説明

リアライズ・アドバンストテクノロジ株式会社により出願された特許

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【課題】クランプピンを伝って薬液が機構部に侵入しないウェハステージを提供すること。
【解決手段】本発明のウェハステージ10は、複数のクランプピン20によってウェハ30を載置面に位置決めし、載置面の周囲に形成した複数の凹部12と、凹部12の底面12Aに対応する下部に配置した回動源13と、回動源13を回動させる駆動体14とを備え、回動源13の上部に能動側磁石15を設け、クランプピン20の内部下部に受動側磁石16を設け、能動側磁石15と受動側磁石16との磁気結合によってクランプピン20が回動することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】処理液の温度を再現性よく精密に調整することが可能な処理液供給装置を提供すること。
【解決手段】本発明の処理液供給装置は、処理ノズル30には、タンク11A、11B、11Cからの処理液をノズル吐出口32A、32B、32Cに導く往路配管30A、30B、30Cと、往路配管30A、30B、30Cに導かれた処理液をタンク11A、11B、11Cに戻す復路配管40A、40B、40Cと、往路配管30A、30B、30C内の処理液の流路をノズル吐出口32A、32B、32C又は復路配管40A、40B、40Cに切り換えるバルブ50A、50B、50Cとを有し、バルブ50A、50B、50Cの切り換えによって、ノズル吐出口32A、32B、32Cから処理液を吐出させないときには、往路配管30A、30B、30Cの処理液を復路配管40A、40B、40Cを経由してタンク11A、11B、11Cに戻すことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】遠心力とロータによる排液、排気効率を高めることのできる基板処理方法を提供すること。
【解決手段】本発明の基板処理方法は、被処理基板1を載置する試料ステージ2と、試料ステージ2内に配置するスピンロータ3と、スピンロータ3の中心部から液体を供給する供給ノズル4とを備え、スピンロータ3の回転によって、供給ノズル4から供給される液体を被処理基板1の外周方向に排出させることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】基板自体を回転させることなく基板面で薬液を移動させる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】本発明の基板処理装置は、被処理基板4を載置する試料ステージ1と、試料ステージ1の外周に配置される外輪排気ロータ2とを備え、外輪排気ロータ2によって、被処理基板の上面又は下面に存在する液体又は気体に流れを発生させることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】チャンバ内の雰囲気を安定させて従来のトラブルの発生を防止することができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】本発明の洗浄装置は、半導体基板、液晶ガラス基板、磁気ディスク等の被洗浄基板2を容器3内にて洗浄するものであって、空気や不活性ガス等を容器3内に供給する手段5、21、31と、容器3内から空気や不活性ガスを排出する手段とを備え、空気や不活性ガス等を排出する手段は、容器3の圧力を制御する圧力制御手段7Bを有している。圧力制御手段7Bは、圧力計7Cの検出値によりその開度を制御する制御弁7Aを含む。 (もっと読む)


【課題】 工程の簡略化とレジスト膜の膜厚分布の均一化とを両立させるとともに、ウェーハの大口径化にも対応できる塗布膜コーティング装置を提供する。
【解決手段】 音速ノズルより、ウェーハの裏面に向かってガスを噴出させる。ウェーハの裏面に沿って外周側へと流れるガスの流速が、ウェーハの裏面と第2カップとの間で速められ、ベルヌーイ効果により保持される。これによって、ウェーハのバタツキが抑えられる。また、裏面へレジスト液が回り込むのを防止することができる。 (もっと読む)


【課題】 塗布された膜に水分や酸素などの原子・分子レベルの汚染がない膜塗布装置を提供すること。
【解決手段】 被塗布基板を内部に導入して、この基板に膜塗布を行うための塗布容器50,116と、塗布液を保持する塗布液容器20と、前記塗布液容器20から塗布液を前記塗布容器50,116に輸送する液輸送系30とを含む膜塗布装置110において、塗布された膜内における酸素及び水分の内の少なくとも一方の含有を抑制する手段を有する。 (もっと読む)


【課題】複数のカップ部材により複数の洗浄液の排水経路を形成した洗浄装置において、所望の排水経路を簡単な操作で直接形成する。
【解決手段】容器3内に被洗浄基板2を水平状態で保持して回転させるテーブル19と、被洗浄基板2に所望の洗浄液を供給する複数の上部ノズル36A、36B、36C、36Dと、被洗浄基板2の洗浄廃液を所望の排水口22A、22B、22C、22D、22Eに分別排水する排水機構を備える。排水機構は同心円状に配された複数のカップ状誘導壁11A、11B、11C、11Dと、複数のカップ状誘導壁11A、11B、11C、11Dを選択的に動作させる駆動手段14A、14B、14C、14Dで構成されている。駆動手段14A、14B、14C、14Dは、リング状の複数の回転テーブル81、91の各々に形成されたカム82、83、92、93と、このカム82、83、92、93上を摺動する駆動軸13A、13B、13C、13Dを有している。 (もっと読む)


【課題】既存のフッ素樹脂チューブを用いた配管では、酸素透過量に限界があり、且つ、柔軟性の点で問題があった。
【解決手段】フッ素樹脂であるPVDFにパーフルオロモノマーを添加することによってソフト化処理することによって、酸素透過量を著しく低下させることができた。更に、ナイロンチューブを外層に設けることによっても、酸素透過量を低下させることができた。これらのチューブを薬液や超純水の供給装置と洗浄装置、ウエットエッチング装置等の薬液または超純水利用装置との間に用いる。 (もっと読む)


【課題】精密基板の洗浄を行う洗浄装置において、汚染因子再付着防止、自然酸化形成の防止、ウォータマーク防止が可能な洗浄装置を提供する。
【解決手段】被洗浄基板2を容器3内に配置し、容器3内の雰囲気を測定する雰囲気計測器4と雰囲気を制御するガス供給手段5およびガス排気手段6、7を配置した洗浄装置1において、被洗浄面に対向した部位からガスを均一に供給するガス供給手段5、筒状固定軸16、流体軸受け17および回転支持部材18からなる回転保持機構にガスを供給するガス供給手段21、排水機構にガスを排気するガス排気手段7、洗浄液噴射時の雰囲気を制御するガスを供給するガス供給手段31のいずれか一つ以上の手段を具備する。洗浄装置1内の雰囲気を測定する雰囲気計測器4は、任意のタイミングで計測可能であり、引火性成分、可燃性成分、または支燃性成分のいずれか1つ以上の成分を検出可能なものとする。 (もっと読む)


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