【課題】ラインエッジラフネス、及びパターン倒れが改善されたポジ型感光性組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）オオニシパラメータが５．０以下のラクトン構造を有する繰り返し単位と、酸の作用によりカルボン酸を生成する一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。（式中の符号は明細書に記載の意味を表す。）
【化１】
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【課題】 光に対する感度およびアルカリ現像性が良好であり、さらに、その硬化物が優れた電圧保持特性を有する垂直配向型液晶表示素子用の突起形成に使用される感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 エポキシ樹脂（Ａ₀）を変性してなる（メタ）アクリロイル基及びカルボキシル基を含有する親水性樹脂（Ａ）、光ラジカル重合開始剤（Ｂ）並びに（メタ）アクリロイル基濃度が７．５ｍｍｏｌ／ｇ以下である多官能（メタ）アクリレート（Ｃ）を含有する感光性樹脂組成物であって、感光性樹脂組成物の光硬化後の誘電率が２．５〜３．５である垂直配向型液晶表示素子用の突起形成に用いられるアルカリ現像可能な感光性樹脂組成物（Ｑ）である。 （もっと読む）

【課題】画素部平坦性に優れたカラーフィルタを得ることができる着色組成物、及びこれを用いて得られたカラーフィルタ、及び色むらが抑制された表示装置を提供する。
【解決手段】色材、溶剤を含有し、該溶剤が下記一般式（１）からなるジオール誘導体であることを特徴とする着色組成物。
一般式（１） Ａ−Ｃ_ｎＨ_２ｎ−Ｂ
［一般式（１）中、Ｃ_ｎＨ_２ｎはｎが５以上の整数である直鎖若しくは分岐アルキレン基を表す。Ａはヒドロキシル基、炭素数１〜６のアルコキシル基、又はアセトキシル基を表し、Ｂは炭素数１〜６のアルコキシル基、又はアセトキシル基を表す。 （もっと読む）

【課題】同一のレジスト膜上に複数回露光を行う多重露光プロセスにおいて、パターンの膜減りを抑えられる、多重露光に好適な、ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】同一のレジスト膜上に複数回露光を行う多重露光プロセスにおいて、レジスト膜の、水に対する接触角が７５°以上であることを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】各成分が均一に分散し品質バラツキがない感光性組成物および光記録媒体を提供する。
【解決手段】感光性組成物を形成する成分を第一の溶媒中に溶解させた溶液を凍結させて、得られた固形物を減圧雰囲気中で乾燥させることを特徴とする粉末状感光性組成物の製造方法、この感光性組成物、およびこの感光性組成物から形成された光記録媒体。 （もっと読む）

【課題】解像度が良好で、親水性表面を有し且つ水中での力学的強度が高い高分子複合体を形成できる感光性樹脂組成物及びそれを用いて形成した高分子複合体を提供する。
【解決手段】ナノ微粒子と溶媒と下記式（１）で表される感光性樹脂とを有する感光性組成物とする。


（式（１）中、Ｘ及びＹは、それぞれ独立に、何れか一方が下記式（２）で表される感光基ユニットでもう一方がアミノ基。）


（Ｒ₃及びＲ₄の少なくとも一方に芳香環を介してアジド基を有する。） （もっと読む）

【課題】イマージョン液が非水系液状媒体であるイマージョンリソグラフィー法に用いられるレジスト用材料およびレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】イマージョン液が非水系液状媒体であるイマージョンリソグラフィー法に用いられる酸の作用によりアルカリ溶解性が増大するレジスト用材料であって、重合体状含フッ素化合物（Ｆ）を含み、デカリンに対する後退角が３０°以上であるレジスト用材料、前記イマージョンリソグラフィー法によるレジストパターンの形成方法であって、前記レジスト用材料を含むレジスト形成組成物を基板上に塗布して基板上にレジスト膜を形成する工程、イマージョンリソグラフィー工程、および、現像工程をこの順に行う、基板上にレジストパターンを形成するレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】パターン断面形状が台形形状となる隔壁を製造しうる感光性ペーストを提供する。
【解決手段】［１］（Ａ）無機粒子、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）架橋剤、（Ｄ）酸発生剤、（Ｅ）有機溶媒、（Ｆ）下記式（１０）で表される化合物を含有する感光性ペースト。


