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Fターム[2H025CC00]の内容

フォトレジストの材料 (104,520) | 添加剤 (8,692)

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Fターム[2H025CC00]に分類される特許

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【課題】波長が300nm帯又はそれ以下の露光光に対して溶解コントラストを高め、パターンの解像性を向上できるようにする。
【解決手段】パターン形成方法は、基板101の上に、酸により脱離する第1の酸不安定基で置換されたフマル酸と、アルカリ性溶液に可溶なアルカリ可溶性ポリマーと、光の照射により酸を発生する光酸発生剤とを含む化学増幅型レジスト材料からレジスト膜102を形成する。続いて、形成されたレジスト膜102に露光光104を選択的に照射してパターン露光を行なう。その後、パターン露光が行なわれたレジスト膜102を現像することにより、レジストパターン102aを形成する。 (もっと読む)


【課題】高感度で露光部の溶け残り(スカム)が発生しないポジ型レリーフパターンを希薄アルカリ現像液を使用して得る。
【解決手段】
(A)アルカリ水溶液可溶性重合体100質量部に対して、(B)感光性ジアゾナフトキノン化合物1〜100質量部、(C)希釈溶剤100〜1000質量部、(D)下記一般式(1)で表される少なくとも1つの化合物0.5〜20質量部を含む感光性樹脂組成物。
【化1】
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