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【課題】撮像装置のコンパクト化を図るとともに、製造時におけるコスト削減、工程の簡略化を図る。
【解決手段】撮像装置は、1つの媒質で形成された基材上に配備された第1ミラー21と第2ミラー22を備えた結像光学系2を備え、第1ミラー、第2ミラーは、非回転対称な非球面形状を有する表面反射ミラーであるとともに、軸上主光線に対して互いに偏心して配備され、結像光学系の開口絞り24から入射した光線は、第1ミラーと第2ミラーで反射され、撮像素子1上に結像されるまでに1回交差する光路を形成する。 (もっと読む)


【課題】掩蔽(obscurated:オブスキュレーション)光学系において、分解能の限界が結像構造の位置及び配向に応じて変わる場合、結像光学系の精密測定の実行を可能にするデバイス、このデバイスを有する投影露光装置、その方法、センサユニットとを提供する。
【解決手段】結像光学系上流ビーム経路内に位置決め可能な第1格子構造(16)を有する第1格子パターン(6)と、下流ビーム経路内に位置決め可能な第2格子構造(18)を有する第2格子パターン(8)と、第2格子パターン(8)の第2格子構造(18)への第1格子パターン(6)の第1格子構造(16)の結像中に生成される重ね合わせ縞パターンの空間分解測定用センサユニットとを備えるデバイスに関する。 (もっと読む)


【課題】反射型マスクにおいて正反射した光およびパターン側壁で反射した光の両方を考慮しつつ、反射型マスクの射出角およびウエハの入射角の最適化を図ることができる反射型露光方法を提供する。
【解決手段】反射型露光方法は、反射型マスクにおいて、特定のパターン、例えば、最も寸法の小さいパターンを選択するステップと、該パターンについてマスク近傍の電磁界を計算するステップと、計算されたマスク近傍の電磁界から求まる回折光の分布から最も強度が強い伝播方向を求めるステップを含む。さらに、求めた伝播方向が所定の射出角となるようにマスク面の傾きを調整するステップと、マスク面から該伝播方向に伝播する光が投影光学系を通じてウエハに入射する方向に、ウエハ面を所定の角度に調整するステップとを含む。 (もっと読む)


【課題】凸面鏡と反射鏡とを用いた全方位カメラにおいて、反射鏡に起因する死角領域を解消した全方位画像を得ること。
【解決手段】反射鏡102は、反射鏡制御部106からの状態制御信号S1によって、ミラー状態と透過状態とが切り替えられる。反射鏡102がミラー状態に制御されている場合には、図中の一点鎖線で示すように、カメラ103には凸面鏡101及び反射鏡102によって反射された光が入射され、カメラ103によって全方位画像が撮像される。一方、反射鏡102が透過状態に制御されている場合には、図中の二点鎖線で示すように、カメラ103には反射鏡102を透過した光が入射され、カメラ103によって反射鏡102の向こう側の画像が撮像される。 (もっと読む)


【課題】水素ラジカル雰囲気におけるシリコン成分の使用に関連する欠点を伴わずに、効率的および製造が容易であるEUVスペクトル純度フィルタを提供する。
【解決手段】極端紫外放射を透過させるよう構成されたスペクトル純度フィルタは、極端紫外放射を透過させるとともに、第2のタイプの放射の透過を抑制する複数のアパーチャを有するフィルタ部分を含む。アパターチャは、シリコンなどの半導体材料に、異方性エッチングプロセスにより製造され得る。半導体材料は、窒化ケイ素Si、二酸化ケイ素SiO、または炭化ケイ素SiC等の水素耐性層が設けられている。アパーチャの側壁の粗さ特性が増大されてもよい。フィルタ部分の厚さは約20μmであり、アパーチャの幅は約2μmから約4μmであってよい。 (もっと読む)