（式中、Ｚは炭素数１〜２０のアルキル基または炭素数２〜２０のアルケニル基を表す。Ｘは下記式（１１）で示される２価の基である。）


（式中、Ｒは炭素数１〜６のアルキレン基を表し、ｉは１〜６の整数である。）
［２］［１］の感光性ペーストを用いてなるプラズマディスプレイ用隔壁。
［３］［２］の隔壁を備えたプラズマディスプレイ用部材。 （もっと読む）

【課題】ベタ部分における印刷品質が向上された凸版印刷原版の提供。
【解決手段】
樹脂硬化物を含む印刷層（Ａ）を有する凸版印刷原版であって、
該印刷層（Ａ）の表面の二乗平均平方粗さＲｑが、０．３μｍ以上２．４μｍ以下であり、
該印刷層（Ａ）の最大高さＲｙが８μｍ以上２１μｍ以下であり、
該印刷層（Ａ）の十点平均粗さＲｚが８μｍ以上２１μｍ以下である凸版印刷原版。 （もっと読む）

【課題】高い透明性を有する層間絶縁膜を提供することが可能な層間絶縁膜用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】層間絶縁膜用感光性樹脂組成物において、アルカリ可溶性樹脂成分（Ａ）として、下記一般式（ａ−１）で表される構成単位(ａ１)と、架橋性基を有する構成単位（ａ２）と、を有する共重合体（Ａ１）を含み、感光剤（Ｂ）として、キノンジアジド基含有化合物とフェノール性水酸基含有化合物の縮合物を含み、前記フェノール性水酸基含有化合物の熱分解温度を３００℃以上とする。


［上記一般式中、Ｒ^０は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^１は単結合又は炭素数１〜５のアルキレン基を表し、Ｒ^２は炭素数１〜５のアルキル基を表し、ａは１〜５の整数を表し、ｂは０又は１〜４の整数を表し、ａ＋ｂは５以下である。なお、Ｒ^２が２以上存在する場合、これらのＲ^２は相互に異なっていてもよいし同じでもよい。］ （もっと読む）

【課題】 膜厚変動時間が短く、塗布後短時間で、安定した膜厚の着色画素を形成することができる着色組成物、及び前記着色組成物を用いた高品質なカラーフィルタ、及びこのカラーフィルタを用いた液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 下記の膜厚変動試験における膜厚変化が、０．２μｍ以下であることを特徴とする着色組成物。
〔膜厚変動試験〕
（１）縦５ｃｍ×横５ｃｍの透明ガラス基板上に幅３０μｍ、厚さ３．２μｍの透明画素（透明部）を１００μｍ間隔でストライプ状に形成した透明部形成ガラス基板上に、前記着色組成物を塗布時膜厚が２．２μｍになるようにスピンコートする。
（２）塗布後１００秒後の膜厚ｘμｍをマイクロマップ（三次元非接触形状計測システム）にて測定する。
（３）塗布後３００秒後の膜厚ｙμｍをマイクロマップ（三次元非接触形状計測システム）にて測定する。
（４）膜厚変化｜ｘ−ｙ｜を測定する。 （もっと読む）

【課題】経時安定性が高く、かつ、高い透明性を有する層間絶縁膜を提供することが可能な層間絶縁膜用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】層間絶縁膜用感光性樹脂組成物において、アルカリ可溶性樹脂成分（Ａ）として、下記一般式（ａ−１）で表される構成単位(ａ１)と、架橋性基を有する構成単位（ａ２）と、を有する共重合体（Ａ１）を含み、感光剤（Ｂ）として、キノンジアジド基含有化合物とフェノール性水酸基含有化合物の縮合物を含み、前記フェノール性水酸基含有化合物の波長３５０ｎｍにおけるグラム吸光係数を１以下とする。


