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Fターム[2H097GA00]の内容

フォトレジスト感材への露光・位置合せ (19,491) | 密着露光 (806)

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【課題】
本発明の目的は、感光膜の硬化を十分に得られる光源ユニット及びこの光源ユニットを具備した製版露光装置を提供することにある。
【解決手段】
第1の発明に係る製版露光装置は、複数の固体発光素子を備える光源ユニットと、該光源ユニットからの紫外線を照射される被照射物が載置される載置台と、を有する製版用露光装置において、該光源ユニット又は該載置台には、該光源ユニットと該載置台とを相対的に移動させる駆動手段が設けられ、該複数の固体発光素子は、紫外線を出射する第1の固体発光素子と、該第1の固体発光素子が出射する紫外線より短い波長の紫外線を出射する第2の固体発光素子との少なくとも2つの紫外線を出射する固体発光素子からなり、該光源ユニットが該載置台に対して相対的に移動される方向のならびで、第1の固体発光素子の後に第2の固体発光素子が配置されることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】
本発明の目的は、複数の固体発光素子からの光を、被照射物の照射面において、平行光にすると共に、照度分布の均一性が高い光源ユニット及び露光装置を提供することにある。
【解決手段】
第1の発明に係る光源ユニットは、短手方向と長手方向とを構成するように複数の固体発光素子が長尺状に配置され、該固体発光素子には、その出射光を平行光とする透光性レンズが設けられ、該透光性レンズからの出射光が入射されるインテグレータレンズが設けられ、該インテグレータレンズからの出射光が入射されるコンデンサレンズが、該複数の固体発光素子が構成する短手方向の出射光を混合するように設けられたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】耐刷性に優れると共に、膜厚が小さく、平坦性が高い個別電極を形成することが可能なスクリーン版及び膜厚が小さい個別電極を形成することが可能な電極形成方法を提供する。
【解決手段】複数の個別電極を形成するために用いられるスクリーン版10は、100μm以上200μm以下の周期でマトリックス状に配置されている吐出領域11と、非吐出領域12を有し、非吐出領域12は、個別電極の形状に相当する領域を除く領域12aと、個別電極の形状に相当する領域13内に配置されていると共に、個別電極の形状に相当する領域13を除く領域に接続されている遮蔽領域12bからなり、個別電極の形状に相当する領域13の面積に対する遮蔽領域12bの面積の比が0.10以上0.25以下である。 (もっと読む)


本発明は、支持体を用意する工程、前記支持体の一方の側にカラーマスクを被覆する工程、可視光によってフォトパターン化可能材料層を被覆する工程、そして前記層を、該カラーマスクを通して可視光に暴露して、フォトパターンを形成する工程を含んで成る、構造を形成する方法。
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【課題】パターンの剥離なく光硬化型パターンを作製可能なネガ露光用フォトマスク、及びこれを用い作製した光硬化型パターンを提供する。
【解決手段】目的とするパターン24とダミーパターン25とを含むネガ露光用フォトマスク21であって、目的とするパターン24が開口部22と遮光部23からなり、該目的とするパターン24の少なくとも1つの辺に接するようにダミーパターン25を配置したネガ露光用フォトマスク21である。 (もっと読む)


【課題】個々のレンズの頂点部より高さの高い突起部を有するマイクロレンズの製造方法を提供する。
【解決手段】基板の上にポジ型レジストを塗布し、一方、図に示すようなグレースケールマスク1を製造した。図は平面図であり、その中にレンズ対応部分2と突起部対応部分3とが形成されている。レンズ対応部分2の光透過率は15〜47%、突起部対応部分3の光透過率は0%、レンズとレンズの間の平坦部分に対応する部分の光透過率は47%(レンズ部分の最大透過率と一致)である。即ち、レンズ頂点部は透過率が15%で露光され、突起部は未露光となる。このグレースケールマスクを使用して前述のレジストを露光して現像したところ、レジストに形成されたレンズ頂点高さはレジストに形成された突起部高さより約5μm低くなった。これでも、レンズ保護の面からは十分実用になるGAPである。 (もっと読む)


【課題】 フォトマスクM及びプラテン5の粘着性塵埃の除去を効率的に行うことにより、歩留まりの高い露光を実現する。
【解決手段】
第1クリーニングヘッド1は搬入ハンド3の露光部20側に装着され、搬入ハンド3の搬入動作の際に、所定位置でスクレーパ11が延出してプラテン5の上面に接触し、搬入ハンド3の移動に伴ってプラテン5上を移動しつつ塵埃を除去する。第2クリーニングヘッド2は搬出ハンド4の露光部20側に装着され、搬出ハンド4の露光部20への移動及び/又は搬出動作の際に、フォトマスクMの除塵を行う。 (もっと読む)


