【課題】溶射皮膜が形成されたボイラ管に付着している付着灰を、溶射皮膜を痛めることなく効率的に除去することができる付着灰除去方法を提供する。
【解決手段】溶射材を吹き付けて溶射皮膜１２が形成されたボイラ管１０であって、ボイラ管１０の表面に付着した付着灰１４を除去する付着灰除去方法において、付着灰１４が付着したボイラ管１０に０．１Ｐ以上１００Ｐ以下の粘度を有するゲル状組成物１６を塗布する工程と、ゲル状組成物１６を塗布する工程の後に、塗布したゲル状組成物１６を付着灰１４に浸透させた後、ボイラ管１０に形成された溶射皮膜１２から付着灰１４を除去する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板の表面がその一部または全体にわたって静電気を帯びていたとしても、基板の表面に付着した種々のごみや埃などを容易に洗浄することができる基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】本発明の基板洗浄装置は、基板を移動自在に支持するフレームと該フレームに対して回転自在に取り付けられたロールブラシとが備えられ、前記基板の表面が前記ロールブラシで擦られて洗浄される基板洗浄装置であって、前記ロールブラシが導電性ブラシからなる。 （もっと読む）