本発明は、ヒドリドシランとして実質的に少なくとも１種のシリコン原子最大２０個を有する非環状ヒドリドシランを包含する組成物を、触媒の不在下で２３５℃より小さい温度で熱により反応させる、ヒドリドシランをオリゴマー化する方法、前記方法に従って製造可能なオリゴマー及びその使用に関する。 （もっと読む）

本発明は、固有抵抗を測定するための機器を使用してシラン及びゲルマンの純度を間接的に決定するための方法に関する。本発明はさらに、固有抵抗を測定するための機器を使用した品質管理を含めた、シラン又はゲルマンの工業的製造及び／又は充填のためのプラントに関する。
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本発明は、カルボン酸として遊離されかつシラン加水分解触媒および／またはシラン縮合触媒として使用されうる、種々の炭化水素基で官能化された式Ｉおよび／またはＩＩの２個、３個または４個のカルボキシ基を有する、少なくとも２つの異なる有機酸のカルボキシ官能化された珪素含有前駆体化合物の組成物に関する。更に、本発明は、前記組成物の製造法、ポリマーを架橋するための前記組成物の使用ならびにマスターバッチの形の、前記組成物の配合物に関する。 （もっと読む）

【課題】改善された耐黄変性及び低下された酸化的損傷を有し、少なくとも８９．５％の白色度を有するパルプの製造。
【解決手段】パルプを最初に二酸化塩素と反応させ、かつ二酸化塩素の反応後に中間接続された洗浄なしでモリブデン酸塩又はタングステン酸塩の存在でさらに過酸化水素と反応させる漂白段を用いて、パルプを脱リグニン及び漂白させる。 （もっと読む）

【課題】カチオン的に安定化された沈降ケイ酸分散液の製造方法において、従来技術から公知の方法の欠点の少なくとも幾つかを有さない製造方法、従来技術の二酸化ケイ素分散液の欠点の少なくとも幾つかを有さないか又は低い程度でしか有さないカチオン的に安定化された沈降ケイ酸分散液を提供する。
【解決手段】少なくとも１種の沈降ケイ酸の予備分散液を製造し、それを粉砕装置に供給して粉砕することを含み、その間に、沈降ケイ酸粒子の少なくとも一部の表面及び／又は粉砕の間に新たに生ずる沈降ケイ酸粒子の表面を、少なくとも１種のアミノシランを用いて、該アミノシランがＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を介して前記沈降ケイ酸粒子に共有結合されるように被覆する。 （もっと読む）

本発明は、シリコン融液の新規な粗脱炭法、及びシリコン、好ましくはソーラーシリコン又は半導体シリコンの製造のためのその使用に関する。 （もっと読む）

本発明は、新規なシリコン融液の脱炭法、及びシリコン、好ましくはソーラーシリコン又は半導体シリコンの製造のためのその使用に関する。 （もっと読む）

【課題】ジメトキシメタン（ＤＭＭ）及び芳香族化合物の、８０〜４００℃の範囲の反応温度で酸触媒の存在下での反応がキシレンなどの置換された芳香族化合物を含む場合には、報告される異性体選択性が乏しく、更に、反応収率は許容できるものではなかった。
【解決手段】触媒としてポリマー形の過フッ素化されたスルホン酸を用いて、芳香族化合物とアセタールとの縮合によって１，１−ジアリールアルカンを製造する。 （もっと読む）

本発明は、（メタ）アクリレートの新規の重合法に関し、その際、該重合は、イソシアネートとイミン構造を有する特定の塩基とによって開始される。この新規でかつ意図的に使用可能な方法を用いて、部分的に狭い分子量分布を有する高分子ポリ（メタ）アクリレートを製造することもできる。さらに、この新規の重合法を用いて、例えばブロック−、星型−又は櫛型ポリマーといった極めて多様なポリマーアーキテクチャーが利用可能となる。 （もっと読む）

本発明は、触媒を含む水素化脱塩素反応器内での、水素を用いた四塩化ケイ素の変換のための改善された方法に関する。本発明は、さらに、かかる水素化脱塩素反応器のための触媒系に関する。 （もっと読む）