【課題】複雑な工程や高価な装置を必要とせず、塗布法や印刷法により精緻で高精細な微細構造体を製造する方法を提供する。
【解決手段】少なくとも基材と撥液層を有する基板にパターンが形成されたマスクを密着して設置する工程と、露光する光を吸収しない気体が存在する雰囲気中で基板にマスクを介して光を照射し撥液層に機能性液体に対する接触角の大きさが異なるプレパターンを形成する工程と、該プレパタ−ンに該機能性液体を供給して機能性液体に対する接触角が小さい部分に微細構造体を形成する工程を有する微細構造体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】レジストパターンの立体形状を十分に制御することが可能なレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】レジスト膜を選択的に露光して現像することにより、フレアポイントに対応する位置P3に突起部63Tを有する前準備レジストパターン63を形成したのち、その前準備レジストパターン63を加熱することにより、主磁極層を形成するためのレジストパターンを形成する。加熱工程において、前準備レジストパターン63に突起部63Tが形成されていることにより熱収縮の影響が緩和されるため、位置P3において前準備レジストパターン63が丸みを帯びにくくなる。しかも、加熱工程では、前準備レジストパターン63が熱流動および熱収縮することにより、開口部63Kにおける内壁が傾斜すると共に突起部63Tが後退する。これにより、フォトレジストパターンの立体形状が所望の立体形状に近くなる。 (もっと読む)


【課題】 被露光材の自重による撓みを抑制することで、マスクと被露光材のアライメントを高精度に行うことができる露光装置を提供する
【解決手段】露光位置Pに、搬送方向を水平方向としたシート状の被露光材2を送り込み、被露光材の上方及び下方に配置した表マスク8及び裏マスク9を密着させてアライメントを行った後、前記被露光材との両面に前記表及び裏マスクのパターンを露光転写する両面露光装置において、アライメントを行う前に、露光位置より搬送方向の下流側位置の前記被露光材を固定用クランプ5bで固定しておくとともに、バックテンションロール6を使用して、露光位置より搬送方向の上流側位置の被露光材に、伸びが発生しない程度の微小の張力を上流側に向けて加える。このように被露光材に微小の張力を加えた状態で、アライメントを行うために表マスク及び裏マスクを被露光材に密着させていく。 (もっと読む)


【課題】 目的とする形状のレンズを得ることが可能なマスク基板を提供する。
【解決手段】 マスク基板5には、4つのグレースケールマスク6、7、8、9が形成されている。これらのグレースケールマスクは、同一のマスターマスク基板に形成されたパターンを、レジスト上に露光時間を変えて露光転写し、形成されたものである。よって、各グレースケールマスク6、7、8、9間では、ドットパターンの配列は同じであるが、露光時間の違いに応じて、ドットパターンの大きさが異なっている。各グレースケールマスク6、7、8、9の各々を使用して、サンプルとしてのマイクロレンズを製造し、その中で出来上がったマイクロレンズの形状が目標値に一番近いものを製造するのに使用したグレースケールマスクを、その後のマイクロレンズの製造に使用する。 (もっと読む)


【課題】平行光露光機を用いた推奨露光量程度の平行光露光で、レジスト現像残渣が残ることがない適正現像条件のもとに、所要の裾引き傾斜部を永久レジスト層の側壁部に形成すること。
【解決手段】ネガティブタイプの感光性レジストによる未硬化の永久レジスト層13上にマスクフィルム14を配置し、更にマスクフィルム14上に、光透過性の光拡散シート15を配置し、光拡散シート15を通して平行光露光を行い、露光部分の感光性レジストを硬化させる。 (もっと読む)


【課題】 マスク露光面の照度分布や照度アップを低コストで実現する。
【解決手段】 ワークの被露光部位にマスク8のパターンを露光転写すべく前記マスク8に向かって露光光を照射するためのランプ22を備えた露光装置用光源装置20であって、前記ランプ22からの光を平行化して前記マスク8に照射すべく、前記平行方向に沿う所定長さの内面を有する多数の格子穴24を設けた平行化フィルター25をランプハウス21の開口部21aに嵌め込む。 (もっと読む)


【課題】 2つの基体を容易かつ迅速に位置合わせさせることが可能な位置合わせ装置および位置合わせ方法を提供する。
【解決手段】 駆動パネル20を封止パネル10に対向させた状態において、XステージおよびYステージを使用して、駆動パネル20に設けられている特定のアライメントマークM20Aの位置が封止パネル10に設けられている特定のアライメントマークM10Aの位置と一致するように、X軸方向およびY軸方向に駆動パネル20を移動させたのち、θステージを使用して、駆動パネル20に設けられている他のアライメントマークM20Bの位置が封止パネル10に設けられている他のアライメントマークM10Bの位置と一致するように、回転軸Jを中心として駆動パネル20を回転させる。駆動パネル20を一度だけ移動させると共に一度だけ回転させることにより、その駆動パネル20が封止パネル10に対して高精度に位置合わせされる。 (もっと読む)


【課題】 反射面の凸凹形状を反射のし易い形状とすること。
【解決手段】 基板上に感光性を有する絶縁性樹脂を形成する工程と、前記樹脂表面に凸凹を形成するためのパターンが形成されたフォトマスクを用いて前記絶縁性樹脂を露光する工程と、露光された前記樹脂を現像する工程と、前記凸凹が形成された樹脂上に反射用の表示電極を形成する工程を備える表示用基板の製造方法において、露光工程は、前記フォトマスクの樹脂残存用パターンの周囲に樹脂の周囲に傾斜面を形成するための樹脂残存用補助パターン53を形成したフォトマスク5を用いることを特徴とする。 (もっと読む)


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