複数の物体結像視野を持つ、全てが反射式設計の小型光学系が本書において開示される。また、本光学系の視野方向はどれも同一であり、さらに本光学系は、レーザ測距用および照準用部品を追加するためのいくつかの異なる構造を有し得る。
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結像光学系(36)は、物体平面(5)の物体視野(4)を像平面(9)の像視野(8)内に結像する複数のミラー(M1からM6)を有する。最初のミラー(M1)は、物体視野(4)の後の結像光の結像ビーム経路に配置され、最後のミラー(M6)は、像視野(8)の前の結像ビーム経路に配置される。非折り返し結像ビーム経路内で結像光(3)を誘導するように構成されたミラー(M1からM6)の各々の有利面(23)上への中心物体視野点に属する主光線(16)の入射点は、像平面(9)からのミラー間隔(zM)を有する。最初のミラー(M1)のミラー間隔(zM1)は、最後のミラー(M6)のミラー間隔(zM6)よりも大きい。最後から4番目のミラー(M3)のミラー間隔(zM3)は、最初のミラー(M1)のミラー間隔(zM1)よりも大きい。本発明の更に別の態様では、結像光学系(36)のミラー(M1からM6)のうちの少なくとも1つが有する反射面は、回転対称関数に基づいて表すことができない固定の自由曲面として構成される。この自由曲面は、回転対称関数によって表すことができるこの自由曲面に最適に適応した非球面からは、結像光(3)を誘導するように構成されたこの自由曲面の使用領域(23)の自由曲面要素(20)に対する法線(FNB)が非球面(21)の対応する非球面要素(22)に対する法線(FN)と最大で70μradの角度(α)を取るように異なっている。これらの2つの態様により、小さい結像誤差と、管理可能な製造と、結像光に対する良好な収量との制御可能な組合せがもたらされる。 (もっと読む)


【課題】簡単な構造を用いて温度変化による光学部材の位置の変化を抑制できる光学系を提供する。
【解決手段】鏡筒によってミラーM1〜M6を支持する投影光学系POにおいて、その鏡筒は、温度変化による熱変形によって、ミラーM1〜M6のうちのミラーM1をZ方向に変位させる支持部材22と、温度変化による熱変形によって、ミラーM1のZ方向への変位が相殺されるようにミラーM1を変位させ、支持部材22とは線膨張係数の異なる部分鏡筒12Aとを含む。 (もっと読む)


視野ファセットミラーを含むEUVマイクロリソグラフィのための照明光学系、瞳ファセットミラーを含むその後の光学系、更に、この種の照明光学系を含む照明系、この種の照明系を含む投影露光装置、最後に、微細構造又はナノ構造構成要素を製造する方法、及びこの方法を用いて製造される構成要素を提供する。EUVマイクロリソグラフィのための照明光学系は、長手視野寸法(x)と短手視野寸法(y)の間で1よりも有意に大きい延長比を有する物体視野に放射線源からの照明光束を誘導するように機能する。視野ファセットミラー(13)は、物体視野内に所定の照明条件を設定するための複数の視野ファセット(19)を有する。視野ファセットミラー(13)の下流にあるその後の光学系は、照明光を物体視野(5)に伝達するように機能する。その後の光学系は、複数の瞳ファセット(27)を有する瞳ファセットミラー(14)を含む。視野ファセット(19)は、照明光束(10)のうちで各場合に視野ファセット(19)のうちの1つに入射する部分が、関連の瞳ファセット(27)によって物体視野(5)上に誘導されるように、各場合に瞳ファセット(27)に個々に割り当てられる。視野ファセットミラー(13)は、関連の基本照明瞳ファセット(27G)によって物体視野(5)の基本照明を与える複数の基本照明視野ファセット(19G)を含むだけではなく、関連の補正照明瞳ファセット(27K)によって物体視野(5)の照明の補正を与える複数の補正照明視野ファセット(19K)をも備える。その結果は、照明パラメータ、例えば、照明強度分布又は照明角度分布の望ましくない変動を物体視野にわたって補正することを可能にする照明光学系である。 (もっと読む)


【課題】発光体自身での光の吸収による光量ロスを極力減らして、発光体から発せられる蛍光、発光、照明光などを取り出す効率を格段に向上させることが可能な光学系を提供する。
【解決手段】楕円状面11a,21a、円錐状面11b,21bを有する側面11,21と、上面12,22と、底面13,23とを備えた、板状光学部材1,2が、底面同士が面対称に重ね合せられてなる。底面間には、上面12,22と同じ形状及び大きさの反射領域Aが、楕円状面側の端部から円錐状面側へ向けて設けられている。板状光学部材1は、楕円形状の第一焦点位置に溝部14を有する。板状光学部材1,2は、夫々、楕円形状の第一焦点と円形状の曲率中心とが一致し、楕円形状の第二焦点が円錐状面の近傍に位置し、円錐状面における楕円形状の第二焦点位置近傍に、開口部15,25を有する。 (もっと読む)


