【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにはその他のフォトアプリケーションのリソグラフィー工程に好適に使用され、特にネガ型現像技術において、ラインエッジラフネス、スカムやマイクロブリッジ等の欠陥の発生の無い微細なレジスパターン形成方法を提供することを課題としている。

【解決手段】露光により発生した酸の作用により有機溶剤に対する溶解度が減少する感放射線性組成物を、下記条件（１）を満足するフィルターを通過させた組成物を基板上に塗布してレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光し、有機溶剤を含有する現像液を用いて現像する工程、を含むことを特徴とするパターン形成方法である。
条件（１）：フィルターの臨界表面張力が７０ｄｙｎｅ／ｃｍ以上であり、かつ荷電修飾されていない。 （もっと読む）

【課題】優れたラインウィドゥスラフネス（ＬＷＲ）を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物用の樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】以下の工程（１）〜工程（４）を含むレジスト組成物用低分散樹脂の製造方法。工程（１）：高分散樹脂と第１のケトン溶剤とを混合して、高分散樹脂及び第１のケトン溶剤からなる溶液を得る工程、工程（２）：工程（１）で得られた溶液と脂肪族エーテル溶剤とを混合後、不溶分を除去して濃縮して濃縮物を得る工程、工程（３）：工程（２）で得られた濃縮物を第２のケトン溶剤に溶解させる工程、工程（４）：工程（３）で得られた溶液と脂肪族炭化水素溶剤とを混合後、高分散樹脂よりも分散度が小さい低分散樹脂からなる不溶分を得る工程 （もっと読む）

【課題】ブラックマトリックスに最適な撥インキ性を具備させる事により高品質なカラーフィルターをより効率的に製造する事が出来るカラーフィルタの製造方法及び装置を得る。
【解決手段】透明基板上に撥インキ性を付与できる撥インキ剤が含有されているブラックマトリックス用の感光性樹脂組成物を塗工する第１の工程と、前記透明基板を室温の大気中で所定時間待機させ予備乾燥を行う第２の工程と、減圧乾燥作業を行なう第３の工程と、前記透明基板にブラックマトリックスのパターンを露光し現像し焼成する第４の工程と、前記ブラックマトリックスの開口部にインキジェット方式により所望の色のインキを吐出して着色層を形成する第５の工程によりカラーフィルターを製造する。 （もっと読む）

【課題】固体表面に超微細のグラフトポリマーパターンを容易に形成しうるパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】ラジカル重合を開始しうる光重合開始部位と基材結合部位とを有する化合物を基材に結合させる工程と、パターン露光を行い、露光領域の該光重合開始部位を失活させる工程と、前記基材上にラジカル重合可能な不飽和化合物を接触させた後、該ラジカル重合可能な不飽和化合物が光吸収しない波長の光のみで全面露光を行い、前記パターン露光時における非露光領域に残存した該光重合開始部位からラジカル重合を開始させることでグラフトポリマーを生成させる工程と、をこの順に行うことを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 加工巻き取り適性を改善すると共に、版の平面性を損なうことなく、安定した品質を保証する平版印刷版原版の巻取装置及び巻取方法を得る。
【解決手段】 製品巻取ロール２６により小巻ロール形態６０に巻き取る際に、巻き取り部６２で原反５２に接するように、レイオンロール２８が設けられる。このレイオンロール２８は、巻き取り部６２において原反５２を常時押し当てられている。このように、原反５２は巻き取り部６２において、常に製品巻取ロール２６に向かう方向に押圧されながら巻き取られるので、いわゆる巻きずれや巻き皺が生じないようにして、巻き取られる。 （もっと読む）