説明

Fターム[2H097KA00]の内容

フォトレジスト感材への露光・位置合せ (19,491) | 位置合せ (1,774)

Fターム[2H097KA00]の下位に属するFターム

Fターム[2H097KA00]に分類される特許

1 - 3 / 3


【課題】他装置を使用することなく、迅速かつ低コストで光の照射位置を補正することができるパターン描画装置およびパターン描画装置における光の照射位置の補正方法を提供する。
【解決手段】レジスト膜が形成されていない試験用基板91をステージ10上に載置し、光学ヘッド32a,32d,32gからパルス光PLを照射するとともに、その投影像SPIを照射位置計測カメラ51,52,53により撮影する。また、撮影により取得された画像に基づいて、試験用基板91上の枠パターンに対する投影像SPIの相対位置のずれを計測し、そのずれを補正する。これにより、他装置を使用することなく、パターン描画装置単独で、基板に対するパルス光PLの照射位置を迅速に補正することができる。また、1枚の試験用基板91を繰り返し使用することができるため、調整作業に掛かるコストを低減させることができる。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、同一の露光マスクにおけるアライメントマーク間の最小許容間隔を保ちつつ、対象体のアライメントマークに必要な領域を縮小することのできる露光マスクの位置合わせ方法、これを用いた薄膜素子基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明は、アライメントマークが形成された複数のホログラムマスクを用いて、アライメントマークが形成された露光対象となる対象体にパターン露光を行うに際し、両アライメントマークを用いてホログラムマスクと対象体との位置合わせを複数回行う露光マスクの位置合わせ方法で、連続する三回以上の位置合わせのうち、対象体上の3回目の位置合わせ用アライメントマークを、2回目と1回目の位置合わせ用アライメントマーク間に設けるか又は1回目の位置合わせ用アライメントマークに対して2回目の位置合わせ用アライメントマークのある側とは反対側に設けて位置合わせを行う方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】 本発明の目的は、同一露光マスクのアライメントマーク間の最小許容間隔を保ち、対象体のアライメントマークに必要な領域を縮小でき、対象体の同マークの再利用が可能な露光マスクの位置合わせ方法及び薄膜素子基板の製造方法の提供。
【解決手段】 本発明は、アライメントマークが形成された複数のホログラムマスクを用いて、アライメントマークが形成された露光対象となる対象体にパターン露光を行うに際し、両アライメントマークを用いてホログラムマスクと対象体との位置合わせを複数回行う露光マスクの位置合わせ方法で、対象体上のパターン露光のための一領域と、該一領域の露光に用いるマスクとの位置合わせ用マークとを結ぶ直線が、対象体上の一領域に隣接するパターン露光のための他領域と、該他領域の露光に用いるマスクとの位置合わせ用マークとを結ぶ直線に対して交差するように各アライメントマークを設けて位置合わせを行う方法を提供する。 (もっと読む)


1 - 3 / 3