【課題】ターゲットでの合焦された像と源の像との間で単位拡大またはほぼ単位拡大を達成し、それにより、ターゲットで最大の合焦強度を発生する。
【解決手段】コリメーティングリフレクタ30および合焦リフレクタ40は、以下からなるグループから選択されたコリメーティング/合焦リフレクタ対を含む:1対のリフレクタの各リフレクタは、源20とターゲット60上に合焦された像とを同じサイズとする単位拡大を達成するように、互いに対して対応のサイズおよび光学的配向を有し、コリメーティングリフレクタ30および合焦リフレクタ40の楕円面/双曲面対を含む1対のリフレクタであって、源20に対してターゲット60上に合焦された像を約0.5から約5の倍率のサイズとするほぼ単位拡大を達成するように、互いに対して対応のサイズおよび光学的配向を有する。 (もっと読む)


【課題】 簡単な構成で広い観察画角を撮像素子上に撮像することが可能であり、小型で安価な光学系及びそれを用いた内視鏡を提供する。
【解決手段】 第1反射面22と第2反射面23のうち少なくとも1面は、対称面を持たない任意形状の線分を中心軸2の周りで回転させて形成される拡張回転自由曲面で構成されており、透明媒体Lに入射する光束は、順光線追跡の順に、開口Sを通り、第1透過面21を経て透明媒体L内に入り、第1反射面22で像面5と反対側に反射され、第2反射面23で像面5側に反射され、第2透過面24を経て透明媒体Lから像面5側に外へ出る略Z字状の第1光路Aを構成し、第1光路Aの少なくとも第1反射面22と第2反射面23の間は、中心軸2に対して片側のみで構成され、第1光路A中に中間像が結像されることなく、像面5に円環状に結像されることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 簡単な構成で広い観察画角を撮像素子上に撮像することが可能であり、小型で安価な光学系及びそれを用いた内視鏡を提供する。
【解決手段】 第1透過面21、第1反射面22、第2反射面23及び第2透過面24は、球面からなり、透明媒体Lに入射する光束は、順光線追跡の順に、開口Sを通り、第1透過面21を経て透明媒体L内に入り、第1反射面22で像面と反対側に反射され、第2反射面23で像面側に反射され、第2透過面24を経て透明媒体Lから像面側に外へ出る略Z字状の第1光路Aを構成し、第1光路Aの少なくとも第1反射面22と第2反射面23の間は、中心軸2に対して片側のみで構成され、第1光路A中に中間像が結像されることなく、像面に円環状に結像されることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】慣用の干渉リソグラフィシステムの整合の複雑さのない、調整可能な解像力を備えたシステムを提供する。
【解決手段】レーザビーム106を出力するレーザと、レーザビーム106を複数のビーム107に分割するビームスプリッタ103と、複数のビームを使用して基板上に干渉フリンジを形成するプリズム101とが設けられており、リソグラフィシステムの解像力が、リソグラフィシステムの光路におけるあらゆる光学コンポーネントを交換することなく調整可能である。 (もっと読む)


【課題】 光源から射出される光を効率よく利用することのできる光学ユニットを提供すること。
【解決手段】 光学ユニットが、仮想面を挟んで2つの反射面が対向して配置されている光学ユニットであって、一方の側の反射面は、半球状の第1反射面と、放物面であってその頂点近傍に第1開口部を有する第2反射面を備え、他方の側の反射面は、放物面であってその頂点近傍に第2開口部を有する第3反射面を備え、第1反射面の周辺部が第1開口部と接するように設けられ、第2反射面の放物面頂点が第3反射面の放物面焦点位置と一致し、第3反射面の放物面頂点が第2反射面の放物面焦点位置と一致するように第2反射面と第3反射面が配置され、第1反射面の曲率中心が第2反射面の放物面頂点と一致するように第1反射面と第2反射面が配置され、仮想面よりも第1反射面側に設けられた第1屈折面と、仮想面よりも第3反射面側に設けられた第2屈折面を有すること。 (もっと読む)