［上記一般式中、Ｒ^０は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^１は単結合又は炭素数１〜５のアルキレン基を表し、Ｒ^２は炭素数１〜５のアルキル基を表し、ａは１〜５の整数を表し、ｂは０又は１〜４の整数を表し、ａ＋ｂは５以下である。なお、Ｒ^２が２以上存在する場合、これらのＲ^２は相互に異なっていてもよいし同じでもよい。］ （もっと読む）

【課題】より高い解像度を有するパターンを形成することが可能な層間絶縁膜用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂成分（Ａ）、感光剤（Ｂ）を含む層間絶縁膜用感光性樹脂組成物であって、前記（Ａ）成分が、フェノール性水酸基含有構成単位（ａ１）と、架橋性基含有構成単位（ａ２）と、を含む共重合体（Ａ１）を含み、前記（Ｂ）成分が、キノンジアジド基含有化合物と、フェノール性水酸基含有化合物と、を縮合させてなる化合物を含み、前記層間絶縁膜用感光性樹脂組成物により得られるレジストパターンの解像性を、２μｍ以下とする。 （もっと読む）

【課題】 フォトレジスト用樹脂の分解を極力抑制しつつ、低沸点不純物の含有量が極めて低いフォトレジスト用樹脂溶液を得る。
【解決手段】 酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性となる基を含む繰り返し単位と、極性基を有する脂環式骨格を含む繰り返し単位とを含有するフォトレジスト用樹脂を塗膜形成用溶媒に溶解したフォトレジスト用樹脂溶液の製造方法であって、重合により得られた前記フォトレジスト用樹脂を貧溶媒に沈殿させ、沈殿したフォトレジスト用樹脂を遠心分離機により湿結晶として分離し、該湿結晶を塗膜形成用溶媒を含む溶媒に再溶解させ、得られた再溶解液を蒸留缶内の液温度を８０℃以下に制御するように缶内圧力を調節し、且つ,蒸留缶内を撹拌機により撹拌しながら蒸留して、前記フォトレジスト用樹脂の湿結晶中に含まれる低沸点不純物を減圧下に留去する工程を含むフォトレジスト用樹脂溶液の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】実用上問題となるような塗布ムラの発生がないレジスト膜を表示素子用大型基板上に効率的に形成することができる表示素子用大型基板上へのレジスト膜の形成方法、及び該形成方法に使用するための感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂、感光剤及び溶剤を含有してなる感光性樹脂組成物を表示素子用大型基板に塗布し、減圧乾燥してレジスト膜を形成する工程、及びレジスト膜が形成された前記大型基板を常圧で加熱する工程を有する、表示素子用大型基板上へのレジスト膜の形成方法であって、前記感光性樹脂組成物が、プロセスシミュレーターを用い、該組成物の固形分濃度が７０重量％のときの２２℃と２５℃の蒸気圧、及び該組成物の固形分濃度が９０重量％のときの２５℃の蒸気圧を算出した場合に、所定の条件を満たすものである、表示素子用大型基板上へのレジスト膜の形成方法、及び前記感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】硬化物としての透明性、表面硬度に優れると共に、硬化性組成物としての粘度と硬化物としての耐熱・耐湿性とのバランスに優れた放射線硬化性組成物を提供する。
【解決手段】放射線硬化性基を有するモノマー又は／及びそのオリゴマーを含有する放射線硬化性組成物であって、脂環骨格を有する単官能（メタ）アクリレートの含有量が３０重量％以下で、２５℃での粘度が１０００〜５０００センチポイズであり、かつ、１Ｊ／ｃｍ²の照射強度で紫外線を照射して得られる硬化塗膜が、（１）硬化塗膜を形成した積層体として、波長５５０ｎｍにおける光線透過率が８０％以上、（２）硬化塗膜を形成した積層体として、ＪＩＳ Ｋ５４００に準拠した鉛筆硬度がＢ以上、（３）硬化塗膜を形成した積層体を、高温高湿環境下に放置後の、硬化塗膜としての重量減少割合が５％以下、を満足する放射線硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】熱に対する形状安定性が高いブラックマトリクスを形成することが可能な黒色感光性組成物を提供する。また、本発明では、この黒色感光性組成物から形成されたブラックマトリクス、インクジェット方式カラーフィルタ用隔壁、及び液晶表示素子用スペーサを提供する。
【解決手段】光重合性化合物と、光重合開始剤と、カーボンブラックのような黒色顔料と、を含有する黒色感光性組成物において、形状安定剤として、有機顔料を含有した。 （もっと読む）

