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Fターム[2H025BH00]の内容

フォトレジストの材料 (104,520) | 溶解性以外の物性がかわる感光材料 (371)

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【課題】複雑な構成を用いることない、描画開始から終了に至るまでの全体にわたって欠陥のない滑らかなパターン形成方法を実現することを目的とする。
【解決手段】保護剤で被覆して安定化した超微粒子を基板に接触させ、基板上にエネルギービームを照射しながら基板上を走査することで超微粒子を基板上に固定するパターン形成法において、エネルギービームの照射開始時にエネルギービームのエネルギーをエネルギービームの照射開始点のパターン中央部に欠陥が生じないよう所定時間かけて増加させることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ブロック共重合体を利用した微細パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】相互隣接した第1領域の間に第2領域が限定されるように、複数の第1領域が存在する基板で複数の第1領域を処理して第1パターンを形成し、第1領域及び第2領域上に第1成分及び第2成分を含むブロック共重合体を、ブロック共重合体の第1成分が第1領域上にアラインされるように配列させ、ブロック共重合体の第1成分及び第2成分のうち一つの成分を選択的に除去して、第1領域とそれに隣接した第2領域とのピッチよりさらに小さいピッチを有する第2パターンを形成する微細パターンの形成方法である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、光や電子線に対する感度が高く、より少ない露光で、明瞭かつ微細なパターンを形成可能なレジスト材料を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】上記目的を達成するために、本発明は、金属化合物を有するレジスト材料であって、上記金属化合物を構成する金属元素が、第14族または第15族の金属元素であり、かつ、上記金属化合物が化学量論的に不完全な化合物であることを特徴とするレジスト材料を提供する。 (もっと読む)


【課題】アゾベンゼン基ポリマーを利用した微細パターニング方法、及び微細パターニング方法を利用した窒化物系半導体発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】被エッチング層上にアゾベンゼン基ポリマーフィルムを形成するステップと、アゾベンゼン基ポリマーフィルムに干渉レーザビームを照射して、アゾベンゼン基ポリマーの光物理的な物質移動特性による微細パターンの表面凹凸を形成するステップと、表面凹凸パターンのアゾベンゼン基ポリマーフィルムをエッチングマスクとして利用し、被エッチング層をエッチングするステップと、前記アゾベンゼン基ポリマーフィルムを除去するステップと、を含む微細パターニング方法である。 (もっと読む)


【課題】2光子吸収化合物の2光子吸収を利用して屈折率変調、吸収率変調または発光強度変調による記録を高感度にて行った後、光を記録材料に照射してその反射率、透過率または発光強度の違いを検出することにより再生することを特徴とする2光子吸収光記録再生方法及びそのような記録再生が可能な2光子吸収光記録材料を提供するものである。特に、記録の暗保存性を向上させた2光子吸収光記録材料を提供することである。
【解決手段】少なくとも、2光子吸収により励起状態を生成する2光子吸収化合物と、2光子吸収化合物励起状態から電子移動もしくはエネルギー移動することにより発色反応もしくは消色反応を起こし、その結果屈折率変調または吸収率変調による記録を行うことができる記録成分と、塩基性部位、カチオンまたはアニオンを側鎖に有するポリマーとを含む2光子吸収光記録材料。 (もっと読む)


【課題】
製造の複雑さを過度に増大させることなく、分子レベルで微細パターンの表面ラフネスを制御できる製造方法を提供すること。
【解決手段】
本発明のナノパターンの製造方法は基板に光異性化化合物を有する配向膜を形成する工程と、前記配向膜上に、主鎖および側鎖を有する液晶性高分子を含有する液晶層を形成する工程と、直線偏光している紫外線を前記配向膜に照射して、前記紫外線により光異性化した光異性化化合物に対応して前記液晶層の液晶性高分子の主鎖を所定方向に配向させる工程と、前記液晶層をマスクとして、前記基板の異方性ドライエッチングを行い、前記液晶性高分子の側鎖の長さに対応した一定のピッチの凸部を有するナノパターンを形成する工程とを備える構成とする。 (もっと読む)


【課題】樹脂液の保存安定性が良好であり、側面段差が小さく、表面平滑性に優れ、高精度の光造形物を得ることができる光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)式(1):


[式中、Rは、Rが複数ある場合には相互に独立に、一価の有機基であって、少なくともその一つは一価の芳香族基である。nは、1〜5の整数である。]で表される構造を有する化合物、(B)フェノール性水酸基及び/又は亜リン酸エステル基を有する化合物、(C)カチオン重合性化合物、(D)ラジカル重合開始剤、(E)ラジカル重合性化合物、(F)ポリエーテルポリオール化合物を含有してなる液状樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】文書や画像の再形成可能な紙、画像再形成可能な一時的文書もしくは画像形成媒体、ならびにそれらの製造方法および使用方法を提供する。
【解決手段】基体と、前記基体上にコーティングされたフォトクロミック物質およびポリマーバインダーを含む画像形成層とを含み、前記フォトクロミック物質が、前記ポリマーバインダー中で無色状態と着色状態の間で可逆的均一−不均一変化を示す、画像形成媒体およびその製造方法と、前記画像形成媒体を画像用のUV光で露光することにより、一時的に画像を形成する方法とを提供する。 (もっと読む)


架橋された複素環式化合物、フッ素化ノルボルネン化合物、フッ素化アルケン、複素環式化合物、およびこれらの2またはそれ以上の組み合わせ、から誘導されるポリマーが提供される。このポリマーはフォトレジスト組成物を含む広範囲の用途に使用される。また、このポリマーに使用するためのモノマー化合物の製造方法も提供される。 (もっと読む)


【課題】 平滑な絶縁基板との密着性が良好であり、且つ、微細な導電性パターンを形成しうる導電性パターン材料の製造方法、及び該製造方法により製造された導電性パターン材料を提供すること。
また、本発明の導電性パターン材料の製造方法に好適なグラフトポリマーパターン形成方法、及びそれにより得られたグラフトポリマーパターン材料を提供すること。
【解決手段】 エポキシ樹脂を主成分とする基板表面に、分子内に重合性基を有する化合物を単体で、又は、溶媒に分散或いは溶解させた状態で接触させ、紫外線を用いてパターン露光し、露光領域に、該基板表面と直接結合するグラフトポリマーを生成させることを特徴とするグラフトポリマーパターン形成方法、及びそれにより得られたグラフトポリマーパターン材料。
前記グラフトポリマーパターン形成方法にて得られたグラフトポリマーに導電性素材を付与する工程を有することを特徴とする導電性パターン材料の製造方法、及び該製造方法により製造された導電性パターン材料。 (もっと読む)


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