【課題】凸面状ミラーとカメラを相対して配置した全方位撮影カメラでは、凸面状ミラーでカメラ光軸を中心とした360°視野範囲の全方位の被写体を撮像できるが、カメラ直下は撮影カメラが写り込み超広視野を撮像できない。
【解決手段】超広視野を撮像できる大型の凹面鏡7と小型の凸面鏡8とカメラ2とが光軸上に配設されて構成された広視野撮像装置であって、前記凹面鏡7は光軸上に貫通口4が穿設されてなり前方の被写体からの入射光を収束反射し、前記凸面鏡8は前記凹面鏡光軸上の貫通口4に配設されたカメラ2へ前記凹面鏡7で反射された光束をさらに収束反射するものであり、前記カメラ2は前記凸面鏡8からの光束に基づいて画像を記録するものである。 (もっと読む)


【課題】ズーム状態が変化しても、スクリーン(被投写面)上に投写画像を適正に投写し得るプロジェクタを提供する。
【解決手段】投写レンズの手前に透明平板104を配置し、ズーム調整用リング103の回転に連動して透明平板104を傾斜させる。透明平板104が傾斜すると、投写レンズに対する表示素子の見かけの位置が、投写光学系の光軸に垂直な方向に変位する。これにより、スクリーン上における投写画像の位置が、そのズーム状態において適正となる位置に調整される。透明平板104の傾斜制御は、たとえば、カム孔102aとピン104bからなる伝達機構によって実現される。 (もっと読む)


【課題】高NA化を達成すると共に、各反射面への入射角度を比較的小さく抑えることが可能なEUV光用の投影光学系を提供する。
【解決手段】物体面上のパターンからの光束を凹凸凸凹凸凹の第1〜6反射面で反射し、前記パターンの縮小投影像を像面上に結ぶ、共軸系の投影光学系であって、前記第4反射面と前記第5反射面との間に前記パターンの中間像を結んでおり、前記パターンの中心から発する主光線の、前記中間像の位置における前記投影光学系の光軸とのなす角度をθ、前記パターンの中心が前記像面上において結像する位置の像高をI、前記第4反射面の曲率半径、有効径を各々R4、D4、前記第6反射面の曲率半径、有効径を各々R6、D6、とするとき、所定の条件式を満足する。 (もっと読む)


【課題】複数の曲面反射面を用いて斜め投射を行う小型の投射光学系を提供する。
【解決手段】反射光学系Rは、基準軸光線L0を像面SCに対して斜めに入射させる。反射光学系Rのうち第1反射面S1から投射像の中心に到達する基準軸光線の光路を含む第1の断面において、最終反射面S4よりも1つ前の反射面S3から導光反射面MUに至る第1の主光線L1の光路と基準軸光線の光路とが第1の交点Aで交差し、該最終反射面よりも1つ前の反射面から導光反射面に至る第2の主光線の光路と基準軸光線の光路とが第2の交点Bで交差する。また、第1の断面に直交して投射像の中心を通る中心線上での第3,4の端に到達する第3,4の主光線と基準軸光線の光路とが第3,4の交点で交差する。第1及び第2の交点間の中点P1と第3及び第4の交点間の中点P2との間に少なくとも1つの反射面S4が配置されている。 (もっと読む)


本発明の極紫外線応用例またはX線応用例に好適な集光光学系においては、放射光は放射線光源(例えば、レーザープラズマまたはレーザープラズマ光源)を出て集光されてから画像合焦点に方向転換され、光学系は1枚以上の鏡を備えており、1枚の鏡または複数の鏡は各々が、放射線光源を通って延びる光軸を中心として対称性を示しているとともに、少なくとも第1反射面および第2反射面を有しており、第1反射面および第2反射面は合焦点が共通しており、使用にあたり、放射線光源からの放射光は第1反射面および第2反射面に入射する際に連続して、すれすれの入射を受け、第1反射面および第2反射面の共通合焦点は光軸に関して所定の距離 Δr だけ横断方向に片寄せされる。極紫外線製版システムも開示されており、前記システムは、レーザープラズマ(LLP)光源などのような放射線光源、集光光学系、光コンデンサ、および、反射マスクを備えている。極紫外線画像処理またはX線画像処理に好適であり、更にまた、極紫外線画像処理システムまたはX線画像処理システムにも好適な画像処理光学系も開示されており、かかる光学系は、画像処理光学系と、電荷結合素子配列などのような画像処理装置であって、画像合焦点に配置されるものとを備えている。 (もっと読む)


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