【課題】後退角が高く、かつ解像性能が良好な液浸用フォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】樹脂（Ａ）と樹脂（Ｂ）をそれぞれ１種以上ずつ含み、また酸発生剤を含有することを特徴とするフォトレジスト組成物。
樹脂（Ａ）：（ア）酸に不安定な基を側鎖に有するユニット、を１種以上含有し、（エ）’フッ素を含む構造を側鎖に有するユニット、を含有しない樹脂。
樹脂（Ｂ）：（ア）’酸に不安定な基を側鎖に有するユニット、（イ）’水酸基を側鎖に有するユニット、および（ウ）’ラクトン構造を側鎖に有するユニット、からなる群より選ばれる少なくとも１種を含有することに加え、（エ）フッ素を含む構造を側鎖に有するユニット、を含有する樹脂。 （もっと読む）

【課題】カラー撮像管素子等に用いられるカラーフィルタに適した、色再現性に優れたカラーフィルタを形成し得るようにする。
【解決手段】塗膜を形成したとき、波長５８０ｎｍにおける透過率（Ｔ５８０）と波長５６０ｎｍにおける透過率（Ｔ５６０）との比（Ｔ５８０／５６０）が、３以上かつ１５以下となるカラーフィルタ用着色組成物。波長５７０〜５８０ｎｍの範囲内で透過率５０％となる塗膜を形成したとき、前記塗膜の厚さが０．５〜２．５μｍの範囲であり、前記塗膜の波長４３０〜５５０ｎｍの分光透過率が１０％以下、波長５８０〜５９０ｎｍの分光透過率が８５％以下、波長６１０〜７００ｎｍの分光透過率が９０％以上である上記カラーフィルタ用着色組成物。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィ技術において、露光光一層斜めに入射する場合であっても、レジスト層とシリコン半導体基板との界面における反射率を充分に低減することができる反射防止膜を提供する。
【解決手段】２層構造反射防止膜は、１９０〜１９５nmの波長を有し、開口数が１．３を越え１．４以下である露光系にてレジスト層を露光する際に用いられる、レジスト層とシリコン半導体基板の表面に形成されたシリコン窒化膜との間に形成され、反射防止膜を構成する上層、下層の複素屈折率N₁,N₂を、N₁=n₁−k₁i,N₂=n₂−k₂iとし、上層、下層の膜厚をd₁,d₂とし、[n₁₀,k₁₀,d₁₀,n₂₀,k₂₀,d₂₀]の値の組合せとして所定の組合せを選択したとき、n₁,k₁,d₁,n₂,k₂,d₂が、以下の関係式を満足する。{(n₁−n₁₀)／(n_1m−n₁₀)}²＋{(k₁−k₁₀)／(k_1m−k₁₀)}²＋{(d₁−d₁₀)／(d_1m−d₁₀)}²＋{(n₂−n₂₀)／(n_2m−n₂₀)}²＋{(k₂−k₂₀)／(k_2m−k₂₀)}²＋{(d₂−d₂₀)／(d_2m−d₂₀)}²≦１ （もっと読む）