【課題】現像後の余分なフォトレジストの存在を容易に把握することができる検査支援方法、検査方法、フォトマスク、及び検査支援システムを提供する。
【解決手段】ウェハ１００に積層されたレジスト１０２に所定解像度の回路パターンを転写するための転写パターン１８が形成され、かつ転写パターン１８を構成している領域の一部に所定解像度よりも高解像度の検査用パターンが形成されたフォトマスク１４を介して、レジスト１０２に所定解像度に対応する所定波長光を予め定められた照射時間照射することにより回路パターンをレジスト１０２に転写し、レジスト１０２に回路パターンが転写された後にレジスト付きウェハ１０４を現像液槽１６の現像液に浸漬する。 （もっと読む）

【課題】被成形体の破損を低減する技術を提供する。
【解決手段】型面に凹部と凸部とを有するパターンが形成された成形型１０であって、凸部の角が円弧を有するように形成された成形型１０を用いて成形する。この成形型１０の製造方法としては、基材１１に凹部と凸部とを有するパターンを形成する工程と、パターンが形成された基材１１に対してエッチングを施し凸部の角に円弧を形成する工程と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】コストの増大を抑制しつつ現像不良の発生を防止することが可能な現像装置および現像方法を提供する。
【解決手段】液層形成工程の時点ｔ１〜ｔ４の期間において、基板上に現像液の液層が形成される。その後、基板の回転速度を一時的に低速の５０ｒｐｍに保持し、その後、基板の回転を停止する。このように、基板の回転の停止前に基板Ｗの回転速度を極めて低い状態で一時的に保持することにより、基板上に現像液の液層が薄く引き延ばされた状態を安定に維持しつつ基板の回転を停止することができる。 （もっと読む）

【課題】液層を用いた露光時にレジスト膜を保護する撥水性材料からなる塗布膜の基板の周縁部への密着性を向上させる塗布、現像装置を提供すること。
【解決手段】基板の表面に薄膜を形成した被処理基板の上にレジスト液を塗布するレジスト膜形成用の塗布ユニットＣＯＴと、レジスト膜の表面に光を透過する液層を形成した状態で露光した後のレジスト膜を現像する現像ユニットＤＥＶと、を備えた塗布、現像装置において、レジスト膜の周縁部を溶剤により除去するための第１の周縁部洗浄手段と、レジスト膜を保護するために、撥水性材料を含む塗布液を基板の表面全体に塗布する保護膜形成用の塗布ユニットＩＴＣと、レジスト膜の周縁部の除去により露出した基板の露出面を含む領域に、前記保護膜の密着性を向上させるための密着性向上用の流体を供給する密着性向上処理部と、を備えるように塗布、現像装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】 新たな因子で露光条件を変化させることにより、感光膜のパターン幅の精度を向上させることができる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る半導体装置の製造方法は、感光性材料の溶液を塗布することにより感光性膜を形成する工程と、前記感光性膜をベークする工程と、前記感光性膜をベークしてから前記感光性膜を露光するまでの時間を用いて、露光条件を定める工程と、前記定められた露光条件で、前記感光性膜にパターンを露光する工程とを具備する。前記感光条件を定める工程は、前記感光性膜をベークしてから露光するまでの時間を、予め定められた式に代入することにより露光量を算出する工程を有する。 （もっと読む）

【課題】 現像後のレジストパターンの整形を精巧に行って、かつレジストの残渣を除去し、配線パターン等の永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能とし、しかも、レジストの架橋部（硬化膜）に欠けや剥離、膨潤などを生じることなく、高い解像度と基体と感光層との密着性とを高度に両立したパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 支持体上に感光層を少なくとも有するパターン形成材料における該感光層を、被処理基体上に積層し、該感光層を露光し、現像してレジストパターンを形成した後、該レジストパターンに対してドライプロセスによりレジストパターン整形工程が行われるパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 液浸リソグラフィプロセスにおけるディフェクトを低減する。
【解決手段】 現像前の露光後加熱に先立って、液浸露光したウェハ表面の付着水を少なくとも非水溶剤を含む水パージ剤で除去する工程を含む液浸リソグラフィプロセスによるレジストパターン形成方法。液浸リソグラフィプロセスにおける露光用水を除去するための非水溶剤を含む水パージ剤。 （もっと読む）

【課題】液浸液中の微小気泡の前記露光光路遮断による結像欠陥や気泡消滅時の圧壊衝撃による感光膜破損を低減すること。
【解決手段】原版のパターンを基板に投影する光学系と、前記基板と前記光学系との間の少なくとも一部の領域に液体を供給する給液手段とを有し、前記領域を前記液体で満たした状態で前記パターンを前記基板に露光する露光装置であって、前記液体の流動経路に極性を付与する付与手段を具備する。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィ工程に適用されうるフォトレジスト用のトップコーティング組成物、及び液浸リソグラフィ工程によるフォトレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】カルボキシル基またはスルホン酸基を含有するポリマー、塩基及び純水を含む溶媒からなるトップコーティング組成物である。本発明によるトップコーティング組成物で構成されたトップコーティング膜は、ＴＡＧを利用するか、または水に浸漬させる方法により水に溶けない不溶性膜に形成されうる。このように得られた不溶性のトップコーティング膜をバリヤーとして使用して液浸リソグラフィ工程を行うことによって、液浸媒体を通じた露光中にフォトレジスト成分が液浸媒体に溶解されることを防止できる。 （もっと読む）

【課題】 露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の硬化膜形成方法は、シロキサン樹脂を含有する放射線硬化性組成物を基板上に塗布し乾燥して塗膜を得る工程と、その塗膜を露光する工程と、を有し、かつ露光する工程の後に塗膜を加熱しないものである。 （もっと読む）