シリコンウエハからシリコンを剥離するための水素イオン注入装置は、その外周の周囲で５０以上のウエハを運搬し、軸を中心に回転する、大型の走査ホイール（１４）を使用する。一実施形態において、ホイールの回転の軸は、固定され、水素イオンのリボンビーム（１０１）は、ホイールの外周縁上で下向きに方向付けられる。リボンビームは、ホイール上でウエハの放射状幅全体に延在する。ビームは、少なくとも１００ｍｍの断面外径を有する抽出リボンビームを提供する、イオン源（１６）によって生成される。イオン源は、イオン源のプラズマを閉じ込めて均一フィールドを提供するように、コアレスの鞍型コイル（１１２、１１２ａ〜ｃ）を使用する場合がある。リボンビームは、リボンの平面内でビームを屈曲する９０偏向電磁石（１７）を通過する場合がある。
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