16bが形成されている。 (もっと読む)


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