Fターム[2F064GG00]の内容
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Fターム[2F064GG00]に分類される特許
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3D表面形状測定と組み合わされた位相ステッピングシェアログラフィーのための低コヒーレント干渉計システム
光干渉システム、基板処理装置及び測定方法
形状測定装置および形状測定方法
【課題】検出用走査を行うことなく、ワンショット撮影により、高さ方向のダイナミックレンジの大きい、被検面の1ライン上の微細な凹凸形状情報を容易に取得し得る、形状測定装置および形状測定方法を提供する。
【解決手段】 空間的にインコヒーレントで広帯域スペクトルを有する光を射出する面状の光源10からの照明光を、対物レンズ13A、Bを介して参照面14および被検面20に照射し、得られた参照光と測定光を干渉させ、その干渉光をスリット16Aにより線状に整形し、分光器16により分光し、2次元撮像手段17により得られたスペクトル干渉情報に基づき被検面20の形状を解析する。光源10、被検面20、スリット16A、および光源10、参照面14、スリット16Aは各々互いに共役である。被検面20を介する系路の光路長と、参照面14を介する経路の光路長との間にオフセットが設けられる。
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距離測定装置、位置測定装置、及び距離測定方法
【課題】外乱の影響を受けにくい距離測定装置を提供する。
【解決手段】本発明を例示する距離測定装置の一態様は、光周波数コム光源(11)が発振する光パルス信号(S)を光電変換して電気信号に変換する光電変換部(12)と、前記光電変換部が生成する電気信号(S’)から、前記光パルス信号の複数種類のモード間ビート信号を分離して抽出する分離抽出手段(13−1、13−2、13−3、13−4)と、抽出された前記複数種類のモード間ビート信号の間の強度関係と、前記複数種類のモード間ビート信号の間の周波数関係とに基づき、前記光周波数コム光源から前記光電変換部までの距離(D)を算出する演算手段(14)とを備える。
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放物面照明/結像光学系及び傾斜結像面を有する干渉計
【課題】表面を検査するフィゾー干渉計の対物光学系を最適化する。
【解決手段】基準表面と検査表面18の虚像を形成するオフアクシス放物面反射器30及び虚像をカメラ検出器表面48上の実像に変換するカメラレンズ系46がフィゾー干渉計10に組み込まれる。カメラ検出器表面48は、カメラレンズ系46とともに、オフアクシス放物面反射器30による虚像の傾きに適応するように配置される。オフアクシス放物面反射器30に対して配置された実効光源26およびコリメート光を垂直入射で受け、光の第1の部分を反射し、光の第2の部分を透過させるために配向されたフィゾー基準表面16も含まれる。
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光波干渉計測装置
【課題】空気組成に空間的な分布があっても高精度な屈折率補正が可能な測長干渉計を提供する。
【解決手段】干渉計測用の多波長光源10を用いて、参照面52と被検面53の間の光路長差を計測して該光路長差の幾何学的距離を算出する光波干渉計測装置において、分圧計測用光源20と、多波長光源の波長における空気の分散を計測する分散干渉計30と、分散干渉計における空気の成分気体の分圧を計測する第1分圧検出器40と、多波長光源の波長における参照面と被検面の間の光路長差を計測する測長干渉計50と、測長干渉計における成分気体の分圧を計測する第2分圧検出器60と、第1分圧検出器の検出結果によって分散干渉計における成分気体以外の空気分散比を算出し、成分気体以外の空気分散比と第2分圧検出器の検出結果から測長干渉計の空気の分散を算出し、参照面と被検面の間の光路長差の幾何学的距離を算出する解析器70とを有する。
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干渉測定装置及び測定原点決定方法
【課題】 測定後の原点を高精度に設定することができ、被測定物の変位情報(絶対変位情報)を高精度に測定することができる干渉測定装置を得ること。
【解決手段】 第1光源手段からの第1の光束と第2光源手段からの第2の光束を合波する第1の合波手段と、第1の光束と第2の光束が合波された光束を、2つの光束に分割し、一方の光束を被測定物の測定面に入射させ、他方の光束を参照面に入射させ、測定面からの反射光束と参照面からの反射光束を合波する光学系と、
測定面と参照面からの反射光束とに含まれている分割された2つの第1の光束により形成される光束と、2つの第2の光束により形成される光束を受光する受光手段と、
受光手段で受光した第1の光束に基づく第1の信号と受光手段で受光した第2の光束に基づく第2の信号とを用いて測定原点を決定する決定手段を有すること。
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傾斜角度測定装置
【課題】互いに離間した複数の平面または回転対称な線織面からなる被検面の傾斜角度を、被検面を傷付けることなく、高精度に測定することが可能な傾斜角度測定装置を得る。
