【課題】選択を特に後方散乱電子及び二次電子に従って容易に行なうことができる検出装
置を有する電子ビーム装置を提供すること。
【解決手段】電子ビーム装置（７）は、電子源（８）と、対物レンズ（１２）と第１およ
び第２の検出器（１９，２１）と第２の検出器（２１）に割り当てられ、第２の検出器（
２１）の物体側に配置された逆電界格子（３６）を備えている。物体（１８）により放出
され第１の検出器（１９）の孔を通過した電子の一部は、逆電界格子（３６）により偏向
され、第２の検出器（２１）により検出されないように、逆電界格子（３６）に電圧が印
加される。 （もっと読む）

【課題】２つのコラムを用いて、試料の加工や解析、検査をする際の焦点調整を容易化する。
【解決手段】第１粒子ビームコラム２と第２粒子ビームカラム３とを有する粒子ビーム装置１に於いて、試料キャリア２４は、第１ビーム軸２１との間に第２角度Ｗ２を、また、第２ビーム軸２２との間に第３角度Ｗ３を成す回転軸２５を有し、それぞれのカラムに対応した第１位置と第２位置の間で回転可能である。第１ビーム軸２１と第２ビーム軸２２は一致点２３で公差し、試料表面が第１位置にあるとき、一致点２３と第１粒子ビームコラム２との距離は、試料表面と第１粒子ビームコラム２との距離より大きく、又、試料表面が第２位置にあるとき、一致点２３と第２粒子ビームコラム３との距離は、試料表面と第２粒子ビームコラム３との距離よりも大きい。 （もっと読む）

【課題】電子顕微鏡に於いて、引出電極や加速電極の電位を固定のままでクロスオーバの位置を自由に調整できる機能を実現する。
【解決手段】光軸に添って配置された、３つの電極により構成される第１電極ユニット２４の第１電極４と第３電極９を所定の第１電位、第２電極８を可変の第２電位とし、更に３つの電極より構成される第２電極ユニット２６を備え、第５電極１６を可変の第３電位とする。また、第１加速装置１７と第２加速装置１８を、それぞれ第４、第５の電位に設定する。 （もっと読む）

【課題】走査用偏向器を有するイオンビームシステムにおいて、イオンビームの高エネルギー動作モード及び低エネルギー動作モードの両方において、高偏向周波数（高速）で、かつ偏向電圧のダイナミックレンジを広くすることなく高精度に偏向できるようにする。
【解決手段】偏向器３９をイオンビーム１９の光軸５の方向に隙間を設けて配設された第１偏向電極５１ａ、５１ｂ、５１ｃ及びこれに対向する第２偏向電極５２ａ、５２ｂ、５２ｃからなる３つの偏向電極対によって構成し、コントローラ７からスイッチ６１を介して各偏向電極に異なる電位を印加できるようにする。第１動作モード（例えば、３０ｋｅＶのイオンビームエネルギー）においては、矢印５５で示すように全部の偏向電極対に偏向電場を発生させる。第２動作モード（例えば、１ｋｅＶのイオンビームエネルギー）においては、偏向電極対５１ａ、５２ａのみに偏向電場を発生させる。 （もっと読む）

【課題】透過型電子顕微鏡法（ＴＥＭ）研究に適した材料試料（ＴＥＭ「薄片」）、特にＨＲＴＥＭ薄片（ＨＲ＝高分解能）、その製造プロセス、及び当該プロセスを実行する装置。
【解決手段】ＴＥＭ薄片を製造するプロセスは、厚さを有する板状基板を支持体に取り付けるステップ（Ｓ１）と、第１ストリップ状凹部を基板の第１面に、支持体に対して第１角度で、粒子ビームを用いて製造するステップ（Ｓ３）と、第２ストリップ状凹部を基板の第２面に、支持体に対して第２角度で、粒子ビームを用いて製造するステップ（Ｓ５）であって、第１ストリップ状凹部第２ストリップ状凹部が、薄肉の重なり領域を形成するようにする。薄片は、厚肉のリム領域及び薄肉の中央領域を有し、第１ストリップ状凹部を薄片の第１の平坦面に、第２ストリップ状凹部を薄片の第２平坦面に有し、第１凹部及び第２凹部は、相互に鋭角又は直角を形成する。 （もっと読む）

