基板上のフォトレジストに使用するフォトリソグラフ露光システムは、照射システムと、１以上の対象パターンを有するフォトマスクと、投射光学露光システムと、流体分配システムとからなる。投射光学露光システムは、前記１以上の対象パターンのイメージを前記フォトレジストのイメージ面に向けて前記照射源からの前記放射線を使用して投影すべく配置されている。流体分配システムは、流体を前記投射光学露光システムと前記基板上の前記フォトレジストとの間に配置する。流体は、水の屈折率値より高い屈折率値を有し、且つ約180nmと約300nmとの間の波長においてミリメータ当たり0.8より低い吸光度を有している。 （もっと読む）