【解決手段】アライメント用反射平面41および測定光偏向用反射面42A,42Bを有する反射素子40を、被検面91A,91Bから離間した位置に保持し、干渉計10から反射素子40に向けて測定光を照射する。アライメント用反射平面41からの戻り光により形成される干渉縞画像に基づき、干渉計10に対する反射素子40のアライメントが調整される。測定光偏向用反射面42A,42Bにおいて偏向されて被検面91A,91Bに照射され、再帰反射されて測定光偏向用反射面42A,42Bを経由し干渉計10に戻る被検光により形成される干渉縞画像に基づき、被検面91A,91Bの相対傾斜角度が解析される。
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干渉対物レンズ及び当該干渉対物レンズを備えた光干渉測定装置
【課題】測定・観察の可能な測定対象物の選択範囲を増加させ、作業性を向上させることのできる構成を有する干渉対物レンズ及びこの干渉対物レンズを備えた光干渉測定装置を提供する。
【解決手段】光出射部10からの光を測定対象物Wに照射する干渉対物レンズ30において、干渉対物レンズ30の先端部には干渉光学系100が設けられ、干渉光学系100は、光出射部10からの光を測定対象物Wに対して収束させるレンズ群130と、レンズ群130よりも光出射部10側に配される参照ミラー120と、レンズ群130の光軸L方向の中央に配され、光出射部10からの光を参照光路と測定光路とに分岐させると共に、参照光路からの反射光と測定光路からの反射光とを干渉光として出力させるハーフミラー140と、を備え、レンズ群130は、ハーフミラー140に対して光軸L方向の一方と他方とが対称となるように構成されている。
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非球面体測定方法および装置
【課題】非球面体の内部屈折率分布の影響を受けることなく、また、非球面体が測定光を透過しないものである場合でも、面ずれ量および面倒れ量を測定できるようにする。
【解決手段】第1干渉計1Aと第2干渉計1Bとを用いた反射波面測定により、非球面レンズ9の第1レンズ面91および第2レンズ面92の形状データを求め、各形状データをツェルニケ多項式で近似する。そのときのツェルニケ多項式の係数Z1,Z2,Z6およびZ7の値に基づき、第1測定光軸L1に対する第1レンズ面91のシフト量およびチルト量および第2測定光軸L2に対する第2レンズ面92のシフト量およびチルト量を求める。求められた各々のシフト量およびチルト量と、第1干渉計1Aおよび第2干渉計1Bの相対位置関係とに基づき、面ずれ量および面倒れ量を算出する。
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干渉計
【課題】撮像面により生じるノイズを減らし干渉縞の測定精度を向上させることができる干渉計を提供する。
【解決手段】干渉計1は、第一の光軸C1上に光束L1を出射する光源2と、第一の光軸上に配置された参照面7aと、参照面で反射された光束L2と、第一の光軸上に配置された被検面W1で反射された光束L3、または第一の光軸上に配置された被検物Wを透過した後に反射されて再び被検物を透過した光束と、を干渉させた干渉光L4を、第一の光軸に交差する第二の光軸C2上に反射するビームスプリッタ4と、第二の光軸上に配置され干渉光を撮像するとともに、自身の法線が第二の光軸に対して傾くように配置された撮像面14を有する撮像手段と、を備える。
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レーザ干渉測長器、それを用いた加工装置および被加工物の加工方法
【課題】測定用干渉計の測定出力を補正用干渉計の測定出力を用いて補正する際に、屈折率分布の影響による補正誤差を低減し、測定精度の向上を図ること。
【解決手段】レーザ光の干渉を利用したレーザ干渉測長器100が、移動体33の変位によって測定出力を生じる測定用干渉計51と、距離一定の基準間隔における空気屈折率変化によって測定出力を生じる補正用干渉計52と、を備えている。演算処理装置60は、空気屈折率変化の影響を補正した測定対象変位量を演算する。補正用干渉計52から照射される補正用レーザ光は、測定用干渉計51を透過することにより、測定用干渉計51から照射される補正用レーザ光と同一光路を辿り、測定用レーザ光が通過した空気屈折率の変化に対応した干渉光となり演算処理装置60に出射される。
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レーザ干渉変位測定装置およびこの装置を用いた平面モータ
【課題】ターゲットミラーの傾きにより生じるレーザ光のオーバーラップの影響を緩和して干渉計光軸調整範囲を広げることにより汎用的な製品を提供する。
【解決手段】レーザ光を分光し、分光したレーザ光の一方をターゲットミラーで反射させて前記分光した他方のレーザ光と干渉させ、干渉により生じた干渉縞を光検出器により電気信号に変換してターゲットミラーの変位を測定するレーザ干渉変位測定装置において、前記レーザ光としてパワー分布がほぼフラットなトップハットレーザを用いた。
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干渉計及び面形状測定方法
【課題】被検面が非球面であってもその面形状を高精度に測定する。
【解決手段】測定光発生用の光ファイバー18Mから射出して被検面2Sを介した測定光LMと参照光とを干渉させて得られる干渉縞35に基づいて被検面2Sの面形状を測定する干渉計10において、複数の位置QA〜QCで参照光LA〜LCを射出する参照光発生用の光ファイバー18A〜18Cと、参照光LA〜LCの発生を切り替えるシャッター24A〜24Cと、参照光毎に得られる干渉縞から求められる面形状を合成する信号処理装置32とを備える。