【課題】選択を特に後方散乱電子及び二次電子に従って容易に行なうことができる検出装置を有する電子ビーム装置を提供すること。
【解決手段】電子ビーム装置（７）は、電子源（８）と、対物レンズ（１２）と第１および第２の検出器（１９，２１）と第２の検出器（２１）に割り当てられ、第２の検出器（２１）の物体側に配置された逆電界格子（３６）を備えている。物体（１８）により放出され第１の検出器（１９）の孔を通過した電子の一部は、逆電界格子（３６）により偏向され、第２の検出器（２１）により検出されないように、逆電界格子（３６）に電圧が印加される。 （もっと読む）

【課題】物体を広い領域にわたり所望の形状に加工する。
【解決手段】粒子ビームを物体の表面にわたって走査して物体から出射する電子を検出するステップと、検出した電子に基づき物体表面の高さを求め求め、予め決定された物体表面の高さとの間の高低差を求めるステップと、物体の表面における複数の場所それぞれの加工強度を、求めた高低差に基づき決定するステップと、物体の複数の場所から材料を除去するか又は物体の複数の場所に材料を堆積するために、決定した加工強度に基づき、粒子ビームを複数の場所に指向させるステップと、を有する。 （もっと読む）

【課題】必要とされる空間がより少なく、対物レンズ外部の磁界が最小限である電子顕微鏡システムのための対物レンズ、被検物体の像形成および操作を同時に行うための改良検査システムを提供する。
【解決手段】内側磁極片111と外側磁極片112との間に、磁極片間隙119が形成された、集束磁界を発生させるための磁極片装置と、光軸101に関して実質的に回転対称であり、かつ内側磁極片111内を光軸101に沿って伸びる下端を有するビーム管113およびビーム管の下端から離間して設けられた端子電極114をさらに有し、集束静電界を発生させるための電極装置とから成り、物体面に配置可能な物体を像形成するための磁界集束および静電集束を用いた。 （もっと読む）

【課題】試料の構造を高いコントラストで撮像する。
【解決手段】粒子ビーム装置の試料室に導入した試料４の表面５６の特定の位置上にコントラスト剤前駆体５１を供給した後、粒子ビーム５０および／または光ビーム４７を前記特定の位置に供給する。粒子ビーム５０および／または光ビーム４７とコントラスト剤前駆体５１の相互作用によってコントラスト剤層５２を試料４の表面５６の特定の位置に貼付する。所定時間の間、試料４の表面５６上にコントラスト剤層５２を残す。所定時間の間、コントラスト剤層５２の第１の部分５３は試料４内に拡散し、コントラスト剤層５２の第２の部分５４は試料４の表面５６上に残留する。光学装置および／または粒子光学装置および／または粒子ビーム５０を用いて試料４を撮像する。 （もっと読む）

【課題】入射像面および入射瞳面を有し、試料を通過した電子の分析方法として１種類またはそれ以上の種類の分析方法を実施可能とする、適応性の高い分析系を備える透過電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】試料面内９ｂに試料を配置した透過電子顕微鏡は、対物レンズ１１ｂ、複数のレンズを有する第１投影レンズ系６１ｂ、複数のレンズを有する第２投影レンズ系６３ｂ、および分析系を備える。試料面９ｂは中間像面７１内に結像され、対物レンズ１１ｂの回折面１５ｂは中間回折面６７ｂ内に結像され、（ａ）中間像面は分析系の入射像面内に結像され、中間回折面は分析系の入射瞳面内に結像されるか、または、（ｂ）中間像面７１は入射瞳面６５ｂ内に結像され、中間回折面６７ｂは入射像面２１ｂ内に結像される。 （もっと読む）