【課題】 酸素ガスに対するエッチング耐性に優れるとともに、転写パターンの剥離を防止し、基板上における保持時間についての問題を解消し、転写性にも優れるナノインプリント用の膜形成組成物及び感光性レジスト、ナノ構造体、これらを用いたパターン形成方法、並びにこのパターン形成方法を実現するためのプログラムを提供する。
【解決手段】光硬化反応を生じる機能を有する高分子ケイ素化合物を含むナノインプリント用の膜形成組成物。高分子ケイ素化合物は、電磁波に感応して開裂する官能基を有し、電磁波照射によって硬化反応を生じるものであることが好ましく、シロキサン系高分子化合物、シリコンカーバイド系高分子化合物、ポリシラン系高分子化合物、およびシラザン系高分子化合物またはこれらの任意の混合物であることがさらに好ましい。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストパターン形成工程、およびエッチング工程を不要とし、簡素な工程で、大規模な設備、真空装置あるいは高エネルギー光源などの特別な装置を準備しなくても所望のパターンニングを容易に達成できる、実用性の高い撥水親水表面を有する基材の提供。
【解決手段】基材に、ケイ素原子に結合した水素原子が存在する撥水表面を形成する工程（１）、つぎに、工程（１）で形成した撥水表面の所望領域を、光照射によって塩基を発生する光塩基発生剤（Ｂ）と水との存在下に光照射して、該所望領域の撥水表面のケイ素原子に結合した水素原子を水酸基に変換することにより、ケイ素原子に結合した水酸基が存在する親水表面を形成させる工程（２）を順に行うことを特徴とする撥水親水表面を有する基材の製造方法。 （もっと読む）