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位置計測装置およびそれを用いた露光装置
【課題】 干渉計と波長補償器の出力をデジタル信号に変換するときの量子化誤差に起因する計測誤差を低減した位置計測装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 移動体の位置を計測する干渉計と、前記干渉計の計測光の光路における気体の状態に起因する前記計測光の波長変動を補償する波長補償器と、前記干渉計と前記波長補償器の出力に応じた位置計測値を出力する制御器と、を備える位置計測装置であって、前記制御器は前記干渉計および前記波長補償器の出力をデジタル信号に変換するアナログ/デジタル変換器を含み、前記波長補償器の出力をデジタル信号に変換するときの分解能が、前記干渉計の出力をデジタル信号に変換するときの分解能よりも高い。
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光波干渉計測装置
【課題】 被検面と参照面間の距離制約無く合成波長を用いた距離計測を簡易に実現可能な光波干渉計測装置を提供すること。
【解決手段】 光波干渉計測装置は、多波長光源1、偏光光学素子5、参照面6、被検面7、分光光学素子8、位相検出器9a、解析装置10を備える。多波長光源1は複数の狭帯域なスペクトルを持つ。偏光光学素子5は多波長光源1からの光束を直交する2つの偏光に分離する。参照面6は偏光光学素子5からの第1の光束を反射する。被検面7は偏光光学素子5からの第2の光束を反射する。分光光学素子8は参照面6で反射した第1の光束および被検面7で反射した第2の光束のそれぞれを分光する。複数の位相検出器9aは分光された第1,第2の光束のスペクトル毎の干渉信号の位相を検出する。解析装置10は複数の位相検出器9aからの信号に基づいて多波長光源1の合成波長の範囲で参照面6と被検面7との間の光路長差を算出する。
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光波干渉計測装置
【課題】 安価な光波干渉計測装置を提供すること。
【解決手段】 第1の多波長光源から射出し被検面で反射した被検光束と、前記第1の多波長光源と異なる波長を持つ第2の多波長光源から射出し参照面で反射した参照光束の干渉信号を検出し、前記参照面と前記被検面の光路長差を計測する光波干渉計測装置において、前記第1の多波長光源と前記第2の多波長光源は、広帯域な波長を持つ光源と光学フィルタとを有することを特徴とする構成とした。
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深さ測定装置および深さ測定方法
【課題】凹部を有する被測定物に対して傷を付ける恐れなく、かつ精度よく凹部の深さを測定できる深さ測定装置および深さ測定方法を提供すること。
【解決手段】基台11と、被測定物100が載置される載置台17と、を有し、基台11と載置台17とが相対移動可能な移動ステージ10と、載置台17に対して着脱自在で被測定物100と置き換えて載置可能に設けられ、光線を反射可能な平面状の反射部を有する平面板と、基台11に設けられ、可干渉性の光束を参照光と測定光L50とに分割し測定光L50と参照光との光路差に基づく干渉縞を観察する干渉縞観察部20と、載置台17に載置された前記平面板に対して測定光L50が照射された際に前記干渉縞の本数が最少となる基台11と載置台17との位置関係を原点とした基台11と載置台17との相対移動量を測定する移動量測定部30と、を備える。
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薄膜構造の特性評価を含む、偏光解析、反射光測定および散乱光測定のための干渉計法
【課題】 薄膜構造の特性評価を含む、偏光解析、反射光測定および散乱光測定のための干渉計法を提供する。
【解決手段】検出器上で参照光と干渉するように、或る範囲の角度にわたってテスト物体から出射するテスト光を結像することであって、テスト光および参照光は共通の光源から生成される。それぞれの角度毎に、テスト光がテスト物体から出射する角度に依存する速度で、テスト光および参照光の干渉する部分の間にいて、光源から検出器までの光路長差を同時に変更すること、および、それぞれの角度毎に光路長差を変更しながら、テスト光と参照光との間の干渉に基づいて、テスト物体の光学特性の角度依存性を特定することからなる方法。
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光路長の判定装置及び判定方法
本発明は光路長差判定及び光干渉断層撮影の方法に関し、次の各工程、つまり、空間単一モードにて発光するか、適切な手段(F)により発光が空間単一モードに制限される光源(SQ、BQ)により空間コヒーレントな光を発生させる工程と、前記光源からの光の少なくとも一部を2つの空間的に離れた光路に分割する工程と、少なくとも2つの検出器(D)か少なくとも2つの検出素子(D)を有する1つの検出器(D、A)及び光線を誘導するための他の手段(S、T、BP、F、Q、L、G、Z)を用い、参照光路及び測定光路の光を検出器/検出素子(D)に導いて干渉させる工程と、検出器/検出素子(D)における光強度を受け取り分析してデータセットを得る工程と、データセットの数値的分析及び表示を行い、試料(P)又は試料(P)内の構造における空間的位置及び反射又は散乱の強度の両方を求める工程とを有する。
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