【課題】基板の浸漬処理の均一性を向上できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板の浸漬処理を行う基板処理装置１０ａでは、処理槽１の内部に処理液を供給する６つの供給管２ａ〜２ｆが設けられている。これら、６つの供給管２ａ〜２ｆは互いに異なる高さに均等に設けられる。また、６つの供給管２ａ〜２ｆは高さ方向に関して二つの壁面１１，１２に対し交互に設けられる。さらに、６つの供給管２ａ〜２ｆは略水平方向に沿って処理液を供給する。このため、処理槽１の全体に略水平方向に沿った平行な処理液の流れが均一に形成できることから、渦流の発生及びそれに伴う滞留部の形成を効果的に抑制できる。その結果、基板Ｗの浸漬処理の均一性を向上できる。 （もっと読む）

【課題】 ガラス基板が薄くなり、かつその大きさが大きくなると、搬送工程において基板を持ち上げたり支えたりする際に、ガラスの変形量が従来よりも大きくなり、ガラスにかかる応力が高くなる。そのためガラス基板が割れやすくなるといった問題が発生している。
【解決手段】 質量％表示でＳｉＯ₂ ５０〜７０％、Ａｌ₂Ｏ₃ ７〜２０％、Ｂ₂Ｏ₃ ７〜１７％、ＭｇＯ ０〜１０％、ＣａＯ ０〜１５％、ＳｒＯ ０〜１５％、ＢａＯ ０〜３０％含有し、（仮想温度−ガラス転移温度）が０℃以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ミストとなる洗浄液の利用効率を向上させることができる基板洗装置を提供する。
【解決手段】 本発明に係る基板洗浄装置は、基板１を載置するステージ１０と、ステージ１０に載置された基板１の上方に位置し、該基板１の上面全面を覆うカバー部材２０と、カバー部材２０に設けられ、ミスト化した洗浄液をガス中に分散させたミスト分散ガスを基板１に吐出する吐出口２２ａと、を具備し、吐出口２２ａからミスト分散ガスが吐出された状態において、カバー部材２０の下面と基板１の上面との間の空間１ａは、ミスト分散ガスで充填される。 （もっと読む）